「Patterned」を含む例文一覧(3853)

<前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 77 78 次へ>
  • Further, the dummy electrodes 19a to 19c on the side of the circuit board 13 are so patterned that they are electrically independent of each other.
    また、回路基板13側のダミー電極19a〜19cはそれぞれが電気的に独立したパターンとする。 - 特許庁
  • The transparent conductive layer 15 includes an inorganic oxide, is patterned, and has a refractive index of 1.9 to 2.2.
    透明導電体層15は、無機酸化物で形成され、パターン化されるとともに、1.9〜2.2の屈折率を有する。 - 特許庁
  • An electron beam exposure system projects an electron beam EB on a wafer 31 and forms an image, which beam is patterned by passing it through a mask 15.
    電子ビーム露光装置は、マスク15を通過してパターン化された電子ビームEBをウエハ31に投影結像させる。 - 特許庁
  • To provide a magnetic recorder capable of executing an efficient recording scheme by applying a thermal assist magnetic recording operation on a patterned medium.
    パターンド媒体に熱アシスト磁気記録を適用し、効率的な記録スキームを実施できる磁気記録装置を提供する。 - 特許庁
  • To manufacture a high-density and highly reliable magnetic recording medium (patterned media) of a perpendicular recording system with a high yield.
    高密度で信頼性の高い垂直記録方式の磁気記録媒体(パターンドメディア)を歩留りよく製造すること。 - 特許庁
  • To obtain a multicolor patterned adhesive sheet having uniform multicolor patterns and especially useful as an interior and an exterior finish materials for buildings.
    均一な多彩模様を有する、特に建物の内外装材として有用な多彩模様粘着シートを提供する。 - 特許庁
  • To reduce an error in time calculation for determining the timing of recording with respect to a patterned disk, thereby improving the reliability of recording.
    パターンドディスクに対する記録のタイミングを決めるための時間計算の誤差を低減し、記録の信頼性を高める。 - 特許庁
  • The patterned part 3 has a separating film 4 made of ZnO or the like provided on the side wall face 3a and the bottom face 3b.
    前記パターン部3の側壁面3a及び底面3bにはZnO等の剥離膜4が設けられている。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device which will not generate stripe patterned alignment defects in peripheral parts of spacers.
    スペーサ周辺部の筋状の配向不良が発生しない液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The bump conductive layer with at least one bump 314a patterned is formed on the first conductive layer 312.
    少なくとも一つのバンプ314aをパターン形成するバンプ導電層を第1導電層312の上に形成する。 - 特許庁
  • For the purpose of forming m groups of the pattern, the photosensitive material layer is regularly or randomly patterned.
    感光性材料層は、m個のグループのパターンを形成するために、規則正しく、あるいはランダムにパターン化されている。 - 特許庁
  • To provide a current-perpendicular-to-plane (CPP) magnetoresistive read head having a plurality of sensor elements for patterned mediums.
    パターンド媒体用の複数の検出素子を有する面垂直電流(CPP)型磁気抵抗読取ヘッドを提供する。 - 特許庁
  • Additionally, the patterned paper contains sizing agent so as to improve fixation of the inorganic particles.
    更には、当該模様加工紙にはサイズ剤が含有されていることによって上記無機粒子の固着性が向上される。 - 特許庁
  • To provide a method of easily manufacturing a patterned metal film 3 using a gel-state composition 2A for plating.
    ゲル状態のめっき用組成物2Aを用いたパターニングされた金属膜3の容易な作製方法を提供する。 - 特許庁
  • The protective layer 3 and the organic semiconductor layer 2 are then patterned using the mask layer 5 as a mask thus obtaining an organic semiconductor pattern 7.
    マスク層5をマスクとして、保護層3と有機半導体層2をパターニングして、有機半導体パターン7を得る。 - 特許庁
  • The touch panel sensor 30 comprises a substrate film 32 and a transparent conductor 40 patterned on the substrate film 32.
