「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 78 79 次へ＞- NITROGEN-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST MATERIAL, AND PATTERNING PROCESS
含窒素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - Examples of patterning methods include laser thermal transfer or thermal head transfer.
パターン化方法の例には、レーザ熱転写またはサーマルヘッド転写などがある。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, ITS PRODUCING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PATTERNING
半導体基板、その製造方法、半導体装置及びパターン形成方法 - 特許庁 - CURABLE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, NANOIMPRINT MOLDING AND PATTERNING METHOD
ナノインプリント用硬化性組成物、ナノインプリント成形体及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERNING DEVICE UTILIZING SET OF STEPPED MIRROR AND METHOD OF USING THE SAME
段差付きミラーを利用したパターニング用デバイス、及びそれを使用する方法 - 特許庁 - The method also includes a step of patterning the channel layer 7 on the gate insulating film 5.
また、ゲート絶縁膜５上において、チャネル層７のパターニングを行う。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD OF THIN FILM, METHOD AND DEVICE OF MANUFACTURING PLATE DISPLAY ELEMENTS
薄膜のパターニング方法と平板表示素子の製造方法及び装置 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST ALIGNMENT MARK THROUGH DOUBLE PATTERNING LITHOGRAPHY PROCESS
ダブルパターニングリソグラフィプロセスでレジストアライメントマークを形成する装置および方法 - 特許庁 - The resistances are obtained by patterning the gate electrode layers of the TFTs.
この抵抗は、上記ＴＦＴのゲート電極層をパターニングしたものとする。 - 特許庁 - SOFT MOLD, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND PATTERNING METHOD USING THE MANUFACTURING METHOD
ソフトモールド及びその製造方法並びにこれを利用したパターニング方法 - 特許庁 - PROCESSING METHOD FOR PATTERNING CHOPSTICK AND CHOPSTICK PATTERNED BY THE METHOD
箸の模様付け加工方法、及びその方法によって模様付けされた箸 - 特許庁 - The manufacturing process of the glass substrate comprises a patterning process on the substrate and a heat treatment process.
ガラス基板上にパターニングを行う工程と熱処理工程とがある。 - 特許庁 - HIGH REFRACTIVE INDEX LIQUID CIRCULATION SYSTEM, PATTERNING DEVICE AND METHOD
高屈折率液体循環システム、パターン形成装置およびパターン形成方法 - 特許庁 - To easily perform evaporation patterning by improving shape holding performance of a shadow mask.
シャドーマスクの形態保持性能を向上し蒸着パターニングを容易にする - 特許庁 - DENSITY-VARIABLE PATTERNING DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING DENSITY-VARIABLE PATTERNED WOVEN FABRIC
密度可変柄出し装置並びに密度可変柄出し織物の製造方法 - 特許庁 - After that, the tungsten thin film 2 is subjected to patterning by a photolithography method or the like.
この後、フォトリソグラフィ法などにより、タングステン薄膜２をパターニングする。 - 特許庁 - a. Concerning Town Planning Patterning to the Regulation of Land Use in Kyoto City (adopted 2001):
a．京都市土地利用の調整に係るまちづくり条例（2001年決定）： - 経済産業省 - PATTERNING METHOD OF COLOR CONVERSION LAYER, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL-DISPLAY
色変換層のパターニング方法および有機ＥＬディスプレイの製造方法 - 特許庁 - To provide a method for patterning a conductive layer, a method for manufacturing a polarizing element using the patterning method, and the polarizing element manufactured by the manufacturing method.
伝導性層のパターニング方法、その方法を用いた偏光素子の製造方法、およびその方法によって製造された偏光素子を提供する。 - 特許庁 - The large granule patterning material, after being mixed with a polymerizable solvent, is kneaded with the compound to obtain the composition containing the patterning material.
大粒柄材をあらかじめ重合性の溶剤で混ぜ合わせた後、コンパウンドと混練して大粒柄材入り人造大理石成形用樹脂組成物とする。 - 特許庁 - A projection system projects the radiation patterned by the product patterning device and the measuring-target patterning device.
