「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 78 79 次へ＞- To make it possible to attain a fine pattern having an excellent shape by preventing the generation of pattern defect in double patterning.
ダブルパターニングにおけるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method in which uniform patterning can be performed, and a manufacturing method for a color filter.
ムラのないパターニングが可能なパターン形成方法及びカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a novel method for patterning and forming a ceramic green tape which does not contain photoimage formable components.
光画像形成可能な成分を含有することのないセラミックグリーンテープをパターン形成する新規方法の提供。 - 特許庁 - To provide a flexible printed circuit board in which an adhesion strength is firm without acting an adhesive and in which fine patterning is possible.
接着剤を使用しないで密着強度の強固でファインパターン化が可能なフレキシブルプリント基板を提供する。 - 特許庁 - As shown in diagram (e), a patterning film 6 made of SiO2, for example, is formed on a seed film 5 which is outside a recessed part 3.
図１(e) に示すように、凹部３外のシード膜５上に、たとえばＳｉＯ_2からなるパターニング膜６を形成する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method that can realize highly accurate patterning even when the film is made of photosensitive resin or the like and is thick.
非感光性樹脂等からなる厚膜であっても、高精度のパターニングが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the pattern forming method, the metal mask 4 is used to dry-etch a film for patterning, and the metal mask 4 is removed.
この金属マスク４を用いて膜をドライエッチングしてパターニングし、金属マスク４を除去するパターン形成方法である。 - 特許庁 - After patterning, a beam provided with a moat and the heat-sensitive sections 5 and 6 bridging the moat is formed on the substrate 2.
パターニング後に絶縁性基板に堀とこの堀を架橋していて感熱部が設けられている梁とを形成する。 - 特許庁 - Then, the W film 3 is etched to perform patterning by using the upper layer TiN film 6 and the SiN film 2 as a mask.
次に、上層ＴｉＮ膜６およびＳｉＮ膜２をマスクとしてＷ膜３をエッチングしてパターニングするものである。 - 特許庁 - Here, the protective film is formed of a material having resistance to a solution used to perform patterning of the resist.
ここで、保護膜は、レジストをパターニングする際に用いられる溶液に対する耐性を有する材料から形成される。 - 特許庁 - Contact holes 103-106 are formed by executing patterning by exposure through the first translucent part 101 of a photomask 100.
フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁 - To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.
ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - To realize fine patterning and reduction of ON resistance in an MOSFET for high frequency amplification having a drain offset region.
ドレインオフセット領域を有する高周波増幅用ＭＯＳＦＥＴにおいて、微細化およびオン抵抗低減を図る。 - 特許庁 - To provide a developing apparatus and a developing method which can improve the patterning precision of a resist development and have high reliability.
レジストの現像のパターニング精度を向上させ、信頼性の高い現像装置及び現像方法を提供する。 - 特許庁 - Contact holes 103 to 106 are obtained by exposing the film through the first light transmitting part 101 of a photomask 100 and performing patterning.
フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁 - RED CONVERSION FILTER, ITS PATTERNING METHOD, MULTI-COLOR CONVERSION FILTER CONTAINING THE RED CONVERSION FILTER AND ORGANIC EL DISPLAY
赤色変換フィルタおよびそのパターニング方法、該赤色変換フィルタを含む多色変換フィルタおよび有機ＥＬディスプレイ - 特許庁 - Patterning at the 1st stage determines an n-channel well region 34 and the end of an opposite gate electrode 39.
第１段階目のパターニングによりＮ型ウェル領域３４側と反対側のゲート電極３９端が規定される。 - 特許庁 - To simplify a patterning process while improving the level of pattern precision of an organic semiconductor layer.
本発明によれば、有機半導体層のパターン精密度を改善しながら、パターニング工程を単純化することができる。 - 特許庁 - Moreover, patterning of the core electrode 13 is applied using a non-etching means such as screen printing, inkjet printing and laser beam machining.
また、コア電極１３を、スクリーン印刷やインクジェット印刷やレーザ加工等の非エッチング手段を用いてパターニングする。 - 特許庁 - To provide a vertical cavity surface emission laser (VCSEL) which uses mode control and is formed by selective patterning of an upper side mesa structure.
上側メサ構造体の選択的パターニングにより形成された、モード制御を伴うＶＣＳＥＬを提供すること。 - 特許庁 - PATTERN AND PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND PROCESS FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PATTERNING ON LIGHT-SENSITIVE SURFACE BY USING MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM HAVING SPATIAL LIGHT MODULATOR
空間光変調器を有するマスクレスリソグラフィシステムを用いて光感応性表面にパターンをプリントする方法および装置 - 特許庁 - A silicon oxide layer 4 is formed on a polysilicon layer 3 in a step (b), and the patterning of the silicon oxide layer 4 is carried out in a step (c).
ポリシリコン層３上に酸化シリコン層４を形成し（図１（ｂ））、酸化シリコン層４をパターニングする（図１（ｃ））。 - 特許庁 - When a first patterning is performed, the position of the wafer W on a hot plate is detected in conducting after-exposure baking (S2).
１回目のパターニングにおいて、露光後ベークが行われる際に、熱板上のウェハＷの位置を検出する（Ｓ２）。 - 特許庁 - The circuits 5 are formed by using the uneven parts 2 formed on the insulating base member 1 as contour, so that patterning becomes unnecessary.
