「Patterned」を含む例文一覧(3853)

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  • The film 11 to be etched is plasma-etched with plasma having ≥1×1010/cm3 plasma density through the hole-patterned photosensitive material film 12 as a mask to form the objective hole pattern comprising the film to be etched.
    被エッチング膜１１に対してホールパターン化された感光性材料膜１２をマスクとして、１×１０^10／ｃｍ^3 以上のプラズマ密度を有するプラズマを用いてプラズマエッチングを行なうことにより、被エッチング膜からなるホールパターンを形成する。 - 特許庁
  • To provide a lithographic apparatus in which a radiation beam which illuminates a patterning means polarizes to the substantially radial direction, and a diaphragm intercepts the diffraction polarized to the radial direction of patterned radiation.
    パターニング手段を照明する放射線ビームがほぼ半径方向に偏光し、ダイアフラムが、パターン形成された放射線の半径方向に偏光した回折部分を遮断するよう構築、配置構成されるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
  • To reduce the manufacturing cost of an image recording device employing an electrochromic material by a method wherein an image recording method and an image recording device, in which freely patterned images can be recorded and displayed without forming complicated wiring on the electrochromic material, are provided.
    複雑な配線をエレクトロクロミック材料に形成せずに、自由なパターンの画像が記録・表示できる画像記録方法及び画像記録装置を提供し、ＥＣ材料を用いた画像記録装置の製造コストを低減する。 - 特許庁
  • Consequently, a member for manufacturing which has the linear structure body 4 formed on the base material 5 is pressed to the plastics substrate to collectively form holes of the patterned media substrate because the linear structure body 4 holes the plastics substrate.
    従って、基材５に線状構造体４が形成された製造用部材をプラスチック基板に押し付けることにより、線状構造体４がプラスチック基板に穴をあけるので、パターンドメディア基板の穴を一括形成することができる。 - 特許庁
  • A gate insulating film 14 is formed on the surface of a semiconductor substrate 12, and an amorphous semiconductor film 16 is deposited in place of a polycrystalline semiconductor film on the gate insulating film 14, and the amorphous silicon layer 16 is patterned into the shape of a gate electrode.
    半導体基板１２表面にゲート絶縁膜１４を形成し、当該絶縁膜上に多結晶半導体膜の代わりにアモルファス半導体膜１６を堆積し、このアモルファスシリコン層１６をゲート電極部としてパターニングする。 - 特許庁
  • This halftone-type EUV mask is a halftone-type EUV masK comprising a substrate, a high-reflectivity portion formed on the substrate, and a patterned low-reflectivity portion formed on the high reflectivity portion in which the low reflectivity portion contains Ta (tantalum) and Nb (niobium).
    基板と、基板上に形成された高反射部と、高反射部上に形成されたパターニングされた低反射部と、を備え、低反射部は、Ｔａ（タンタル）及びＮｂ（ニオブ）を有することを特徴とするハーフトーン型ＥＵＶマスク。 - 特許庁
  • To provide a toasted laver sheet with patterned openings, capable of being widely applied to up-to-date cooking styles composing a food culture, by completely changing an orthodox image, which is brought about by conventional toasted laver sheets, as a food material, and capable of still more increasing cooking novelties in which the toasted laver is used.
    従来の焼き海苔の持つ、食材としてのオーソドックスなイメージを一新して、食文化である今風の料理に広く活用を求め、焼き海苔を利用したアイデア料理をいっそう推進する、焼き海苔（Ａ）を提供する。 - 特許庁
  • A transparent conductive film on a substrate SUB constituting the display surface of the image display device is patterned in a plurality of pad electrode SSP shape detection electrodes which are arranged in a two-dimensional matrix shape of rows (X-direction) and columns (Y-direction).
    画像表示装置の表示面を構成する基板ＳＵＢ上の透明導電膜を行（Ｘ方向）および列（Ｙ方向）の二次元マトリクス状に配置された複数のパッド電極ＳＳＰ形状の検出電極にパターニングする。 - 特許庁
  • This method for manufacturing a planar coil is provided to cut a planar coil patterned by a wideformat sheet 3 into piece sheets 10, and to adjust a DC resistance value for each of the piece sheets 10 by measuring the weight of the piece sheets 10.
    本発明は、大判シート３によりパターニングされた平面コイルを個片シート１０に切断し、個片シート１０の重量測定により個片シート１０毎に直流抵抗値を調整する平面コイルの製造方法である。 - 特許庁
  • To provide a master disk of an optical disk capable of improving the adhesion between a resist material to be patterned and a master disk or an underlayer provided on the master disk, and to provide a method of manufacturing the master disk and a method of manufacturing an optical disk stamper.
