「Patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 54 55 56 57 58 59 60 61 62 .... 77 78 次へ＞- A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁 - The movable member forming material 30 is irradiated with laser from the side opposite to the groove 10a in the movable member forming material 30 through a mask patterned specifically to form a movable member 31 in the movable member forming material 30.
可動部材形成材３０の、溝１０ａ側と反対側の面から、所定のパターンが形成されたマスクを介して可動部材形成材３０にレーザを照射し、可動部材形成材３０に可動部材３１を形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the wiring board includes a process to form a wiring pattern 30 on a base substrate 10 comprising a metal layer 12 and a mask 14 formed on the metal layer 12 by being patterned by removing a part of the metal layer 12 by spraying an etchant 20.
金属層１２と、パターニングされて金属層１２上に設けられたマスク１４とを有するベース基板１０に、エッチング液２０を噴射して金属層１２の一部を除去し、配線パターン３０を形成することを含む。 - 特許庁 - A semiconductor device includes a resin substrate 2 which includes a substrate core 3, copper patterns 4 and 13 which are patterned in the upper surface of the substrate core 3, and a resist 5 which is laminated in the upper surface of the substrate core 3 in which the copper patterns 4 and 13 are formed.
基板コア３と、基板コア３の上面にパターニングされた銅パターン４、１３と、上面に銅パターン４、１３が形成された基板コア３の上面に積層されるレジスト５とを含む樹脂基板２を備える。 - 特許庁 - An underlying metal film 2 and an overlying metal film 3 different from the underlying metal film 2 are formed sequentially on a substrate, a resist pattern 4 is formed on the overlying metal film 3, and then only the overlying metal film 3 is etched and patterned.
下側金属膜２、及び下側金属膜２とは異なる上側金属膜３を基板上に順に積層し、上側金属膜３上にレジストパターン４を形成し、上側金属膜３のみをエッチングしパターニングする。 - 特許庁 - To provide a lithography system in which throughput can be increased through patterning of all feature sizes during exposure and features can be patterned over an entire surface of a substrate substantially at a same time as required.
各露光中にあらゆるフィーチャサイズのパターニングにわたりスループットを高めることができるようにし、必要に応じて実質的に一度に１つの基板の表面全体にフィーチャをパターニングできるようにしたリソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁 - The silicon nitride films 27 are formed by being deposited on an upper surface of a conductive film to be formed into the upper driving electrodes 23 and the upper capacitance electrode 25 in a continuous process by a CVD method, and, thereafter, by being patterned by a RIE method.
シリコン窒化膜２７は、上部駆動電極２３及び上部容量電極２５となる導電膜の上面に、連続した工程としてＣＶＤ法により堆積され、その後、ＲＩＥ法でパターニングして形成されたものである。 - 特許庁 - In a process of fabricating BiCMOS, a bipolar base layer 10 is formed, a polycrystal silicon layer 15 and an insulating layer 16 are formed by lamination, then the layer is patterned to form an emitter electrode 17 and a gate electrode 18.
ＢｉＣＭＯＳ製造工程において、バイポーラのベース層１０を形成し、多結晶シリコン膜１５と絶縁膜１６を積層して形成した後、その積層をパターニングしてエミッタ電極１７とゲート電極１８を形成する。 - 特許庁 - Carbon deposits are attached on the inner walls of an etching chamber, an organic material layer 2 formed on a base board 1 is etched using an inorganic material layer 4 patterned as prescribed as a mask by the use of oxygen active species.
エッチングチャンバ１０の内部に炭素系堆積物を付着させた状態で、下地基板１上に形成された有機材料層２を、所定の形状にパターニングされた無機材料層４をマスクとして酸素活性種でエッチングする。 - 特許庁 - The problem is solved by the light emitting diode characterized in that it comprises the light transmissive electrode on the light extraction surface of the light emitting diode, and the light transmissive electrode is patterned to cover a part of the light extraction surface.