回路５は絶縁性基材１に設けられた凹凸部２を輪郭として形成され、パターンニング工程が不要になる。 - 特許庁 - An optional pattern is formed by patterning a photo paste by printing, exposing, developing, drying and firing.
フォトペーストを印刷によりパターニングした後、露光および現像を行い、乾燥焼成により任意のパターンを形成する。 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMING SUBSTRATE AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - When a two-layer gate electrode is formed by patterning the films, a side etching part is formed only on the upper layer metal thin film 6.
これらをパターニングして２層ゲート電極を形成するとき、上層金属薄膜６のみサイドエッチング部を形成する。 - 特許庁 - COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME
着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a composite substrate capable of patterning a thin film of a functional material substrate without etching.
機能性材料基板の薄膜をエッチングすることなくパターニングできる複合基板の製造方法の提供を図る。 - 特許庁 - Subsequently, a resist film is formed on the reflection preventing film and, thereafter, a resist mask 160 is formed through patterning by photolithography.
次に、反射防止膜上に、レジスト膜を形成した後、フォトリソグラフィによりパターニングして、レジストマスク１６０を形成する。 - 特許庁 - Precise patterning of the electrode films and machining of the contour shape of the sensor vibrator are carried out in sequence or at the same time.
また、電極膜の精密なパターン形成とセンサ振動体の輪郭形状加工を順次または同時に行う。 - 特許庁 - To provide a new patterned warp knitted fabric by carrying out patterning by knitting on a warp knitted fabric having bulkiness.
嵩高性を保有させた経編地に編成による柄出しを行って、斬新な柄出しの経編地を提供すること。 - 特許庁 - This system comprises a device for patterning, a projection stem, a controller of the substrate position, and a part for compensating the inflation of a substrate position base.
このシステムは、パターニング用デバイスと、投影系と、基板位置コントローラと、基板位置ベースの膨張補償部と、を備える。 - 特許庁 - To prevent remaining of unetched parts and overetching, even when simultaneously patterning a high concentration region and a low concentration region.
高密度領域と低密度領域とを同時にパターニングする場合であっても、エッチング残りやオーバーエッチングを防止する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a thin film solar cell in which accurate positioning and laser processing of a patterning line can be performed.
パターニングラインの正確な位置合わせ及びレーザ加工が行える薄膜太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Further, additional processes and a novel poling setup for improving and implementing the patterning and fabrication method are also disclosed.
更に、本パターン化−製造方法を改良し実施するための追加のプロセス及び新規なポーリングセットアップを開示する。 - 特許庁 - And since the warping of the resin substrate can be prevented, there is a benefit in performing the succeeding processes such as patterning of the metal film or the like.
また、樹脂基板の反りが防止されるので、金属膜のパターニングなど後の工程を行う上でメリットがある。 - 特許庁 - Moreover, the tasks are solved, by adopting a wet etching method for the step of applying patterning to the crystal elements stated.
また、上述する水晶素子にパターンニングする工程にはウェットエッチング工法を用いることにより課題を解決する。 - 特許庁 - To obtain a photosensitive paste with which patterning with a high aspect ratio and high precision can be attained and in which peeling is not caused in baking.
高アスペクト比かつ高精度のパターン加工が可能であり、焼成時の剥離のない感光性ペーストを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a porous thin film which is formed by depositing a particulate material.
粒子状材料を堆積することによって形成された多孔性薄膜を効率良くパターニングする方法を提供する。 - 特許庁 - To suppress failure in patterning in a resist layer as much as possible in a method for manufacturing a chip size package type semiconductor device.
チップサイズパッケージ型の半導体装置の製造方法において、レジスト層のパターニングの不良を極力抑止する。 - 特許庁 - Contact holes 103 to 106 are formed by executing patterning by exposure through a first translucent part 101 of a photo mask 100.
フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF PATTERNING THIN FILM USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL USING THE SAME
フォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法 - 特許庁 - To provide a micro-patterning culture substrate which can micro-pattern cells using a simple method, and to provide a method for producing the same.
簡便な方法で細胞のマイクロパターニングが可能なマイクロパターニング培養基板及びその作成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning an insulating layer, the insulating layer manufactured by the method and a display element comprising the insulating layer.
絶縁層のパターニング方法、前記方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子を提供する。 - 特許庁 - A cooling means (4) is arranged inside the patterning roll (3) which is provided near the ejection port of the mold for extrusion molding.
押出成形用金型の吐出口付近に設けられた模様付けロール（３）の内部に冷却手段（４）が配設される。 - 特許庁 - Further, the need for patterning is eliminated unlike metal such as aluminum, so advantage of easy manufacture is obtained.
また、アルミニウム等の金属とは異なり、パターニングの必要も無いため、容易に製造することができるという利点もある。 - 特許庁 - The SiGe layer is then allowed to contact and couple to an insulator on a second substrate for patterning and displacement.
ＳｉＧｅ層は、その後、第２の基板上の絶縁体に接触結合することによってパターニングされ、転位される。 - 特許庁 - Then, a line-shaped conductive layer pattern 122 extending in a first direction is formed by patterning the conductive layer 120.
次に、導電層１２０をパターニングして第１方向に延長する線形の導電層パターン１２２を形成する。 - 特許庁
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