「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 14 15 16 17 18 19 20 21 22 .... 78 79 次へ＞- A cell gap is maintained by the spacer produced by patterning, while light is condensed on the pixels.
パターニングにより作製したスペーサーでセルギャップを保持すると同時に画素に光を集光する。 - 特許庁 - FLUOROALCOHOL COMPOUND, FLUORINATED MONOMER, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
フッ素アルコール化合物、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - MASK PATTERN FORMING METHOD, PATTERNING METHOD USING MASK PATTERN, AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD MANUFACTURING METHOD
マスクパターンの形成方法、該マスクパターンを用いたパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - Next, a resist is applied on the upper layer TiN film 6 and patterning is performed to form a resist film 1.
次に、上層ＴｉＮ膜６上にレジストを塗布してパターニングしてレジスト膜１を形成する。 - 特許庁 - RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE
レジストパターン、レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - Part of a semiconductor film left on a substrate after patterning is grasped according to a mask.
半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁 - A lithographic apparatus where two patterning devices are simultaneously exposed onto a substrate and a method therefor are disclosed.
２つのパターニングデバイスを基板に同時に露光するリソグラフィ装置及び方法が開示される。 - 特許庁 - The exposure apparatus comprises: an illumination optical system; a patterning device; a substrate table; and a projection optical system.
露光装置は、照明光学系と、パターニング用デバイスと、基板テーブルと、投影光学系を備える。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS USING THE SAME, AND RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL
レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料 - 特許庁 - To provide a multilayer film structure for allowing a photoresist to remain being appropriately shaped after patterning.
パターニングされて残置するフォトレジストの形状を適切にする多層膜構造を設計する。 - 特許庁 - Additionally, patterning the synthetic resin sheet gives accent to the synthetic resin sheet, so as to change visual impressions.
また、模様を施すことで、合成樹脂シートにアクセントが付いて視覚的印象を変える。 - 特許庁 - A first resist mask having an array with an aperture is formed by patterning the first resist film (S5).
第一レジスト膜をパターニングして開口のアレイを有する第一レジストマスクを形成（Ｓ５）する。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of appropriately grouping the patterns in the same layer.
同一レイヤーのパターンを適切にグループ化することが可能なパターン処理方法を提供する。 - 特許庁 - The crystalline substrate has fine irregularities and includes an epitaxial surface without need of patterning.
結晶性基板は微細な凹凸を備えるとともにパターニング不要のエピタキシャル表面を有する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY COMPONENT AND PLASMA DISPLAY USING THE SAME
パターン形成方法、並びにこれを用いたプラズマディスプレイ部材およびプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁 - Metal wiring 110 is formed by patterning the metal wiring layer and the etching stop film 112.
金属配線層とエッチング停止膜１１２をパターニングして金属配線１１０を形成する。 - 特許庁 - First of all, a conductive film pattern 13 is formed by patterning a conductive film to become a pair of electrodes.
まず、一対の電極となる導電膜をパターニングして、導電膜パターン１３を形成する。 - 特許庁 - The method also comprises a step of patterning the silicon carbide layer by using the patterned photoresist layer as a mask.
そして、パターン化したフォトレジスト層をマスクとして用いて、この炭化ケイ素層をパターン化する。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE BY MEANS OF DOUBLE PATTERNING PROCESS UTILIZING ACID DIFFUSION
酸拡散を利用するダブルパターニング工程による半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁 - After that, by patterning the lamination film between the titanium film 34 and the aluminum film 35, wiring 33 is obtained.
その後、チタン膜３４とアルミニウム膜３５との積層膜をパターニングして配線３３を得る。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING AND UNIAXIAL ORIENTATION OF ONE DIMENSIONAL CONJUGATED OLIGOMER AND MOLECULAR ORIENTED CONJUGATED OLIGOMER
一次元共役系オリゴマーのパターニング一軸配向方法と、分子配向共役系オリゴマー - 特許庁 - NEW ONIUM SALT, PHOTOACID GENERATOR FOR RESIST MATERIAL, RESIST MATERIAL AND PATTERNING METHOD
新規オニウム塩及びレジスト材料用光酸発生剤並びにレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a biochip capable of performing stably chemical patterning processing.
安定して化学的なパターニング処理を行うことができるバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Then, a 2nd photoresist layer 106a is formed on the black matrix layer 102 to which the patterning has been performed.