    パターニングするレジスト材料と原盤または原盤上に設けられた下地層との密着性を改善できる光ディスク原盤およびその製造方法並びに光ディスクスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a reflective exposure method capable of optimizing an ejecting angle from a reflective mask and an incident angle to a wafer while considering both of the light regularly reflected by the reflective mask and the light reflected by a patterned side wall.
    反射型マスクにおいて正反射した光およびパターン側壁で反射した光の両方を考慮しつつ、反射型マスクの射出角およびウエハの入射角の最適化を図ることができる反射型露光方法を提供する。 - 特許庁
  • This shield material is provided with a transparent base material 15, a metallic layer 18a that is patterned and formed on one surface of the transparent base material 15, and a color correction adhesive layer 20 that is formed on the metallic layer 18a and in which a pigment 38 is dispersed.
    透明基材１５と、透明基材１５の一方の面上にパターン化されて形成された金属層１８ａと、金属層１８ａの上に形成され、顔料３８が分散された色補正粘着層２０とを有する。 - 特許庁
  • Based on these relations, taper is generated when the interlayer insulating film 504 is etched with use of the patterned interlayer insulating film 202 as a mask, an aspect ratio of a via hole is reduced, and the interlayer insulating film 503 is favorably etched and removed.
    これらの関係により、パターニングされた層間絶縁膜２０２をマスクとして用いる層間絶縁膜５０４のエッチングの際のテーパの生成、ビアホールのアスペクト比の低減、層間絶縁膜５０３の良好なエッチング除去が得られる。 - 特許庁
  • To provide a solid-state image pickup device, the transfer efficiency of which can be maintained satisfactorily without deteriorating the sensitivity and saturation characteristic of the device, even when the cell size is reduced by suppressing the recession of the corner sections of a transfer electrode, when the electrode is patterned.
    パターニング時の隅角部における転送電極の後退を抑制し、セルサイズを微細化させても、感度や飽和特性を劣化させることなく転送効率を良好に維持できる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a rame-containing patterned scrubbing brush and a scrubbing brush fabric having been impossible to commercialize so far, by forming alphabet letter(s) or desired pattern(s), or the like so as to float in a sharp and clear-cut fashion using a single rame yarn and colored yarns.
    一本のラメ糸と色糸を用いてシャープでくっきり浮き出すようにアルファベット文字や所望の絵柄等を形成できるようにしてこれまで商品化できなかった絵柄模様のラメ入りたわし、及びたわし生地を提供する。 - 特許庁
  • This pattern is made to emerge as a patterned beam pb of the charged particles, that emerge from a surface of a material body via at least one crossover c and is focused into an image S having a given magnitude and distortions.
    このパターンは、少なくとも１つのクロス・オーバ（ｃ）を介して物体平面から出現する前記荷電粒子のパターン形成したビーム（ｐｂ）として表され、それは所与の大きさおよび歪曲を有する像（Ｓ）に結像される。 - 特許庁
  • To provide a simple manufacturing method capable of manufacturing a magnetic storage medium of a bit patterned type, a discrete track type or the like, to provide the magnetic storage medium of the type which can be manufactured by the simple manufacturing method, and to provide an information storage device.
    ビットパターンド型やディスクリート・トラック型等のタイプの磁気記憶媒体を製造可能な簡易な製造方法、そのような簡易な製造方法で製造可能な上記タイプの磁気記憶媒体および情報記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • Carbon gas is generated from carbon deposits attached on the inner wall of the etching chamber when the substrate is etched, and carbon gas is deposited on the side walls of the patterned organic material layer 2 to serve as a side wall protective film.
    エッチングチャンバ１０の内部に付着させた炭素系堆積物から、基板のエッチング処理時にカーボン系のガスを生じさせ、これをパターニングした有機材料層２の側壁に堆積させながら側壁保護膜として機能させる。 - 特許庁
  • A first substrate 1 where a pixel electrode driving circuit 2 is formed is covered with a leveling/insulation layer 20, and a light shield layer (step forming pattern) 22 is patterned around the pixel region 1a on the leveling/insulation layer 20.
    画素電極駆動回路２が形成された第１基板１上を平坦化絶縁膜２０で覆い、平坦化絶縁膜２０上における画素領域１ａの周囲に遮光膜（段差形成用パターン）２２をパターン形成する。 - 特許庁
  • An overlapping width of the frame-shaped sealing material and the black matrix in a peripheral edge part along a display region is suppressed into 0.2 mm or below or a region of the black matrix, overlapping with the frame-shaped sealing material is patterned so as to include a light transmission part.