発光ダイオードの光取り出し面に光透過性電極を備え、該光透過性電極が、前記光取り出し面の一部を覆うようにパターニングされていることを特徴とする発光ダイオードにより上記課題を解決する。 - 特許庁 - In addition, the silicon layer 8 is patterned with dry etching using a reactive gas with the second inorganic film 8 used as a mask, an ion 12 is implanted into the silicon substrate 2 in energy of 5 MeV to 8 MeV using the silicon layer 6 as a mask.
さらに、第２の無機膜８をマスクとする反応性ガスを用いたドライエッチングによりシリコン層６をパターン化し、このシリコン層６をマスクとして、５ＭｅＶないし８ＭｅＶのエネルギーでシリコン基板２にイオン１２を注入する。 - 特許庁 - Using the patterned hard mask layer (255), the layers are etched to form an etched barrier layer (205), an etched first metal layer (215), an etched ferroelectric layer (225), and an etched second metal layers (235, 245).
パターンが形成されたハードマスク層（２５５）により、各層をエッチングしてエッチングされたバリア層（２０５）、エッチングされた第１の金属層（２１５）、エッチングされた強誘電層（２２５）、及びエッチングされた第２の金属層（２３５、２４５）を形成する。 - 特許庁 - To provide a solid-state image pickup element wherein thickness of an insulating film which is necessary when an aperture part is patterned on a light shielding film is ensured and a stray light which passes the inside of the insulating film and permeates in a transfer part can be restrained.
遮光膜に開口部をパターニングするときに必要とされる絶縁膜の膜厚を確保し、かつ絶縁膜内を通過して転送部へ漏れ込む迷光を抑制することができるようにした固体撮像素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a perpendicular magnetic recording patterned medium excellent in heat stability while reducing a write-in magnetic field in a bit area, with less occurrence of a reversed magnetic domain in a position control information area of a head.
ビット領域における書き込み磁界を低減するとともに，ヘッドの位置制御情報領域において逆磁区の発生が少なくかつ熱安定性に優れた垂直磁気記録パターンド媒体を提供することを可能にする。 - 特許庁 - After that, an insulating film 7a and a second laminate 18a are formed on the first laminate 7a so as to be patterned, and the capacitor which is composed of the lower electrode 17a, a capacitance insulating film 7 and an upper electrode 18 is formed.
その後、第１積層１７ａの上に絶縁膜７ａと第２積層１８ａとを形成してパターニングすることにより、下部電極１７，容量絶縁膜７および上部電極１８からなるキャパシタ部を形成する。 - 特許庁 - After a first metal film 302 is formed on a substrate 301 from an insulating material, a resist film 303 is formed on the desired portion of the upper surface of the first metal film 302 and a Ti film being the first metal film 302 is patterned.
絶縁材料を基板３０１として第１の金属膜３０２を成膜した後、第１の金属膜３０２の上面の所望部分にレジスト膜３０３を形成し、第１の金属膜３０２であるＴｉ膜をパターニングする。 - 特許庁 - To detect a defect caused by a secular change of a stamper by classifying defects repetitively caused on a patterned media disk into defects caused by deterioration due to secular change of the stamper and defects caused by a process failure.
パターンドメディアディスク上に繰り返し発生した欠陥をスタンパの経時的変化による劣化により発生した欠陥と、プロセスの不良により発生した欠陥とを識別して、スタンパの経時変化により発生した欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device that can suitably pattern a semiconductor film by forming a mask having sufficient resistance to wet etching carried out when the semiconductor film is patterned.
半導体膜をパターニングする際に行われるウェットエッチングに対して十分な耐性を有するマスクを形成することにより、半導体膜のパターニングを適切に行うことができる半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a thin film transistor in which a gate electrode and a source drain electrode are formed with high alignment precision and the source-drain electrode is patterned with high precision without performing a lift-off step.
ゲート電極とソース・ドレイン電極を高いアライメント精度で形成することができるとともに、リフトオフ工程を行うことなくソース・ドレイン電極を高い精度でパターニングすることができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The folding box 1 includes a foldable box 2, a surface-type display 3 which is provided on any one surface constituting the box 2 with its light-emission area being patterned, and a power supply 4 for supplying power to the display 3.
