「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 78 79 次へ＞- To manufacture a display device decreasing a deterioration factor of luminescent characteristics by efficiently patterning high definition pixels.
発光特性の劣化要因を軽減し、高精細な画素の効率的なパターニングにより表示装置を製造することである。 - 特許庁 - To make it possible to attain a fine pattern having an excellent shape by preventing the generation of pattern defect in double patterning.
ダブルパターニングにおけるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - Then, the W film 3 is etched to perform patterning by using the upper layer TiN film 6 and the SiN film 2 as a mask.
次に、上層ＴｉＮ膜６およびＳｉＮ膜２をマスクとしてＷ膜３をエッチングしてパターニングするものである。 - 特許庁 - In the pattern forming method, the metal mask 4 is used to dry-etch a film for patterning, and the metal mask 4 is removed.
この金属マスク４を用いて膜をドライエッチングしてパターニングし、金属マスク４を除去するパターン形成方法である。 - 特許庁 - RED CONVERSION FILTER, ITS PATTERNING METHOD, MULTI-COLOR CONVERSION FILTER CONTAINING THE RED CONVERSION FILTER AND ORGANIC EL DISPLAY
赤色変換フィルタおよびそのパターニング方法、該赤色変換フィルタを含む多色変換フィルタおよび有機ＥＬディスプレイ - 特許庁 - Patterning at the 1st stage determines an n-channel well region 34 and the end of an opposite gate electrode 39.
第１段階目のパターニングによりＮ型ウェル領域３４側と反対側のゲート電極３９端が規定される。 - 特許庁 - To simplify a patterning process while improving the level of pattern precision of an organic semiconductor layer.
本発明によれば、有機半導体層のパターン精密度を改善しながら、パターニング工程を単純化することができる。 - 特許庁 - To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.
ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - A silicon oxide layer 4 is formed on a polysilicon layer 3 in a step (b), and the patterning of the silicon oxide layer 4 is carried out in a step (c).
ポリシリコン層３上に酸化シリコン層４を形成し（図１（ｂ））、酸化シリコン層４をパターニングする（図１（ｃ））。 - 特許庁 - Contact holes 103 to 106 are obtained by exposing the film through the first light transmitting part 101 of a photomask 100 and performing patterning.
フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁 - To realize fine patterning and reduction of ON resistance in an MOSFET for high frequency amplification having a drain offset region.
ドレインオフセット領域を有する高周波増幅用ＭＯＳＦＥＴにおいて、微細化およびオン抵抗低減を図る。 - 特許庁 - To provide a developing apparatus and a developing method which can improve the patterning precision of a resist development and have high reliability.
レジストの現像のパターニング精度を向上させ、信頼性の高い現像装置及び現像方法を提供する。 - 特許庁 - Moreover, patterning of the core electrode 13 is applied using a non-etching means such as screen printing, inkjet printing and laser beam machining.
また、コア電極１３を、スクリーン印刷やインクジェット印刷やレーザ加工等の非エッチング手段を用いてパターニングする。 - 特許庁 - To provide a vertical cavity surface emission laser (VCSEL) which uses mode control and is formed by selective patterning of an upper side mesa structure.
上側メサ構造体の選択的パターニングにより形成された、モード制御を伴うＶＣＳＥＬを提供すること。 - 特許庁 - PATTERN AND PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND PROCESS FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PATTERNING ON LIGHT-SENSITIVE SURFACE BY USING MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM HAVING SPATIAL LIGHT MODULATOR
空間光変調器を有するマスクレスリソグラフィシステムを用いて光感応性表面にパターンをプリントする方法および装置 - 特許庁 - When a first patterning is performed, the position of the wafer W on a hot plate is detected in conducting after-exposure baking (S2).
１回目のパターニングにおいて、露光後ベークが行われる際に、熱板上のウェハＷの位置を検出する（Ｓ２）。 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF PATTERNING THIN FILM USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL USING THE SAME
フォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMING SUBSTRATE AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - SUBSTRATE APPLIED WITH PATTERNING AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD
パターニングが施された基板およびその製造方法、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR IMPROVED LITHOGRAPHIC PATTERNING UTILIZING MULTIPLE COHERENCY OPTIMIZED EXPOSURES AND HIGH TRANSMISSIVITY ATTENUATED PSM
多重可干渉性最適化露出および高透過率減衰ＰＳＭを利用する、改良したリソグラフィパターニングのための方法 - 特許庁 - When a two-layer gate electrode is formed by patterning the films, a side etching part is formed only on the upper layer metal thin film 6.
これらをパターニングして２層ゲート電極を形成するとき、上層金属薄膜６のみサイドエッチング部を形成する。 - 特許庁 - This micro-patterning culture substrate comprises a cell culture substrate 2 and a water-soluble photocurable polymer 3, patterned on the cell culture substrate 2.
細胞培養基材２と、細胞培養基材２上にパターニングされた水溶性光硬化性ポリマー３とを備えた。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a laminated structure in which good patterning can be made in a superior form by preventing side etching.
サイドエッチングを防止して良好な形状にパターニングすることができる積層構造の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system that provides a beam of radiation and a support structure that supports a patterning structure.
該リソグラフィ装置は放射線のビームを供給する照明システムと、パターニング構造を支持する支持構造を配備する。 - 特許庁 - To obtain a positive type radiation sensitive composition having high sensitivity and such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - The upper-layer rewiring 16 formed by patterning a metal plate is formed on predetermined places of the upper surface of the insulating film 15.