    表示領域に沿った周縁部における，枠状のシール材とブラックマトリクスのオーバーラップ幅を０．２ｍｍ以下に抑えるか、ブラックマトリクスの，枠状のシール材にオーバーラップする領域を光透過部を含むようパターン化する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of an electron source in which the lower electrode can be patterned in cross-sectionally trapezoidal shape and the yield of manufacture can be made greater compared with the case of patterning the lower electrode using a lift-off method.
    下部電極を断面台形状の形状にパターニングすることができ且つリフトオフ法を利用して下部電極をパターニングする場合に比べて製造歩留まりを高めることができる電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The patterned silicon film 110 is oxidized and an oxide film 130 is formed on the entire surface of the silicon film 110 with a preset thickness and then the oxide film 130 is removed so that the upper surface of the silicon film 110 is exposed.
    パターニングされたシリコン膜１１０を酸化させてそのシリコン膜１１０の膜全体表面を設定厚さだけ酸化膜１３０で形成し、シリコン膜の１１０上部表面が露出されるように酸化膜１３０を除去する。 - 特許庁
  • This includes emitting light from the light source, dispersing light emitted from the light source into one of a diffraction pattern and an interference pattern, and imaging the patterned light onto the object using a lens 38.
    この方法に、光源から光を発することと、光源から発した光を回折パターンと干渉パターンとのうちの１つに分散させることと、レンズ（３８）を使用してパターン付きの光を物体上に撮像することとが含まれる。 - 特許庁
  • A polysilicon 103 is grown on a semiconductor substrate and ion-implanted to be patterned, so as to form a gate electrode by etching away the gate polysilicon 103 using the films 104, 105 after successively depositing an oxide film 104 and a nitride film 105.
    半導体基板上にゲートポリシリコン１０３を成長させてイオン注入を行い、酸化膜１０４、窒化膜１０５を順次堆積した後、パターニングし、これらをマスクにしてゲートポリシリコンをエッチングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁
  • The semiconductor substrate comprises an SiGe layer SG formed on an Si substrate 1 and a region 1a having a higher impurity concentration than other region is patterned on the surface of the Si substrate.
    Ｓｉ基板１上にＳｉＧｅ層ＳＧを備えた半導体基板であって、前記Ｓｉ基板表面に、他の領域よりも不純物濃度を高くした高濃度領域１ａをパターン状に形成した領域を備えている。 - 特許庁
  • When a developing process is conducted by exposing the overcoat material 20 via a photomask 21 (C), the overcoat material 20 is patterned into the pattern shape of photomask 21 and is left only at he center of the surface of the micro-lens 17 (D).
    フォトマスク２１を介してオーバーコート材料２０を露光し（Ｃ）、現像処理を行なうと、オーバーコート材料２０は、フォトマスク２１のパターン形状にパターニングされ、マイクロレンズ１７の表面中央部のみにオーバーコート材料２０が残る（Ｄ）。 - 特許庁
  • The element array 23 is equipped with shading films 34, which are arranged at prescribed pitches with angles of their gaps with each of photodiodes PDi patterned so as to correspond to incident angles of light from the scale grating 12.
    受光素子アレイ２３は、所定ピッチで配列され且つその間隙のフォトダイオードＰＤｉの各々に対する角度がスケール格子１２からの光の入射角に対応するようにパターニングされた遮光膜３４を備えている。 - 特許庁
  • The method also includes a step of creating a second template using the replicate, in order to form on the second template the predetermined mirrored servo arc orientation and predetermined duty cycle for copying to the second side of the patterned stack.
    方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを第二のテンプレートに形成する。 - 特許庁
  • After a conductor layer is formed on the metal deposit layer through electroless plating and/or electroplating, the conductor layer and metal deposit layer are ground until the polyamide acid film is partially exposed to form a patterned conductor layer.
    この金属析出層の上に、無電解めっきおよび／又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。 - 特許庁
  • A sensitive material on the mask blank is multistage-patterned by prescribed frequency on the basis of the data under prescribed conditions (focal depth and beam diameter) and the mask blank is developed and rinsed to obtain a three-dimensional sensitive material pattern.
    そのデータに基づいて、マスクブランクス上の感光性材料を所定の条件（焦点深度、ビーム径）で所定の回数だけ多数回（多段階）描画し、そのマスクブランクスを現像・リンスして三次元の感光性材料パターンを得る。 - 特許庁
  • There are provided a resistance memory cell whose memory device is made of photoimageable switchable material reversibly switchable between distinguishable conditions of resistances patterned by actinic irradiation, and a method for forming the same.