そして、パターニングされたブラックマトリクス層１０２上に第２フォトレジスト層１０６ａを形成する。 - 特許庁 - Patterning is performed on the formed nickel metal film by using a photolithographic technology, to thereby form a resist protective film.
成膜したニッケル金属膜にフォトリソ技術を用いてパターニングをしレジスト保護膜を形成する。 - 特許庁 - A lighting system is configured to form a slit type image on the flat plane of a patterning device.
照明システムは、スリット型の像をパターニングデバイスの平面に形成するように構成されている。 - 特許庁 - Conductor layers 4a to 4d are formed on the crossless layers 3a to 3d by patterning metal foils.
クロスレス層３ａ〜３ｄに、金属箔がパターニングされた導体層４ａ〜４ｄを形成する。 - 特許庁 - To provide a new pattern forming method by which the number of steps in a double patterning method can be reduced.
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR INSULATING LAYER, INSULATING LAYER MANUFACTURED BY THE SAME METHOD AND DISPLAY ELEMENT COMPRISING IT
絶縁層のパターニング方法、該方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子 - 特許庁 - To provide a technique for manufacturing a flexible wiring board free of patterning-related troubles involving metal wirings.
金属配線にパターニング不良が無いフレキシブル配線板を製造する技術を提供する。 - 特許庁 - To enable optical patterning of a thin film, having affinity for a biomaterial under mild reaction conditions.
温和な反応条件下、生体物質に親和性がある薄膜の光パターニングを可能とする。 - 特許庁 - A measuring-target patterning device controller adjusts the measuring target pattern separately from the product pattern.
計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラが、製品パターンとは別個に計測ターゲット・パターンを調整する。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING BY DRY ETCHING, MOLD USED FOR IT AND METHOD FOR MANUFACTURING INKJET HEAD
ドライエッチングによるパターニング方法及びそれに用いるモールド並びにインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁 - To provide a plating method for improving patterning accuracy.
本発明の目的の１つは、パターン精度の向上が図れるめっき方法を提供することにある。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, MASK SET, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
パターニング方法、マスクセット、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 - 特許庁 - This device 10 involves at least one sensor element 24 formed with direct patterning method.
本装置（１０）は、直接描画法によって形成された少なくとも１つのセンサ素子（２４）を含む。 - 特許庁 - To provide a curable composition for imprint excellent in mold releasability and resistance to repetitive patterning.
離型性と繰り返しパターニング耐性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - In the patterning process of a TFT array substrate for a liquid crystal display device, the substrate is subjected to division exposure.
液晶表示装置のＴＦＴアレイ基板のパターニングにおいて、基板は分割露光される。 - 特許庁 - Further, the luminous layers using photosensitive polymer is put under plastic deformation after patterning in a photolithography method.
また、感光性ポリマーを用いた発光層をフォトリソグラフィ法でパターニングした後塑性変形させる。 - 特許庁 - To provide a method for preventing or relieving misalignment etc. of a substrate and a patterning device.
基板やパターニングデバイスのミスアライメント等を未然に防ぐまたは軽減する方法を提供すること。 - 特許庁 - A patterning process of the ITO on the lower part electrode 13 can be eliminated.
本発明によって下部電極１３上のＩＴＯのパタニング工程を無くすことが出来る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an element with high patterning accuracy having no adverse effect on a substrate.
基板に悪影響を与えず、また、パターニング精度の高い素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY DEVICE
感光性樹脂組成物のパターニング方法、カラーフィルタ及びその作製方法並びに表示装置 - 特許庁 - To provide a new pattern forming method for reducing the number of steps in a double-patterning method.
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent a gate pad and a data pad from being damaged by chemicals for patterning a color filter.
カラーフィルターをパターニングする薬液によってゲートパッド及びデータパッドがダメージを受けないようにする。 - 特許庁 - The part of a semiconductor film being left on a substrate after patterning is grasped according to a mask.
半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁 - Hereby, there are ensured micro-patterning and an improvement of the accuracy of a resistance while keeping adhesiveness.
これにより、密着性を高く維持しつつ微細パターン化及び抵抗値の精度の向上を図る。 - 特許庁 - To provide a patterning method which can reduce the manufacturing cost by reducing the number of sheets of a photo mask.
フォトマスクの枚数を低減して製造コストの低減が可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning device capable of reducing cost by reducing man-hour in manufacturing a substrate.
基板製造上の工数を減らしコスト削減することができるパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - Of a semiconductor film, the portion left on a substrate after patterning is grasped in accordance with a mask.
半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁
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