「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 78 79 次へ＞- A distance between the bumps 22 and the solder resists 16 is set on the basis of a mask overlay accuracy of the patterning.
バンプ２２−ソルダーレジスト１６間の間隔は、パターニングのマスク合わせ精度に基づいて設定される。 - 特許庁 - To provide a patterning method for reducing imperfect patterns of a semiconductor device due to contamination.
本発明は、異物による半導体装置のパターン不良を低減するためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
多数個取り配線基板およびその製造方法ならびに配線基板およびその製造方法 - 特許庁 - CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PATTERNING AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE RESIST COMPOSITION
架橋剤、ネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品 - 特許庁 - The thin-film heater 8 and the temperature-detecting part 7 are formed by a resistor layer 3 subjected to patterning.
そして、パターニングされた抵抗体層３によって薄膜ヒータ８と温度検出部７とを形成する。 - 特許庁 - FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, PATTERNING METHOD, OPTICAL APPARATUS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
製膜装置、製膜方法、パターニング方法、光学装置の製造方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a patterning grinding sheet having pattern structure of an optional irregular pattern corresponding to its application.
用途に応じた任意の凹凸模様のパターン構造を有する研磨シートの製造方法の提供。 - 特許庁 - To enable patterning a color filter with high accuracy and reducing the residues of a photosensitive resin film.
カラーフィルタを高精度にパターン加工することが可能であって、感光性樹脂膜の残渣を減少する。 - 特許庁 - The patterning method accomplishies the patterning of organic semiconductor by manufacturing a donor film by a wet method using an organic semiconductor precursor having a heat-decomposable substituent, carrying out heat treatment after carrying out patterning on a substrate using the donor film, and converting the organic semiconductor precursor into organic semiconductor.
熱分解の可能な置換基を有する有機半導体前駆体を利用して湿式法でドナーフィルムを製造し、ドナーフィルムを利用して基材上にパターニングした後に熱処理を行って、前記有機半導体前駆体を有機半導体に転換させることによって有機半導体のパターニングを達成するパターニング方法。 - 特許庁 - The patterning device is then excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof.
ここで、パターニングデバイスは、実質上動的力によって励振され、パターニングデバイスの微小滑りが可能になる。 - 特許庁 - Next, a mask film 91 is formed on the surface of a substrate 10, and patterning is performed for a gate trench 21.
次に，基板１０の表面にマスク膜９１を形成し，ゲートトレンチ２１用のパターニングを行う。 - 特許庁 - A WSi film is formed on the amorphous Si film 7, and patterning is carried out so that a gate electrode can be formed.
非晶質Ｓｉ膜７上にＷＳｉ膜を形成し、パターンニングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁 - MULTI-LAYER PRINTED WIRING SUBSTRATE, PATTERNING METHOD THEREFOR, AND INSPECTION APPARATUS USING CHECK LAND
多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置 - 特許庁 - The 2nd pole part 220 having a track width W20 is formed by a patterning process of photolithography.
トラック幅Ｗ２０の第２のポール部２２０を、フォトリソグラフィによるパターンニング工程によって形成する。 - 特許庁 - By patterning the source-drain layer 24, a source region 24a and a drain region 24b are formed.
ソース・ドレイン層２４をパターニングすることにより、ソース領域２４ａおよびドレイン領域２４ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition and a method of patterning a semiconductor element using the composition.
ネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Another method for epitaxially depositing a silicon layer over the SiGe layer prior to patterning is provided.
パターニングの前にＳｉＧｅ層上にシリコン層をエピタキシャルに堆積する別の方法が提供される。 - 特許庁 - OBSERVATION METHOD FOR ULTRAVIOLET PHOTOLYSIS PROCESS IN MONOMOLECULAR FILM, CONTROL METHOD FOR SURFACE DECOMPOSITION DEGREE, AND PATTERNING METHOD
単分子膜の紫外線分解過程の観測方法、表面分解度の制御方法及びパターニング方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE, SUBSTRATE OF ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE, AND METHOD OF PATTERNING SUBSTRATE
有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a lithography projection apparatus which is constructed so as to project patterns from a patterning device to a substrate.
パターニングデバイスから基板へとパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁 - The halftone phase shift mask 20 is obtained by patterning the halftone phase shift mask blank 10.
さらに、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス１０をパターニング処理してハーフトーン型位相シフトマスク２０を得る。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE OF ORGANIC EL ELEMENT PATTERNING, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT, AND ORGANIC EL ELEMENT
有機ＥＬ素子のパターンニング方法及び装置、有機ＥＬ素子の作成方法、並びに、有機ＥＬ素子 - 特許庁 - To provide a method of patterning a self-assembly nano-structure, and then forming a porous dielectric layer.
自己集合ナノ構造をパターン化しそして多孔性誘電体層を形成する方法を提供する。 - 特許庁 - Patterning is performed such that an opening 17 is formed in the gate electrode forming region of the polysilicon film 15.