投影システムが、基板テーブルに保持された基板上のターゲット部分に、製品パターン化デバイスおよび計測ターゲット・パターン化デバイスによってパターン化された放射線を投射する。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING SELF-ASSEMBLED COLLOIDAL PHOTONIC CRYSTAL AND METHOD FOR FABRICATING 3-DIMENSIONAL PHOTONIC CRYSTAL WAVEGUIDE OF INVERTED-OPAL STRUCTURE USING THE PATTERNING METHOD
コロイド自己組立光結晶のパターニング方法及びこれを利用した逆転されたオパール構造の３次元光結晶光導波路の製作方法 - 特許庁 - The lithographic apparatus is configured to transfer a pattern from a patterning structure held by a patterning structure holder onto a substrate held by a substrate holder.
リソグラフィ装置は、パターニング構造ホルダに保持されたパターニング構造から基板ホルダに保持された基板上へとパターンを転写するように構成されている。 - 特許庁 - The wafer W having completed the first patterning in the patterning system is transferred to a flat film forming apparatus to form a flat film on the wafer W.
パターニングシステムにおいて１回目のパターニングを行ったウェハＷを平坦化膜形成装置に搬送し、ウェハＷ上に平坦化膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a substrate suitable for patterning by an inkjet method in which a fluid before drying is not excessively spread and the pattern is not segmentalized after drying in patterning.
パターン形成時に、乾燥前の流動体が広がりすぎず乾燥後にパターンが分断されない、インクジェット方式によるパターン形成に適する基板の提供。 - 特許庁 - By removing a part of the trough 36 by etching, the first patterning layer 26 and the second patterning layer 38 can be separated by a gate length Lg.
そして、谷部３６の一部をエッチングにより除去することで、第１のパターン層２６と第２のパターン層３８とをゲート長Ｌｇだけ離間させることができる。 - 特許庁 - To provide a production process of a multiple patterning wiring substrate in which deformation of a recess in each wiring substrate region of the multiple patterning wiring substrate is reduced.
複数個取り配線基板の各配線基板領域における凹部の変形を低減させた複数個取り配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To manufacture a vehicle protective film at low cost, while performing highly precise patterning, in a patterning method of the vehicle protective film and a vehicle protective film.
車両用保護フィルムの型取り方法及び車両用保護フィルムにおいて、高精度な型取りを行うと共に車両用保護フィルムを安価にする。 - 特許庁 - METHOD OF CLEANING PATTERNING DEVICE, METHOD OF DEPOSITING LAYER SYSTEM ON SUBSTRATE, SYSTEM FOR CLEANINE PATTERNING DEVICE, AND COATING SYSTEM FOR DEPOSITING LAYER SYSTEM ON SUBSTRATE
パターニングデバイスの洗浄方法、基板への層系の堆積方法、パターニングデバイスの洗浄システム及び基板に層系を堆積するためのコーティングシステム - 特許庁 - A relative position of each patterning layer with respect to other pattern features or patterning layers is determined in vector form based on the determined pattern positions (708).
他のパターン特徴またはパターン化層に関するパターン化層の相対的位置が、決定されたパターン位置に基づいてベクトル形式で決定される（７０８）。 - 特許庁 - To perform the micro-patterning of a film deposited on an etched semiconductor substrate with high precision in a process for micro-patterning the etched film being.
被エッチング膜の微細パターンを形成する工程において、半導体基板上に堆積された被エッチング膜をより微細に高精度でパターニングする。 - 特許庁 - To provide a fine patterning method using an azobenzene-functionalized polymer and a method of manufacturing a nitride-based semiconductor light emitting device using the fine patterning method.
アゾベンゼン基ポリマーを利用した微細パターニング方法、及び微細パターニング方法を利用した窒化物系半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - PRODUCTION PROCESS OF FORMED CERAMIC PRODUCT FOR MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE, PRODUCTION PROCESS OF MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE, PACKAGE FOR CONTAINING ELECTRONIC COMPONENT, AND ELECTRONIC DEVICE
複数個取り配線基板用セラミック生成形体の製造方法、複数個取り配線基板の製造方法、電子部品収納用パッケージおよび電子装置 - 特許庁 - When after-exposure baking in the second patterning is performed, the wafer W is placed at a position that is the same as that in post-exposure baking of the first patterning, with respect to the hot plate 140.
２回目のパターニングの露光後ベークにおいては、ウェハＷが、熱板１４０に対して１回目のパターニングの露光後ベーク時と同じ位置に載置される。 - 特許庁 - To achieve a double patterning process for printing dense lines by which adverse effects after first pattering and before second patterning are mitigated.