    本発明は光化学線照射によってパターニングされて区別可能な抵抗状態の間で可逆的にスイッチング可能な写真現像型スイッチング可能物質をメモリ素子で使う抵抗メモリセル及びその形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The dielectric layers 11 covering the data electrodes 6 are patterned in strips, gaps are to be made between each dielectric layer 11 and adjacent longitudinal partition walls, and the dielectric layers 11 are formed to be covered with phosphor layers 10.
    データ電極６を覆う誘電体層１１を帯状にパターン形成し、誘電体層１１と隣り合う縦隔壁７との間に隙間を有するようにし、さらに誘電体層１１を蛍光体層１０で覆うように形成する。 - 特許庁
  • The sectional warper for patterned warp yarns has a warping drum (2) having a notch part (31), a cutting rod device having a tightening part (28) and a cutting rod (29) and a yarn guide device arranged on one end side of the warping drum (2).
    切欠き部（３１）を有する整経ドラム（２）と、締付ロッド（２８）および切断ロッド（２９）を有する切断ロッド装置と、整経ドラム（２）の一端側に配置された糸ガイド装置とを有する柄経糸用部分整経機が記載される。 - 特許庁
  • Various motif such as a grape-patterned arabesque, exotic portraits and four gods (Seiryu [Blue Dragon], Byakko [White Tiger], Suzaku [red Chinese phoenix] and Genbu) having the roots in Greece, Persia, India, and China and others are carved on the pedestal of the principal statue, which can be regarded as the traces of the Silk Road.
    中尊像の台座には、シルクロードの軌跡とも言うべく、ギリシャ、ペルシャ、インド、中国などに淵源をもつ葡萄（ぶどう）唐草文、異国風の人物像、四神（青龍、白虎、朱雀、玄武）などの意匠があしらわれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • What have been discovered in Makimuku Remains are as follows; the signs of a building considered to be built for ritual purposes and its pile marks on the ground; the ritual instruments, such as the rooster-shaped wooden products, the arc-patterned discs; large and small-scale water channels protected with wooden sheet piles made of Japanese cypress, which had been used as a distribution system.
    現在発見されているのは祭祀用と考えられる建物と土抗、そして弧文円板や鶏形木製品などの祭祀用具、物流のためのヒノキの矢板で護岸された大・小溝（運河）などである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A method for defining a pattern includes etching the pattern through a photoresist into a substrate, heating the patterned substrate to a temperature sufficient to ash the photoresist and provide a residue, and removing the residue by bringing the residue into contact with the cleaning composition.
    バターンの規定方法は、フォトレジストを通した基材へのパターンのエッチング、フォトレジストが灰化するのに充分な温度にパターン化された基材を熱すること、および該クリーニング組成物と残渣が接触することによる除去を含む。 - 特許庁
  • A discrete-track-recording (DTR) disk (the called "patterned" disk) has a sectored servo formed by modulation of its sidewalls in a predetermined manner, whereas the sidewalls of data sectors are not modulated in this manner.
    ディスクリートトラック記録（ＤＴＲ）ディスク（「パターンド」ディスクとも呼ばれる）は、所定の方法で側壁を変調することによって形成されるセクタ化されたサーボを有し、データセクタの側壁に対してはこの方法での変調は行なわれない。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which an oxide layer composed of perovskite type oxide containing Mn is patterned by a simple method, whereby a production cost is reduced and a production yield can be enhanced.
    簡易な方法でＭｎを含むペロブスカイト型酸化物からなる酸化物層のパターン化を行うことにより、製造コストを低減させ、かつ、歩留まりを向上させることができる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • Then the photoresist is removed and a doped semiconductor layer 24 and conductive layer 28 are allowed to stick on the semiconductor layer 16 and dielectrics layer 19, which are patterned to provide source electrode and drain electrode 42 and 44.
    その後フォトレジストを除去し、半導体層１６および誘電体層１９の上にドープされた半導体層２４および導電層２８を付着し、これらをソース電極およびドレイン電極４２，４４とすべくパターン化する。 - 特許庁
  • A keyless transmitter comprises: a 1st loop antenna 6 which is patterned and formed on the surface of a circuit board; and a 2nd loop antenna 13 which is perpendicular to the plane of the circuit board where the 1st loop antenna is formed.
    キーレス送信機において、回路基板１の表面上にパターン形成された第１のループアンテナ６と、第１のループアンテナが形成された回路基板の平面に対して垂直を成す第２のループアンテナ１３とを備える。 - 特許庁
  • Alternatively, part of damage and contamination caused during patterning of the gate electrode 5 is taken into an oxide film through oxidation processing to be removed after the gate electrode 5 is patterned and before the source-drain region 9 is formed.
