「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 14 15 16 17 18 19 20 21 22 .... 78 79 次へ＞- EXPOSURE MASK, ITS DESIGN METHOD AND METHOD FOR PATTERNING RESIST LAYER FORMED ON SUBSTRATE
露光用マスク及びその設計方法、並びに、基体に形成されたレジスト層のパターニング方法 - 特許庁 - To perform patterning with high resolution while protecting an outer circumferential part of a semiconductor wafer with a resist film.
半導体ウェハの外周部をレジスト膜で保護しつつ、解像度の高いパターニングを行う。 - 特許庁 - Then, by patterning a metal film formed entirely, a metal wiring 9 is formed.
次に、全面的に形成した金属膜をパターニングすることにより、金属配線９を形成する。 - 特許庁 - MICRO-PATTERNING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT OBTAINED BY SAME
有機電界発光素子の微細パターン化方法、およびそれにより得られた有機電界発光素子 - 特許庁 - The metal film is formed simultaneously with the patterning of the excitation electrode, or the like, or is formed separately from it.
金属膜は、励振電極等のパターニングと同時に又はそれとは別に形成される。 - 特許庁 - A patterning member 16 having pattern forming elements 14 for defining a predetermined pattern is also prepared.
また、所定パターンを画定するパターン形成要素１４を有するパターニング部材１６を用意する。 - 特許庁 - MANUFACTURING PROCESS OF RESIST POLYMER, RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト用組成物、およびパターン製造方法 - 特許庁 - A first resist mask having an array with an aperture is formed by patterning the first resist film (S5).
第一レジスト膜をパターニングして開口のアレイを有する第一レジストマスクを形成（Ｓ５）する。 - 特許庁 - RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE
レジストパターン、レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - MASK PATTERN FORMING METHOD, PATTERNING METHOD USING MASK PATTERN, AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD MANUFACTURING METHOD
マスクパターンの形成方法、該マスクパターンを用いたパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - A cell gap is maintained by the spacer produced by patterning, while light is condensed on the pixels.
パターニングにより作製したスペーサーでセルギャップを保持すると同時に画素に光を集光する。 - 特許庁 - FLUOROALCOHOL COMPOUND, FLUORINATED MONOMER, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
フッ素アルコール化合物、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - To reduce a risk of slipping of a patterning device held by a support such as a lithographic apparatus.
リソグラフィ装置などの支持体によって保持されているパターニングデバイスの滑りを低減させること。 - 特許庁 - Various types of patterning 5 can be applied on the pattern coating layer 4.
さらに、この模様塗り層４に対しては各種のパターン付け模様５を付加することができる。 - 特許庁 - The second clamp device clamps the patterning device only in the direction parallel to the substrate plane.
第２のクランプデバイスは、基板の平面に平行の方向にのみパターニングデバイスをクランプしている。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a method for preventing or relieving misalignment etc. of a substrate and a patterning device.
基板やパターニングデバイスのミスアライメント等を未然に防ぐまたは軽減する方法を提供すること。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING BY DRY ETCHING, MOLD USED FOR IT AND METHOD FOR MANUFACTURING INKJET HEAD
ドライエッチングによるパターニング方法及びそれに用いるモールド並びにインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁 - To provide a plating method for improving patterning accuracy.
本発明の目的の１つは、パターン精度の向上が図れるめっき方法を提供することにある。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, MASK SET, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
パターニング方法、マスクセット、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 - 特許庁 - A measuring-target patterning device controller adjusts the measuring target pattern separately from the product pattern.
計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラが、製品パターンとは別個に計測ターゲット・パターンを調整する。 - 特許庁 - Further, the luminous layers using photosensitive polymer is put under plastic deformation after patterning in a photolithography method.
また、感光性ポリマーを用いた発光層をフォトリソグラフィ法でパターニングした後塑性変形させる。 - 特許庁 - A lithographic apparatus where two patterning devices are simultaneously exposed onto a substrate and a method therefor are disclosed.
２つのパターニングデバイスを基板に同時に露光するリソグラフィ装置及び方法が開示される。 - 特許庁 - To prevent a gate pad and a data pad from being damaged by chemicals for patterning a color filter.
カラーフィルターをパターニングする薬液によってゲートパッド及びデータパッドがダメージを受けないようにする。 - 特許庁 - To provide a new pattern forming method for reducing the number of steps in a double-patterning method.