折り畳みボックス１は、折り畳み可能なボックス部２と、ボックス部２を構成するいずれかの面に設けられ、発光領域がパターニングされた面状の表示部３と、表示部３に電力を供給する電源部４とを備えている。 - 特許庁 - To provide: a substrate structure which can be excellently patterned by suppressing unevenness in resist film thickness nearby a substrate peripheral edge; a method of forming a coating film using the substrate structure; and a method of manufacturing a panel substrate.
基板周縁部付近におけるレジスト膜厚の不均一を抑制して、良好なパターニングを行うことができる基板構造及びその基板構造を用いた塗布膜の成膜方法並びにパネル基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of producing a transparent conductive substrate, by which there can be easily produced a transparent conductive substrate having good conductivity and transparency and including a titanium oxide-based transparent conductive film patterned into a desired shape.
良好な導電性と透明性を有し、所望の形状にパターニングされた酸化チタン系透明導電性膜を備えた透明導電性基板を容易に得ることができる透明導電性基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The patterned leather comprises a leather exhibiting a tensile elongation at break of 35-180% in accordance with JIS K 6550 and having, formed thereon, a pattern by an ultraviolet-cured film having a scratch hardness (by the pencil method) of 3B to H in accordance with JIS K 5600.
ＪＩＳ Ｋ ６５５０による引張り切断伸びが３５〜１８０％である皮革上に、ＪＩＳ Ｋ ５６００による引っ掻き硬度（鉛筆法）が３Ｂ〜Ｈの紫外線硬化膜による模様が形成されている模様形成皮革である。 - 特許庁 - To provide a rugged pattern forming method in a nano inprint processing method useful for forming an electronic device, an optical component, a recording medium and the like, and capable of manufacturing such finely patterned products at low cost and high speed.
電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a printer and a printing method using that printer in which color printing can be carried out on a patterned sheet with a color balance similar to that when color printing is carried out using a white sheet.
柄模様の用紙に対してカラー印刷を行う際に、白色の用紙を用いてカラー印刷を行う場合と同様な色バランスで印刷することができる印刷装置及びその印刷装置を使用した印刷方法を提供すること。 - 特許庁 - Dry etching is performed to the P-type second clad layer 20 by using a first insulating pattern 22B as a mask, and the P-type second clad layer is patterned in a ridge form to which the first insulating pattern 22B is transferred.
続いて、第１の絶縁性パターン２２Ｂをマスクとして、ｐ型第２クラッド層２０に対して、ドライエッチングを行なうことにより、ｐ型第２クラッド層を、第１の絶縁性パターン２２Ｂが転写されたリッジ形状にパターニングする。 - 特許庁 - A metal layer arbitrarily patterned to cover at least 20% of the area of the semiconductor light emitting device is plated on either a metal layer formed on the mount or a metal layer formed on one of the contacts.
半導体発光デバイスの面積の少なくとも２０％をカバーするように任意にパターン形成された金属層は、マウント上に形成される金属層か又はコンタクトのうちの１つに形成される金属層のいずれかにメッキされる。 - 特許庁 - Projecting parts 119 consisting of a photosensitive resin are patterned and formed on a substrate 111 by forming a photosensitive resin layer on the substrate, then exposing and developing the photosensitive resin layer through a photomask formed of a plurality of the prescribed patterns.
基板１１１上に感光性樹脂層を形成した後、所定のパターンが複数形成されたフォトマスクを介してこの感光性樹脂層に露光，現像し、基板上に感光性樹脂からなる凸部１１９をパターン形成する。 - 特許庁 - To provide a fishing rod with patterned Japanese papers beautifully wound on the surface, excellent in design and quality, and protected by a thick coating layer, and lithely bending, enhanced fittingness and a method for producing the same.
模様付和紙が竿表面に綺麗に巻き付けられ意匠的にも品質的にも優れ、厚いコーティング層で保護され、竿の撓み等にもしなやかに馴染み耐久性を高めた釣竿の製造方法と釣竿を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an organic transistor can directly form a patterned organic semiconductor layer by a simple process and can manufacture the organic transistor with excellent transistor characteristics.