    タッチパネルセンサ30は、基材フィルム32と、基材フィルム32上にパターニングされた透明導電体40と、を備えている。 - 特許庁
  • Polysilicon is deposited by a CVD method in order to form a PS part and then patterned to form a PS formation part 22a.
    PS部を形成するためにポリシリコンをCVD法により成膜後、パターニングしてPS形成部22aを作製する。 - 特許庁
  • According to the present invention, a substrate is patterned with a carbide-forming material, a carbon-dissolving material or a low melting point metal.
    本発明に従って、基板はカーバイド形成材料、カーボン分解材料又は低融点金属でパターン形成される。 - 特許庁
  • Accordingly, a polarized beam of light made incident on the patterned half wave plate is substantially depolarized at the image plane.
    したがって、パターン化半波長板に入射される偏光された光ビームは、像面で実質的に無偏光化される。 - 特許庁
  • METHOD FOR DEPOSITING INDIUM ZINC OXIDE FILM AND INDIUM TIN OXIDE FILM PATTERNED BY MICRO-CONTACT PRINTING
    マイクロコンタクト・プリンティングによるパターン化されたインジウム亜鉛酸化物フィルムおよびインジウムすず酸化物フィルムの形成方法 - 特許庁
  • Rough alignment using the alignment mark M1 is conducted, a first conductive layer 3 is patterned, and the alignment mark M2 is constituted.
    アライメントマークM_1を用いたラフアライメントを行い、第1の導電層3をパターンニングしてアライメントマークM_2を構成する。 - 特許庁
  • After pressing, the external layer material 20 is patterned by using the exposed target pattern 12 as the standard for matching.
    そしてプレス後に,露出しているターゲットパターン12を整合の基準に用いて外層材20のパターン加工を行う。 - 特許庁
  • In the process 1, a polymer film which contains the optical anisotropic layer on the transparent support is subjected to patterned exposure by using a photo mask.
    [1]透明支持体上の光学異方性層を含む高分子フィルムに、フォトマスクを用いてパターン露光する工程。 - 特許庁
  • A reproducing transducer for a patterned medium system comprises a temperature-sensitive resistor such as a thermistor and a resistance temperature sensor.
    パターン化された媒体システム用の再生トランスデューサは、サーミスタや測温抵抗体などの感温性の抵抗器を含む。 - 特許庁
  • By development the resist film 11 which is left, provides the substrate 10 which is patterned according to the designed pattern is obtained.
    その後、残された前記レジスト膜11を現像することにより、設計パターン様にパターニングされた基板10を得る。 - 特許庁
  • After a reflection layer 227 is formed, the silicon single crystal layer 260 is patterned, by which micromirrors 220 are formed.
    そして、反射層227形成後、シリコン単結晶層260をパターニングすることにより、微小ミラー220を形成する。 - 特許庁
  • To make the surface pattern of cosmetic not disappear to the last even in use while securing strength of patterned cosmetic.
    模様付化粧料の強度を確保しつつ、使用しても化粧料の表面模様が最後まで消えないようにする。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive adhesive composition getting sufficient airtightness even in a patterned state.
    パターニングされた場合であっても十分な気密封止性を得ることができる感光性接着剤組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a thermally assisted recording (TAR) patterned media disk drive that performs write synchronization and optical detection of a servo field.
    書き込み同期およびサーボフィールドの光検出を行う熱アシスト記録(TAR)パターンドメディアディスクドライブを提供する。 - 特許庁
  • MASK PATTERN FOR SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION, METHOD OF FORMING SAME, AND METHOD OF FABRICATING FINELY PATTERNED SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体素子の製造用のマスクパターンとその形成方法、及び微細パターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁
  • The imprint lithography method includes a step of bringing a patterned surface into contact with an imprintable liquid medium for a filling period.
    充填期間にわたってパターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップを含む。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method, capable of forming a patterned resin layer on a plastic base material with good accuracy.
    プラスチック基材上に、パターニングされた樹脂層を精度良く形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Further, a woodgrain patterned molded product is prepared by coating the surface of this composition with a transparent weather-resistant resin when molding this composition.