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY DEVICE
感光性樹脂組成物のパターニング方法、カラーフィルタ及びその作製方法並びに表示装置 - 特許庁 - The part of a semiconductor film being left on a substrate after patterning is grasped according to a mask.
半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁 - Hereby, there are ensured micro-patterning and an improvement of the accuracy of a resistance while keeping adhesiveness.
これにより、密着性を高く維持しつつ微細パターン化及び抵抗値の精度の向上を図る。 - 特許庁 - To provide a technique for manufacturing a flexible wiring board free of patterning-related troubles involving metal wirings.
金属配線にパターニング不良が無いフレキシブル配線板を製造する技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning device capable of reducing cost by reducing man-hour in manufacturing a substrate.
基板製造上の工数を減らしコスト削減することができるパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - The wiring layer 26 is covered by a protective film 28, and then a resist film 30 is formed for patterning.
配線層２６を保護膜２８で被覆した後、レジスト膜３０を形成してパターニングを行う。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of forming a regular fine pattern in a short time.
短時間で規則的な微細パターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a slippage prevention solution of a patterning device which can function under high acceleration.
高加速度下で機能することができるパターニングデバイスのスリップ防止解決法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein side etching is suppressed and patterning accuracy is increased.
サイドエッチが抑制されたパターニング精度の高い半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Of a semiconductor film, the portion left on a substrate after patterning is grasped in accordance with a mask.
半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁 - To provide a patterning method which can reduce the manufacturing cost by reducing the number of sheets of a photo mask.
フォトマスクの枚数を低減して製造コストの低減が可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - NEW ONIUM SALT, PHOTOACID GENERATOR FOR RESIST MATERIAL, RESIST MATERIAL AND PATTERNING METHOD
新規オニウム塩及びレジスト材料用光酸発生剤並びにレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a biochip capable of performing stably chemical patterning processing.
安定して化学的なパターニング処理を行うことができるバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING AND UNIAXIAL ORIENTATION OF ONE DIMENSIONAL CONJUGATED OLIGOMER AND MOLECULAR ORIENTED CONJUGATED OLIGOMER
一次元共役系オリゴマーのパターニング一軸配向方法と、分子配向共役系オリゴマー - 特許庁 - To provide a novel process for patterning by depositing an organic semiconductor layer in an organic electronic device.
有機電子デバイス内に有機半導体層を堆積させパターニングする新規なプロセスを提供する。 - 特許庁 - A control gate 14 is formed by patterning the polysilicon layer 12 containing phosphorus which is diffused therein.
リンが拡散されたポリシリコン層１２をパターニングすることにより、コントロールゲート１４を形成する。 - 特許庁 - Next, a resist is applied on the upper layer TiN film 6 and patterning is performed to form a resist film 1.
次に、上層ＴｉＮ膜６上にレジストを塗布してパターニングしてレジスト膜１を形成する。 - 特許庁 - The crystalline substrate has fine irregularities and includes an epitaxial surface without need of patterning.
結晶性基板は微細な凹凸を備えるとともにパターニング不要のエピタキシャル表面を有する。 - 特許庁 - Metal wiring 110 is formed by patterning the metal wiring layer and the etching stop film 112.
金属配線層とエッチング停止膜１１２をパターニングして金属配線１１０を形成する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY COMPONENT AND PLASMA DISPLAY USING THE SAME
パターン形成方法、並びにこれを用いたプラズマディスプレイ部材およびプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁 - A lighting system is configured to form a slit type image on the flat plane of a patterning device.
照明システムは、スリット型の像をパターニングデバイスの平面に形成するように構成されている。 - 特許庁 - Then, a 2nd photoresist layer 106a is formed on the black matrix layer 102 to which the patterning has been performed.
そして、パターニングされたブラックマトリクス層１０２上に第２フォトレジスト層１０６ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a multilayer film structure for allowing a photoresist to remain being appropriately shaped after patterning.
パターニングされて残置するフォトレジストの形状を適切にする多層膜構造を設計する。 - 特許庁 - First of all, a conductive film pattern 13 is formed by patterning a conductive film to become a pair of electrodes.
まず、一対の電極となる導電膜をパターニングして、導電膜パターン１３を形成する。 - 特許庁 - The method also comprises a step of patterning the silicon carbide layer by using the patterned photoresist layer as a mask.
そして、パターン化したフォトレジスト層をマスクとして用いて、この炭化ケイ素層をパターン化する。 - 特許庁
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