簡易な工程によりパターン状の有機半導体層を直接的に形成することが可能であり、トランジスタ特性に優れた有機トランジスタを製造することが可能な有機トランジスタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.
本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In the SAF free layer structure, a bias in a length direction is applied by a combination of an exchange bias layer formed on the sensor stack and a hard bias layer formed adjacently to a patterned side face of the stack.
本発明のＳＡＦフリー層構造では、センサスタックの上に形成された交換バイアス層と、スタックのパターニングされた側面に隣接して形成されたハードバイアス層との組み合わせにより、長手方向のバイアスが印加されている。 - 特許庁 - After a transparent photosensitive resin material for spacer 20a is applied on the inner surface of a substrate 2 and patterned by lithography into specified form, it is colored in black to form a black spacer 20.
基板２の内面上に、透明な感光性樹脂からなるスペーサ材２０ａを塗布し、そのスペーサ材２０ａをフォトリソグラフィ法により所定の形状にパターニングした後、パターニングされたスペーサ材２０ａを染色して黒色のスペーサ２０とする。 - 特許庁 - A lithographic apparatus has a means of moving a patterned projection beam incident on the substrate in synchronism with the substrate, which provides a means of correcting movement of the substrate in the lithographic apparatus during duration of a pulse of radiation.
基板と同期させて基板上に入射するパターン化された投影ビームを移動するための手段を供給することにより、放射線の１回のパルスの持続時間中にリソグラフィ装置内での基板の移動を補正するための手段。 - 特許庁 - A detection system for detecting particle contamination in a lithographic apparatus includes an illumination system that directs a radiation beam onto a section of a surface of a patterning device to generate at least first and second components of patterned radiation.
リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。 - 特許庁 - In the outer handle device, both the electrodes 43 are patterned on the circuit board 44, and a ground pattern 77 connected to the detecting circuit is arranged at a location offset from both the electrodes 43 when the circuit board 44 is transparently viewed.
回路基板４４に両電極４３がパターン成形されるとともに、検出回路に連なるグランドパターン７７が、回路基板４４の透視状態では両電極４３からオフセットした位置に配置されるようにして形成される。 - 特許庁 - The transparent ITO electrode 4a is a common electrode to be covered on the insulating film 5a to display the individual icons and the transparent ITO electrode 4b is an electrode patterned on the insulating film 5b with shapes of the specified icons.
ＩＴＯ透明電極４ａは、絶縁膜５ａの上に被膜され、個々のアイコンを表示させるためのコモン電極であり、ＩＴＯ透明電極４ｂは、絶縁膜５ｂ上に所定のアイコン形状にパターンニングされた電極である。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a nonvolatile memory element in which an MTJ structure of the nonvolatile memory element can be patterned without causing a short circuit nor a current leak and without damaging the MTJ structure.
短絡や電流リークを生じさせること無く、しかも、ＭＴＪ構造にダメージを生じさせること無く、不揮発性メモリ素子におけるＭＴＪ構造のパターニングを行い得る不揮発性メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A color filter is formed on a substrate and is covered with a smoothing film, and a transparent conductive film is formed on the smoothing film, and it is patterned to form a transparent electrode, and then the substrate is dried under a low pressure before being stuck on a counter substrate.
基板上にカラーフィルターを形成して平坦化膜で覆い、該平坦化膜上に透明電導膜を形成し、パターニングして透明電極を形成した後、対向基板と貼り合わせるまでの間に減圧乾燥を施す。 - 特許庁 - A pair of comb-line electrodes 2 are patterned such that one side becomes +45° and another side becomes -45° with respect to the center line X on a flat substrate 1, and are coated with an insulating layer 3 and, further, surface hydrophobic treatment 4 is applied thereon.
平面基板１上に、中心線Ｘに対して一方が＋４５度、他方が−４５度となるように一対の櫛歯状電極２がパターンニングされ、絶縁層３でコートされ、その上に表面疎水処理４が施されている。 - 特許庁 - The TFT 108 further includes a polycrystalline semiconductor film 14 that is formed and patterned on the SiO film 13 in contact with the SiO film 13 in such a way that all pattern ends are located in close proximity to pattern ends of the SiO film 13.