    さらに、この組成物を成形する際に、その表面に透明耐候性樹脂を被覆して木目模様成形品とする。 - 特許庁
  • The thin-film pattern and a part of the transparent electrode layer other than where the thin-film pattern is formed are removed and patterned.
    薄膜パターンと薄膜パターンが形成されている部分以外の透明電極層が除去されてパターニングがなされる。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a solid-state imaging element capable of obtaining a charge transfer electrode which is patterned precisely.
    高精度にパターニングされた電荷転送電極を得ることが可能な固体撮像素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • On one surface of a ceramic substrate 11, a patterned metal circuit board 12 is bonded by the brazing filler metal 13.
    セラミックス基板11の一方の面にパターニングされた金属回路板12がろう材13によって接合されている。 - 特許庁
  • To provide a resin thin film capable of being patterned while enclosing a liquid in the thin film and also to provide the production method.
    液体を薄膜中に封じ込めてパターニングできる樹脂薄膜およびその製造方法を提供するものである。 - 特許庁
  • When the mask 50 is removed at the stage where the material liquid 70 is solidified, surface of the work 40 is patterned.
    原料液70が固化した段階でマスク50を取り外すことにより、ワーク40の表面にパターンが形成される。 - 特許庁
  • An Al film 151 is formed on a wafer 150 for cap and then patterned to form an annular film 144.
    キャップ用ウェハ150の上にAl膜151を形成し、Al膜151をパターニングして環状膜144を形成する。 - 特許庁
  • Then, a resist 105 which is patterned so as to open a region that is to serve as the well is formed through a lithography technique.
    次に、リソグラフィ技術により、ウェルとする領域が開口するようにパターニングされたレジスト105を形成する。 - 特許庁
  • A complex-patterned structure is made in a surface layer which is heavily doped on a less heavily doped substrate.
    複雑にパターン化された構造が割合にドープされない基板上の濃密にドープされた表面層内に作られる。 - 特許庁
  • To provide a new patterned warp knitted fabric by carrying out patterning by knitting on a warp knitted fabric having bulkiness.
    嵩高性を保有させた経編地に編成による柄出しを行って、斬新な柄出しの経編地を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a plated film with a patterned metal film using reducing polymer particles deposited thereon.
    還元性ポリマー微粒子を用いるパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a plated film with a patterned metal film using reducing polymer particles deposited thereon.
    還元性ポリマー微粒子を用いるパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Then, resist is formed by ordinary photolithography, and the ITO film is wet-etched and the ITO film is patterned.
    この後、通常のフォトリソグラフィによりレジストを形成し、ITO膜をウェットエッチングし、ITO膜のパターニングを行う。 - 特許庁
  • A polycrystal silicon film 52A patterned slenderly in one direction, and a gate insulating film 53 are formed on a glass substrate 50.
    ガラス基板50上に、一方向に細長くパターニングされた多結晶シリコン膜52A、ゲート絶縁膜53を形成する。 - 特許庁
  • This blanket insulating layer is patterned by one time etching step, and a spacer wall is formed on the side face of the gate layer.
    このブランケット絶縁層を1回のエッチングステップでパターン化して、前記導電ゲート層の側面にスペーサ壁を形成する。 - 特許庁
  • A resist film 14 is formed on the Al film 13, and patterned by a photo lithography method, and an opening 14a is formed.
    Al膜13上にレジスト膜14を形成して、フォトリソグラフィー法によりパターニングして開口部14aを形成する。 - 特許庁
  • To prevent disconnection of a wiring patterned on a flexible sheet, in a flexible wiring board.
    本発明は、フレキシブル配線基板において、フレキシブルシート上にパタニングされている配線の断線を防ぐことを目的とする。 - 特許庁
  • Thus an accuracy can be increased when a TEOS film 1 as an underlying layer is patterned with use of the sidewalls 5 as a mask.
    したがって、側壁部5をマスクとして下地のTEOS膜1をパターニングしたときの精度向上が図れる。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 77 78 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.