パターニングは、ポリシリコン膜１５のゲート電極形成領域に開口部１７が形成されるように行う。 - 特許庁 - By doing this, it becomes possible to perform the typical patterning on a large amount of the cloth P in a good efficiency.
このようにすれば、効率よく大量の布Ｐに定型的な模様付を行うことが可能となる。 - 特許庁 - METHOD AND MATERIAL FOR PATTERNING OF POLYMERIZABLE, AMORPHOUS MATRIX WITH ELECTRICALLY ACTIVE MATERIAL DISPOSED THEREIN
電気活性材料が内部に配置された重合性非晶質母材のパターン化方法および材料 - 特許庁 - The present invention includes a circuit board divided from the multiple patterning circuit board and a module that uses this circuit board.
この多数個取り回路基板から分割された回路基板と、この回路基板を用いたモジュール。 - 特許庁 - Then, a hole section 15a and a wiring groove 15b are successively subjected to patterning to the second interlayer insulating film 15.
次に、第２の層間絶縁膜１５に孔部１５ａ及び配線溝１５ｂを順次パターニングする。 - 特許庁 - To provide an improved magnet assembly for use by a support holding a substrate or patterning device.
基板あるいはパターニングデバイスを支持する支持体のための改善された磁石アセンブリを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of forming an oxide film pattern and a patterning method for a semiconductor device using it.
酸化膜パターンの形成方法及びこれを用いた半導体素子のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic device includes a lighting system adjusting radiation beams and a support supporting a patterning device.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システム、及びパターニングデバイスを支持する支持体を含む。 - 特許庁 - METAL OXIDE-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, METAL OXIDE-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE, AND PATTERNING PROCESS
金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁 - The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern.
パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線のビームにパターンを形成するように構成される。 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING SAME
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a machining method and a machining apparatus that can control a patterning shape, and has superior machining precision.
パターンニング形状を制御でき、かつ、加工精度に優れた加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL LIGHTING
有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子、有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁 - ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL LIGHTING, AND ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE
有機電界発光素子、有機ＥＬ表示装置、有機ＥＬ照明および有機薄膜パターニング用基板 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system IL to provide a beam of radiation and a support structure for supporting a patterning device.
装置は、放射ビームを供給する照明システムと、パターニング・デバイスを支持する支持構造とを含む。 - 特許庁 - To obtain a method for patterning a resist which is capable of forming the patterns of finer semiconductor integrated circuits.
さらに微細な半導体集積回路のパターンを形成することができるレジストのパターニング方法を得る。 - 特許庁 - The resist film 4 on the side faces 1c, 1d is exposed from the opening 8a to apply patterning to the resist film 4.
開口８ａから側面１ｃ、１ｄ上のレジスト膜４を露光し、レジスト膜４をパターニングする。 - 特許庁 - TRANSPARENT ELECTRODE AND ITS PATTERNING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME
透明電極及び透明電極のパターニング方法及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁 - Then, a photoresist film 18 is formed on the insulation film 16, and then the photoresist film 18 is subjected to patterning.
続いて、絶縁膜１６上にフォトレジスト膜１８を成膜し、次いでフォトレジスト膜１８をパターニングする。 - 特許庁 - A light patterning system comprises an illumination system that supplies a beam of radiation having a certain wavelength λ.
光パターニング・システムは、一定の波長λを有する放射ビームを供給する照明系を備える。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, TREATMENT DEVICE FOR PHOTOMASK SUBSTRATE, AND THIN FILM PATTERNING METHOD
フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、フォトマスク基板用処理装置、及び薄膜パターニング方法 - 特許庁 - The patterning of the front electrode layer and the semiconductor layer is executed using a laser emitting infrared ray.
前側電極層および半導体層のパターン加工が、赤外放射を発するレーザによって行われる。 - 特許庁 - In the manufacturing method of optical waveguide, patterning of the core shapes is performed by irradiation with direct laser beams.
コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射により行う光導波路の製造方法である。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a front-side electrode layer made of zinc oxide of a photovoltaic module.
光起電モジュールの酸化亜鉛製の前側電極層をパターン加工するための方法を提供する。 - 特許庁 - LAMINATE FOR PRINTED WIRING BOARD, PATTERNING METHOD OF MULTILAYER METAL WIRING EMPLOYING IT, AND METAL THIN FILM
プリント配線板用積層体、それを用いた多層金属配線パターン形成方法及び金属薄膜 - 特許庁 - A microcapsule including an etching agent is disposed in a prescribed position on a surface of a substrate and patterning is performed.
基板の表面上の所定部位に、エッチング剤を内包するマイクロカプセルを配してパターニングを行った。 - 特許庁 - Formation of the contour shape and patterning of the electrode films of desired shapes are carried out by laser machining.
輪郭形状形成、及び所望の形状の電極膜のパターン形成をレーザー加工によって行う。 - 特許庁
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