さらに、ＴＦＴ１０８は、ＳｉＯ膜１３上においてＳｉＯ膜１３に接し、全てのパターン端がＳｉＯ膜１３のパターン端近傍に配置されるようにパターニング形成された多結晶半導体膜１４を有する。 - 特許庁 - A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.
配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁 - A lower electrode material, a ferroelectric substance film material and an upper electrode material are successively formed on the silicon nitride film 6 and the barrier metal 5, and they are patterned so that at least the entire surface of the barrier metal is covered with the lower electrode.
窒化シリコン膜６及びバリアメタル５上に下部電極材料、強誘電体膜材料及び上部電極材料を順次形成し、少なくとも、下部電極がバリアメタル上表面全面を覆うようにパターニングする。 - 特許庁 - This lithographic apparatus has a plurality of columns 25 comprising an illumination system, an array of individually controllable elements for imparting a pattern to the cross section of each beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beams onto the substrate.
リソグラフィ装置は、照明システムと、各ビームの断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、基板にパターン化されたビームを投影する投影システムからなる複数のカラム２５を備える。 - 特許庁 - To provide a patterned leather that is comprised of natural or synthetic leather having pigment/resin-painted or coated and being imparted with designability and can follow tension without causing cracks of a cured film while retaining flexibility characteristic of leather.
顔料樹脂塗装またはコーティングされた天然あるいは合成皮革上に意匠性が付与された、皮革特有の柔軟性を保ちつつ引っ張りに硬化膜が割れることなく追従する模様形成皮革を提供する。 - 特許庁 - The photosensitive acrylic resin film 10 is patterned by utilizing halftone exposure, so as to decrease the thickness of the film in recesses 10a and to expose source-drain electrode films 7 and gate electrode films 2, as shown in (m) in contact hole positions 10b.
ハーフトーン露光を利用し、凹所１０ａで感光性アクリル系樹脂膜１０の厚さが減少し、コンタクトホール位置１０ｂでは、（ｍ）に示すようにソース・ドレイン電極膜７やゲート電極膜２が露出するようにパターニングする。 - 特許庁 - The patterned medium in which magnetic dots fine-processed after forming of the magnetic metal thin film as a recording layer and arranged in an array state are formed is provided with a magnetic dot formed by fine processing of a solid state magnetic metal thin film.
記録層として磁性金属薄膜を成膜した後に微細加工してアレイ状に配列された磁性ドットを形成したパターンドメディアは、固体状磁性金属薄膜の微細加工により形成された磁性ドットを備える。 - 特許庁 - An amorphous silicon film is formed on a substrate 10 formed of a glass plate or the like, and this amorphous silicon film is patterned to form main patterns P1 resembling islands or belts having a protruded end and a sub-pattern P2 for filling the gaps between the main patterns P1.
ガラス板等からなる基板１０上にアモルファスシリコン膜を形成し、このアモルファスシリコン膜をパターニングして、先端が凸の島状又は帯状のメインパターンＰ１と、メインパターンＰ１間の隙間を埋めるサブパターンＰ２とを形成する。 - 特許庁 - This substrate plate is provided by having a pattern containing a polymerized lipid membrane part and flowable lipid membrane part on the substrate plate, and also having a patterned membrane-binding type cytochrome P450 obtained by immobilizing a membrane fraction containing the membrane-binding type cytochrome P450 at the flowable lipid membrane part.
基板上に重合脂質膜部分と流動性脂質膜部分を含むパターンを有し、該流動性脂質膜部分に膜結合型チトクロームP450を含む膜画分を固定化してなる、パターン化膜結合型チトクロームP450を有する基板。 - 特許庁 - To make it possible to form a film having a pattern shape in which the whole periphery is connected into a frame-like or ring-like shape surrounding an island region being not formed into a film by one process in a jig for forming the film for forming the patterned film.
パターン化された膜を成膜するための成膜用治具において、成膜されない島領域を囲んで枠状またはリング状に全周が繋がっているパターン形状の膜を１つの工程で成膜可能とする。 - 特許庁
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