「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 78 79 次へ＞- This system and process is a double patterning system and process using a carbon-based hard mask.
炭素系ハードマスクを用いた二重パターニングシステムおよびプロセス。 - 特許庁 - To provide a safety mechanism for a lithography patterning apparatus.
リソグラフィ・パターン形成機器のための安全機構を提供すること。 - 特許庁 - FABRICATION OF INTEGRATED THIN FILM SOLAR CELL AND PATTERNING SYSTEM
集積型薄膜太陽電池の製造方法およびパターニング装置 - 特許庁 - TWO LAYER-STRUCTURED INTAGLIO AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
２層構造を有する凹版およびそれを用いたパターニング方法 - 特許庁 - METHOD OF NANO-PATTERNING USING SURFACE PLASMON, METHOD OF MANUFACTURING MASTER FOR NANO-IMPRINT AND DISCRETE TRACK MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING NANO-PATTERNING METHOD
表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、それを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a resist pattern by double patterning method.
ダブルパターニング法によるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁 - SILICA MESO-STRUCTURE THIN FILM, MESO-POROUS SILICA THIN FILM, PATTERNING METHOD OF SILICA MESO-STRUCTURE THIN FILM AND PATTERNING METHOD OF MESO-POROUS SILICA THIN FILM
シリカメソ構造体薄膜、メソポーラスシリカ薄膜、シリカメソ構造体薄膜のパターニング方法及びメソポーラスシリカ薄膜のパターニング方法 - 特許庁 - To provide a method for patterning a nano-particle film of an organic/inorganic material.
有機/無機材料のナノ粒子膜パターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To perform patterning precisely in a plurality of sectioned regions on a wafer.
ウエハ上の複数の区画領域に精度良くパターンを形成する。 - 特許庁 - SUBSTRATE TO BE USED FOR LIGHT-RESPONSIVE PATTERNING, AND ITS USE
光応答性のパターニングに用いるための基板およびその利用 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MICROPARTICLE-ADSORBED PATTERN AND FUNCTIONAL PATTERNING MATERIAL
微粒子吸着パターン形成方法及び機能性パターン材料 - 特許庁 - To provide an efficient patterning device and its control arrangement.
効率的なパターニング用デバイスおよびその制御機構を提供する。 - 特許庁 - COMPOSITION AND METHOD FOR REMOVING RESIDUE AND PATTERNING PROCESS
残留物除去のための組成物と方法及びパターン画定方法 - 特許庁 - ILLUMINATION OF PATTERNING DEVICE BASED ON INTERFERENCE FOR USE IN MASKLESS LITHOGRAPHY
マスクレスリソグラフィで用いる干渉に基づいたパターニングデバイスの照明 - 特許庁 - By patterning the conductive layer, a conductive member 110 is formed.
導電層をパターニングして導電性部材（１１０）を形成する。 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERNING
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - A first polymer film is under the metal foil in which the patterning is carried out.
第１のポリマーフィルムはパターニングされた金属フォイルの下にある。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF ORGANIC MATERIAL LAYER AND ELECTRONIC DEVICE EMPLOYING IT
有機材料層のパターニング方法およびこれを用いた電子デバイス - 特許庁 - In a corresponding device manufacturing method, a patterning support is provided.
対応するデバイス製造方法においては、パターン支持体を設ける。 - 特許庁 - To perform patterning using a lift-off process without using a lithographic technology.
リソグラフィ技術を使用せずに、リフトオフプロセスを利用してパターニングを行う。 - 特許庁 - To provide a lithography apparatus which corrects an undesirable bend of a patterning device using an improved bending mechanism of the patterning device.
パターニングデバイスの改良された曲げ機構によってパターニングデバイスの望ましくない曲がりを補正することができるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - The lithography apparatus has a patterning supporter constituted so as to support a patterning device and a substrate supporter constituted so as to support a substrate.
リソグラフィ装置は、パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニング支持体と、基板を支持するように構成された基板支持体とを有する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR RESIST FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF SOLID-STATE IMAGING DEVICE
レジスト膜のパターニング方法および固体撮像装置の製造方法 - 特許庁 - Pads 14 are formed by patterning the copper foil 13 (D).
次に，銅箔１３をパターニングすることによりパッド１４を形成する（Ｄ）。 - 特許庁 - To provide a thin film patterning method that can prevent a patterning member having finished its roll in a process for a thin film or a thin film formed on the patterning member from being attached again onto a substrate.
薄膜の加工において役割を終えたパターニング部材やこのパターニング部材上に形成された薄膜が基板上に再付着することを回避することを可能にする薄膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To enhance workability of patterning that uses a sidewall transfer technology.
側壁転写技術を使用したパターニングの加工性の向上を図る。 - 特許庁 - To easily perform inspection of photoresist patterning.