絶縁膜１５の上面の所定の箇所には、金属板をパターニングしてなる上層再配線１６を形成する。 - 特許庁 - The content of nitrogen and oxygen is controlled to be 65% or lower so as to suppress degradation in the cross-sectional profile, at patterning.
また、パターニング時の断面形状悪化を抑制するために、窒素と酸素の含有率を６５％以下としている。 - 特許庁 - To carry out patterning to a base plate superior in the transferability of ink from a blanket to the base plate with high precision.
ブランケットから基板へのインキの転移性が良好で、かつ高精度で基板へのパターニングを行うことを可能とする。 - 特許庁 - NAPHTHALENE DERIVATIVE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME, RESIST BOTTOM LAYER MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST BOTTOM LAYER, AND PATTERNING PROCESS
ナフタレン誘導体及びその製造方法、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a thin film solar cell in which accurate positioning and laser processing of a patterning line can be performed.
パターニングラインの正確な位置合わせ及びレーザ加工が行える薄膜太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an organic semiconductor device capable of efficiently patterning an organic semiconductor with high accuracy.
高い精度で効率良く有機半導体をパターニングすることができる有機半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A semiconductor substrate 7 has a mask 10 for patterning a wiring layer 9 which is formed on the wiring layer 9.
配線層９の上に、配線層９をパターニングするためのマスク１０が形成された半導体基板７を準備する。 - 特許庁 - Thereafter, a gate electrode layer is obtained by patterning the layer 14 by dry etching by using the resist layers 18a and 18b as masks.
この後、レジスト層１８ａ，１８ｂをマスクとするドライエッチングにより層１４をパターニングしてゲート電極層を得る。 - 特許庁 - The height of the gate electrode formed by patterning the conductive layer is lowered by removing the upper part.
その後、導電層をパターニングすることにより形成されるゲート電極の高さは、上部が除去された分低くなる。 - 特許庁 - An optional pattern is formed by patterning a photo paste by printing, exposing, developing, drying and firing.
フォトペーストを印刷によりパターニングした後、露光および現像を行い、乾燥焼成により任意のパターンを形成する。 - 特許庁 - SILSESQUIOXANE-BASED COMPOUND MIXTURE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME MIXTURE AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD EACH USING THE SAME MIXTURE
シルセスキオキサン系化合物混合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁 - Nickel layers 4 are formed by electroforming using a chromium film layer 2 being exposed by the patterning of resists 3 as an electrode (c).
レジスト３のパターニングにより露出したクロム膜層２を電極として、電鋳によりニッケル層４を形成する（ｃ）。 - 特許庁 - The patterning device PD is equipped with the array of the mechanical element which can be individually controlled for imparting patterns to a radiation beam.
パターニング用デバイスPDは、放射ビームにパターンを付与するための個別に制御可能な機械要素のアレイを備える。 - 特許庁 - The conductor 3 is formed by patterning a copper foil on the surface of the ceramic board 2 by etching.
導電体３は、セラミック基板２の表面に設けられた銅箔がエッチングによってパターンニングされて形成されている。 - 特許庁 - To obtain a photosensitive heat resistant resin precursor composition having good suitability to patterning and excellent in shelf stability.
良好なパターン加工性を有し、保存安定性に優れた感光性耐熱樹脂前駆体組成物を得ることができる。 - 特許庁 - To improve reliability of an operation of positioning a wiring substrate being manufactured when patterning is performed on the wiring substrate.
配線基板のパターニングを行なう際に、製造途中の配線基板の位置決めの動作の信頼性を向上させる。 - 特許庁 - The circuits 5 are formed by using the uneven parts 2 formed on the insulating base member 1 as contour, so that patterning becomes unnecessary.
回路５は絶縁性基材１に設けられた凹凸部２を輪郭として形成され、パターンニング工程が不要になる。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning substrate wherein the distance from a splitting groove to a wiring conductor is formed in a prescribed distance.
分割溝から配線導体までの距離が所定距離に形成された多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁 - For the process for patterning the crystal element, a wet etching method is used for solving problems.
また、上述する水晶素子にパターンニングする工程にはウェットエッチング工法を用いることにより課題を解決する。 - 特許庁 - To provide a method of preparing patterning seal sheets which has rendered assembly operation simple to realize cost reduction.
組立作業を簡潔にしてコスト低減を実現したパターンニングシールシートの製法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The patterning device forms a pattern on a transparent substrate where a large number of identical gate electrode patterns are formed regularly.
パターン形成装置は、同一のゲート電極パターンが多数規則的に形成された透明な基板にパターンを形成する。 - 特許庁 - EXPOSURE DEVICE, ELECTROSTATIC CHUCK FOR REFLECTIVE EXPOSURE MASK, PATTERNING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
露光装置、反射型露光マスク用静電チャック、パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁 - To provide a transflective in-plane switching (TIPS) liquid crystal display (LCD) having a patterning retardation film.
本発明は、パターニング位相差フィルムを有する半透過型イン・プレーンスイッチング（ＴＩＰＳ）液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を提供する。 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION FOR PATTERNING INDIUM TIN OXIDE, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME ETCHING SOLUTION
インジウム錫酸化物のパターニングのためのエッチング溶液及び該エッチング溶液を利用した液晶表示装置の製造方法 - 特許庁
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