「Patterned」を含む例文一覧(3853)

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  • To provide a semiconductor-on-insulator (SOI) substrate which has a patterned buried insulator layer included in differing depths.
    パターン形成された埋込み絶縁体層を異なる深さに含む、改善されたセミコンダクタ・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板を提供する。 - 特許庁
  • The silicon oxide layer is patterned during the same step as patterning the conductive layer to expose the silicon nitride layer.
    前記酸化シリコン層は、前記導電層をパターン化するのと同じステップ中にパターン化して、前記チッ化シリコン層を露光する。 - 特許庁
  • Therefore, preferably, the nanocarbon material composite substrate in which the nanocarbon material is patterned and arranged on the substrate is manufactured.
    よって、好適に、ナノ炭素材料が基板上にパターン配列されて形成されたナノ炭素材料複合基板を製造出来る。 - 特許庁
  • The upper layer re-wiring 16 wherein a metal plate is patterned is arranged on a prescribed position of the upper surface of the insulating film 15.
    絶縁膜１５の上面の所定の箇所には、金属板をパターニングしてなる上層再配線１６が設けられている。 - 特許庁
  • The X-ray absorption film 23 is patterned to form an opening 25 for object light on the back surface side of the measuring part 13.
    また、Ｘ線吸収膜２３をパターニングして、測定部位１３の裏面側に物体光用開口部２５を形成する。 - 特許庁
  • To provide a liquid crystal composition for a pattern retardation film that enables production of a patterned retardation film with a small unevenness on a surface.
    表面の凹凸が小さいパターン位相差フィルムを製造できるパターン位相差フィルム用液晶組成物を提供する。 - 特許庁
  • Crystallinity of the sub-island is improved by irradiation of a laser beam and the sub-island is patterned so as to form the island.
    次に、レーザー光の照射により該サブアイランドの結晶性を高め、その後サブアイランドをパターニングすることでアイランドを形成する。 - 特許庁
  • A gate oxide film and a gate electrode material are sequentially formed over a semiconductor layer of an SOI substrate and gate electrodes are patterned.
    ＳＯＩ基板の半導体層の上にゲート酸化膜、ゲート電極材料を順次形成し、ゲート電極のパターニングを行う。 - 特許庁
  • Then processing the switching active element protection film by dry etching using patterned etching resist 10 forms a contact part 6.
    その後、パターニングされたエッチングレジスト１０を用いてスイッチング能動素子保護膜７をドライエッチングしコンタクト部位６を形成する。 - 特許庁
  • The multiplayer structure of the organic luminescent layer, hole transfer layer, hole injection layer, electron transfer layer and electron injection layer is patterned.
    有機ルミネセンス層、ホール伝達層、ホール注入層、電子伝達層および電子注入層の多層構造がパターン化される。 - 特許庁
  • To provide a formation method of self-aligned double pattern capable of improving a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) procedure and a subsystem.
    本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)手順及びサブシステムを用いた基板処理方法の改善を目的とする。 - 特許庁
  • The lithographic apparatus includes a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate.
    リソグラフィ装置は、基板の目標部分にパターン化された放射線ビームを投影するように構成された投影系を含む。 - 特許庁
  • Secondly, the formed resin film 11 is patterned by photolithography to form prismatic assemblies such as rectangular prisms arranged discretely.
    次に、フォトリソグラフィにより樹脂膜１１をパタニングして離散的に配された四角柱等の角柱形状の集合を設ける。 - 特許庁
  • To provide a glass substrate for display which has the high adhesion of patterned electrode films and is free of the problem of the peeling of the electrode films.
    パターニングされた電極膜の付着力が強く、電極膜の剥離の問題のないディスプレイ用ガラス基板を提供する。 - 特許庁
  • A resist film 11, formed on a piezoelectric substrate 2, is patterned, and afterwards, this piezoelectric substrate 2 is put into a vacuum tub.
    圧電体基板２の上に成膜されたレジスト膜１１をパターン化した後、この圧電体基板２を真空槽内に入れる。 - 特許庁
  • The photoresist layer is patterned such that the plurality of metal contacts are exposed and then touched to a conductive solution.
    複数の金属接点が露出され、その後それらが導電性溶液と接触させられるように、フォトレジスト層がパターン化される。 - 特許庁
  • Furthermore, by specifying a distance between a pixel area and the wire, the common electrode is patterned, even with low-cost mask sputtering.