本発明は、フォトレジストのパターニング検査を簡単に行うことを目的とする。 - 特許庁 - Patterning for the first time is carried out on a film to be processed on a wafer surface, and the dimension of the pattern formed by the patterning for the first time is measured.
ウェハ表面の被加工膜に１回目のパターニングを行い、その１回目のパターニングにより形成されたパターンの寸法を測定する。 - 特許庁 - To provide a structure, in which one or more patterning arrays are provided so as to reduce the nonflatness of the patterning arrays in a lithographic apparatus.
リトグラフ装置において、パターン形成アレーの非平坦度を低減化できるように、一つ以上のパターン形成アレーを設ける構造を提供する。 - 特許庁 - Following the above process, the first layer 10a is completed by patterning the magnetic layer.
その後、磁性層をパターニングして第１の層１０ａを完成させる。 - 特許庁 - CABLING, ITS PATTERNING METHOD, DISPLAY AND ITS MANUFACTURING METHOD
配線及びそのパターニング方法並びにディスプレイ及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a method of patterning a color conversion layer which achieves patterning with a definition higher than 150 ppi and to provide a method of manufacturing an organic EL display using the patterning method.
１５０ｐｐｉを超える高精細度のパターン形成を実現することができる、色変換層のパターニング方法を提供すること、および、当該パターニング方法を用いた有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, RETICLE CORRECTING METHOD, AND RETICLE PATTERN DATA CORRECTING METHOD
パターン形成方法、レチクル補正方法及びレチクルパターンデータ補正方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE THIN FILM OF LIQUID CRYSTAL PANEL SUBSTRATE AND APPARATUS THEREFOR
液晶パネル基板の導電性薄膜パターニング方法および装置 - 特許庁 - A radiation distribution system is provided for distributing radiation to a plurality of patterning means for patterning radiation beams from a lighting system.
照明システムからの放射ビームをパターニングするための複数のパターニング手段へ放射を分配するための放射分配システムが提供される。 - 特許庁 - To automatically stick a PET film on a glass substrate before laser patterning.
レーザパターニング前のガラス基板に、ＰＥＴフィルムを自動的に貼り付ける。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING DEVICE USING DUAL PHASE STEP ELEMENT AND USING METHOD THEREOF
二重位相ステップエレメントを使用するパターニングデバイスおよびその使用方法 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING OXIDE SEMICONDUCTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR
酸化物半導体のパターニング方法と薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁 - The wafer is thereafter subjected to desired patterning, by which the optical waveguide 9 is formed.
その後、所望のパターニングを行い、光導波路９を形成する。 - 特許庁 - To provide a patterning head and a patterning apparatus in which a membrane formed on a substrate can be peeled or removed in a good state.
基板上に形成された膜を良好な状態で剥離または除去することができるパターニングヘッドおよびパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - LIQUID IMMERSION EXPOSURE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To expedite fine patterning of wiring by enhancing reliability in interlayer connection.
層間接続の信頼性を高め、配線パターンのファイン化を促進する。 - 特許庁 - More specifically, even after starting the patterning for the wafer W by using the detection results of marks on the wafer W, marks on the wafer W are detected in parallel with the patterning, and the detection results are used in the patterning.
すなわち、ウエハＷ上のマークの検出結果を用いてウエハＷに対するパターン形成を開始した後も、パターン形成と並行してウエハＷ上のマークを検出し、その検出結果をパターン形成で用いる。 - 特許庁 - After that, a photoresist film 70 is subjected to patterning onto the silicon oxide film 71.
その後、シリコン酸化膜７１上にフォトレジスト膜７０をパターニングする。 - 特許庁 - A gate electrode 12 is formed on a polymer substrate 11 by patterning.
高分子基板１１上にゲート電極１２をパターニングして形成する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR MULTI-LAYERED RESIST FILM AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
多層レジスト膜のパターニング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To improve the contrast of an alignment mark, in such a lithography patterning method as a double patterning method for improving the resolution of an optical lithography.
光学リソグラフィの解像度を向上させるためのダブルパターニング法などのリソグラフィパターニング法において、アライメントマークのコントラストを改善すること。 - 特許庁 - SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FOR LASER PATTERNING, AND ITS MANUFACTURING METHOD
レーザーパターニング用透明導電膜付き基板およびその製造方法 - 特許庁 - FINE PATTERNING METHOD USING AZOBENZENE-FUNCTIONALIZED POLYMER AND METHOD OF MANUFACTURING NITRIDE-BASED SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE USING THE FINE PATTERNING METHOD
アゾベンゼン基ポリマーを利用した微細パターニング方法、及び前記微細パターニング方法を利用した窒化物系半導体発光素子の製造方法 - 特許庁
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