    または、ゲート電極５のパターンニング後、ソース・ドレイン領域９を形成する前に、酸化処理を行うことによってゲート電極５のパターンニングの際に生じるダメージや汚染の一部を酸化膜中に取り込んで基板から除去する。 - 特許庁
  • A material for the mask is a material for forming a mask which is used when an article to be etched is patterned by etching, and is made from a silane compound having an isobutyl group and/or cyclic hydrocarbon.
    エッチングによって被エッチング物をパターニングする際に用いるマスクを形成するためのマスク用材料であって、イソブチル基および／または環状炭化水素を有するシラン化合物からなることを特徴とするマスク用材料を提供する。 - 特許庁
  • Next, polysilicon electrodes 23b are formed by embedding polysilicon between the sidewalls 24a, and the polysilicon film 21 is patterned by removing the sidewalls 24a and etching back the polysilicon film 21 and the polysilicon electrodes 23a, 23b.
    次いで、サイドウォール２４ａの間にポリシリコンを埋め込むことによってポリシリコン電極２３ｂを形成し、サイドウォール２４ａを除去して、ポリシリコン膜２１およびポリシリコン電極２３ａ，２３ｂをエッチバックすることでポリシリコン膜２１をパターンニングする。 - 特許庁
  • Although Tsunokakushi can be used for both Shiromuku (pure white kimono) and Irouchikake (gorgeously patterned kimono), Wataboshi, an oval-shaped hat several times larger than the head, is generally used for Shiromuku, and Tsunokakushi is used for Irouchikake these days.
    白無垢（しろむく）・色打掛（いろうちかけ）のどちらに対しても用いることができるが、最近では白無垢には綿帽子（わたぼうし）と呼ばれる頭部の数倍の大きさの楕円状の帽子を、色打掛には角隠しを用いることが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A linked busbar 35 patterned into a parallel cross state with a plurality of lateral members 39A, 39B and a plurality of vertical members 41 intersecting with the lateral members 39A, 39B is used for manufacturing split busbars 1A, 1B.
    分割バスバー１Ａ、１Ｂを製造する場合、複数の横部材３９Ａ、３９Ｂと、この横部材３９Ａ、３９Ｂに直交する複数の縦部材４１から井桁状にパターン化された連鎖状バスバー３５を基材として用いる。 - 特許庁
  • The first molding compound is formed from a patterned molding compound and the second molding compound comprises a pattern-free molding compound low in flow resistance energy as compared with the first molding compound and positioned on the rib side.
    前記第１の成形材料が柄入り成形材料で形成され、前記第２の成形材料が柄無し成形材料で第１の成形材料より流動抵抗エネルギーが小さくかつリブ側に位置することを特徴とする。 - 特許庁
  • To compensate a skew angle of a head to reduce the susceptibility thereto of a signal-to-noise ratio and a bit error rate in a patterned recording medium incapable of keeping it at a constant angle when a head position changes from a disk inner diameter to a disk outer diameter.
    ヘッド位置がディスク内径からディスク外径に変化する際に一定の角度に維持することができないパターンド記録メディアでヘッドのスキュー角を補償し信号対雑音比及びビット誤り率の影響されやすさを低減する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a high quality color filter substrate at low cost for a liquid display device composed of a plurality of patterned layers composed of a first layer of non-photosensitive resin and a photosensitive resin.
    本発明は、非感光性樹脂からなる第１の層と感光性樹脂からなる複数のパターン化層からなる液晶表示装置用カラーフィルタ基板を低コスト、かつ高品質に得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Connecting terminals 106, 107 made of patterned copper foils 103, 105 are formed on both surfaces of an insulating board 102, and the terminals of both the surfaces are electrically connected by a conductor layer 108 passing through the insulating board.
    絶縁基板１０２の両面にパターニングされた銅箔１０３、１０５からなる接続端子１０６，１０７が形成されており、両面の接続端子は絶縁基板を貫通する導体層１０８で電気的に接続されている。 - 特許庁
  • To provide a patterned perpendicular magnetic recording medium that has pillars with a magnetic material on their ends and trenches substantially having no magnetic moment and to provide a manufacturing process of the medium that allows use of a pre-etched substrate.
    端部上に磁性材料を有する柱を備え、かつ本質的に磁気モーメントを有さないトレンチを備えたパターン化垂直磁気記録媒体、ならびにプリエッチングされた基板の使用を可能にする媒体の製造プロセスが求められている。 - 特許庁
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