    さらに、画素エリアと配線の距離を規定する事で、コストの安いマスク・スパッタ法でもコモン電極のパターニングを行えるようにする。 - 特許庁
  • The patterned photoresist layer has first recesses and a first through hole that exposes a portion of the dielectric layer.
    パターンニングしたフォトレジスト層は第一凹部と第一貫通孔を備え、前記第一貫通孔は誘電体層の一部を露出させる。 - 特許庁
  • CONDUCTIVE POLYMER PATTERNED FILM AND METHOD OF PATTERNING THE SAME, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING THE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THE ELEMENT
    伝導性高分子パターン膜及びそのパターニング方法、並びにそれを利用する有機電界発光素子及びその製造方法 - 特許庁
  • To provide a patterned color film-covered article having excellent durability and having visible light transmittances which are different in dependence on places.
    場所によって異なる可視光線透過率を有する、耐久性に優れたパターン着色膜被覆物品を提供する。 - 特許庁
  • This crystalline semiconductor film 107 is patterned to obtain an island-shaped semiconductor layer 108 acting as an active layer of a TFT(thin film transistor).
    この結晶質半導体膜１０７をパターニングして、ＴＦＴの活性層となる島状半導体層１０８を得る。 - 特許庁
  • To use a system and a method for equalizing levels of intensity and energy of different diffraction order components of patterned beam.
    パターニングされたビームの種々の回折次数部分の強度およびエネルギーを均等化するためのシステムおよび方法を用いる。 - 特許庁
  • To actualize high yield in making a high recording density HDD using a patterned medium by patterns of grooves or dots.
    溝やドット状のパターンによるパターン媒体を用いる高記録密度のＨＤＤの製造において高歩留りを実現する。 - 特許庁
  • The transparent electrodes 15 may be formed by forming patterned electrode lines in meshes at irregular positions to uneven lengths.
    また、透明電極１５はパターン化された複数の電極線を不均一な長さで不規則な位置に網目状に形成してもよい。 - 特許庁
  • On the polyparaxylylene layer 7b of the gate insulating film 7, a source electrode 9s and a drain electrode 9d are patterned and formed.
    ゲート絶縁膜７のポリパラキシリレン層７ｂ上にはソース電極９ｓおよびドレイン電極９ｄがパターン形成されている。 - 特許庁
  • Thereafter the mask layer 13 is subjected to patterning (etching) by using the patterned photoresist 14 as the mask and then the photoresist layer 14 is removed.
    その後パターニングされたフォトレジスト（１４）をマスクとしてマスク層１３をパターニング（エッチング）し、その後フォトレジスト層１４を除去する。 - 特許庁
  • The second gate electrode 28 is formed by etching the gate electrode material 29 using the patterned mask film 30 as a mask.
    そして、パターニングされたマスク膜３０をマスクとしてゲート電極材料２９をエッチングし、第２ゲート電極２８を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for removing a dry etching residue containing platinum chloride from a wafer on which a metal oxide is patterned.
    塩化白金含有ドライエッチング残留物を金属酸化物をパターニングしたウェハから取り除く方法を提供すること。 - 特許庁
  • The inductor is formed in a first metallization layer and includes a lower layer of aluminum patterned in a desired form and etched.
    そのインダクタは、第１のメタライゼーション層に形成され、所望の形状にパターン化されてエッチングされたアルミニウムの下層を含む。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing an electrode substrate having electrodes patterned and formed on both surfaces in good yield through simple stages.
    両面に電極がパターン形成された電極基板を、簡便な工程で歩留まりよく製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • During a first exposure time, a first substrate set is patterned by a first reticle, and the reticle is exchanged for a second reticle.
    第１露光期間中、第１のレチクルにより第１の基板セットをパターニングし第１のレチクルを第２のレチクルと交換する。 - 特許庁
  • The high voltage insulation film is patterned to expose a part of the peripheral circuit area and the second area of the cell array area.
    高電圧ゲート絶縁膜をパターニングして周辺回路領域の一部分及びセルアレイ領域の第２領域を露出させる。 - 特許庁
  • An insulation layer patterned to expose the end parts of the heating elements and address electrodes is attached onto the lower substrate.
    下部基板の上には、加熱素子及びアドレス電極の末端部を露出させるようにパターニングされた絶縁層が付着される。 - 特許庁
  • The photoresist having a vamp opening is patterned on the protecting film pattern and a metal is grown in the vamp opening to form the vamp.