第１のパターニングの後の、および第２のパターニングの前のエッチングプロセスの悪影響が緩和される、密ラインを印刷するためのダブルパターニングプロセスを実現する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning an organic layer in which a patterning is carried out by reducing an effect to the organic layer after the organic layer is coated on all surfaces.
有機層のパターニング方法において、有機層を全面塗布した後、有機層への影響を低減してパターニングを行う方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method of an optical element surface with which an even pattern is effectively formed on the surface of an optical element and quality of the patterning is enhanced.
光学素子の表面に効率良く均一なパターンを形成してパターニングの品質を高める光学素子表面のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - The first clamp device clamps a substrate from a direction parallel to a plane of the patterning device, a direction perpendicular to the plane of the patterning device and a rotational direction.
第１のクランプは、パターニングデバイスの平面に平行の方向、パターニングデバイスの平面に直角の方向および回転方向から基板をクランプしている。 - 特許庁 - To provide a patterning method of easily patterning a conductive film, an organic electroluminescence device, a circuit board, and an electronic apparatus.
本発明は、簡易に導電性膜をパターニングすることができる薄膜のパターニング方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、回路基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - The liquid repellent treatment 10 consists of a liquid repellent film forming process 10a for forming a liquid repellent film on the glass substrate, and a patterning process 10b for patterning the liquid repellent film.
撥液処理１０は、ガラス基板に撥液膜を形成する撥液膜形成工程１０ａと撥液膜をパターニングするパターニング工程１０ｂとからなる。 - 特許庁 - To provide a patterning method, capable of enlargement and detailed fine patterning, without causing degradation of the thin-film characteristics of an organic EL material, or the like, as well as, to provide a manufacturing method of a device which uses the patterning method.
有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The patterning auxiliary device has a yarn locking means (4) for locking patterning yarns (2) and a fastening mechanism (6) for holding the patterning yarns (2), wherein the thread locking means (4) and the fastening mechanism (6) are separated from each other.
柄糸（２）に係止可能な糸係止手段（４）と柄糸（２）を保持するための締付機構（６）とを有する経編機の柄出し補助装置において、前記糸係止手段（４）と前記締付機構（６）とが相互に分離されている。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of making exposure patterning in a short time possible, and improving the accuracy of the exposure patterning as well at the time of performing patterning on the surface of a substrate, especially the substrate surface of low photosensitivity or the substrate surface to which surface treatment is performed with a liquid-repellent agent, a coupling agent or plasma treatment or the like.
基板の表面、特に感光性が低い基板表面、あるいは撥液剤、カップリング剤、プラズマ処理等で表面処理を行なった基板表面にパターニングを行うに際して、より短時間での露光パターニングを可能とし、併せて露光パターニングの精度も向上させることができるパターニング方法を提案する。 - 特許庁 - In the patterning method, marks on a wafer W are detected by mark detection systems ALG1, ALG2, patterning for the wafer W is started using the detection results, marks on the wafer W are also detected by the mark detection systems ALG1, ALG2 even after starting the patterning, and the detection results are used in the patterning.
パターン形成方法では、ウエハＷ上のマークをマーク検出系ＡＬＧ１、ＡＬＧ２で検出し、その検出結果を用いてウエハＷに対するパターン形成を開始するとともに、パターン形成開始後もマーク検出系ＡＬＧ１、ＡＬＧ２でウエハＷ上のマークを検出し、パターン形成でその検出結果を用いる。 - 特許庁 - An aluminum pad 170 is formed in the opening by patterning/etching steps.
パターニング、エッチング工程によって、開口内に、アルミニウム・パッド１７０を形成する。 - 特許庁 - To provide a method and a system of preparing data used in a patterning device.
パターニングデバイスで使用するデータを準備する方法およびシステムを提供する。 - 特許庁 - Patterning of a mark 11a-2 can be carried out in the planar surface with a high degree of precision.
平面部には、マーク１１ａ−２を高精度にパターニングすることができる。 - 特許庁 - The conductive layer is subjected to patterning treatment by wet etching to form wiring 2.
そして、導体層１２をウエットエッチングによりパターニンして配線２を形成する。 - 特許庁 - To provide an active type display device excellent in precision of patterning.
パターニングの精度に優れたアクティブ型表示素子を提供すること目的とする。 - 特許庁 - WINDOW WITH APERTURE COPING WITH LIGHTING TO ACTIVE REGION OF PATTERNING DEVICE
パターニングデバイスのアクティブ領域への照明超過に対応可能な開口付き窓 - 特許庁