    保護膜パターン上にバンプ開口部を有するフォトレジストをパターンし、バンプ開口部に金属を成長させてバンプを形成する。 - 特許庁
  • A trench TR2 is formed under the determined etching condition using the patterned nitride film 22 as an etching mask (S4).
    そして決定されたエッチング条件を用いて、パターニングされた窒化膜２２をエッチングマスクとしてトレンチＴＲ２を形成する（Ｓ４）。 - 特許庁
  • After a metal layer is vapor-deposited on a semiconductor substrate 100, the metal layer is patterned to form the metal wiring 101A.
    半導体基板１００上に金属層を蒸着後、その金属層をパターニングして金属配線１０１Ａを形成する。 - 特許庁
  • To provide sufficient mold release and to provide multiple and accurate patterned features from high aspect ratio features on silicone molds.
    十分な離型性を提供し、シリコーン型において高いアスペクト比の形状（feature）から、複数の正確なパターン形状を提供。 - 特許庁
  • To obtain a multicolor patterned adhesive sheet having multicolor patterns with high decorativeness and especially useful as an interior and an exterior finishing materials for buildings.
    装飾性の高い多彩模様を有する、特に建物の内外装材として有用な多彩模様粘着シートを提供する。 - 特許庁
  • A photoresist film 5 is formed through lithography, and the SiN film 4a is patterned by a RIE to form an insulation film mask 4 (b).
    フォトレジスト膜５をリソグラフィにて形成し、ＲＩＥによりＳｉＮ膜４ａをパターニングして絶縁膜マスク４を形成する（ｂ）。 - 特許庁
  • To precisely form a catalyst layer into an arbitrary pattern without using a resist so that the patterned surface can be electroless-plated.
    無電解めっき方法を可能とするための触媒層を、レジストを用いることなく正確に任意のパターンに形成する。 - 特許庁
  • Subsequently, a titanium nitride film becoming an electrode material 12 is formed on the entire surface and patterned to leave an electrode 13 only in the recess.
    その後、電極材１２となる窒化チタン膜を全面に成膜し、凹部にのみ電極１３を残すようにパターンを形成する。 - 特許庁
  • It is generally believed that the word, "rau" originated in the fact that bamboo (patterned black bamboo) in Laos near Cambodia was used.
    また、羅宇の語源は、カンボジアに近い羅宇国（ラオ国・ラオス）の竹（黒班竹）を使用していたことによるというのが定説である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Suijin in Edo was commonly dressed in a complete outfit of fine-patterned silk kimono in chic dark brown or dark gray with Hondamage hairstyle.
    江戸の粋人の出で立ちと言えば、粋な濃い茶系統か鼠色系統の絹物の小紋の衣装一式に本多髷だった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a patterned medium which has improved reading and writing of the data islands, as well as, increased areal data density.
    データアイランドに対する読み取りと書き込みが向上すると共に、面データ密度が増大したパターン化媒体が必要とされている。 - 特許庁
  • METHOD OF FABRICATING MEMS COMPRISING CARRIER FOR PATTERNED MECHANICAL STRIP AND DEVICE FABRICATED WITH SUCH METHOD
    パターニングされた機械的ストリップのための保持体を備えたＭＥＭＳを作製する方法及びそれによって作製されたデバイス - 特許庁
  • The coating film using the resin composition is subjected to pattern exposure and development in the method for forming the patterned insulative films.
    パターン状絶縁性被膜の形成方法では、当該樹脂組成物による塗膜にパターン露光および現像が行われる。 - 特許庁
  • PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED BASE MATERIAL USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT HAVING THE BASE MATERIAL
    光硬化型樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成された基材の製造方法、並びに該基材を備える電子部品 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a patterned medium by which a problem caused by a center hole of a substrate is solved.
    基板の中心孔に起因する課題を解決する、パターンド媒体の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
  • The hard mask material 2 is patterned in the form of thick film wiring 6, and the aluminum alloy film 3 is etched up to halfway as it is made a mask.
    ハードマスク材２を厚膜配線６の形にパターニングし、これをマスクとしてアルミ合金膜３を途中までエッチングする。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method that can form a track guide separation area of a magnetic disk constituting a patterned medium represented by a discrete track medium or a bit patterned medium suitable for high recording density, uniformly on an entire surface of the magnetic disk and accurately in accordance with a mask.
    高記録密度に適したディスクリートトラックメディアやビットパターンドメディアに代表されるパタードメディアを構成する磁気ディスクのトラックガイド分離域を、磁気ディスク全面において均一に、マスク通り正確に形成することが可能となる製造方法を提供すること。 - 特許庁
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