「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 78 79 次へ＞- The bank structure 106b is obtained by performing patterning to the 2nd photoresist layer 106a by a back exposure system.
背面露光方式により、第２フォトレジスト層１０６ａをパターニングしてバンク構造１０６ｂにする。 - 特許庁 - An island-like semiconductor film (sub-island) comprising a single island or a plurality of islands is formed by patterning.
アイランドを単数または複数含む島状の半導体膜（サブアイランド）をパターニングによって形成する。 - 特許庁 - To pattern in a stable form of an unexposed part for fine patterning.
より微細なパターニングにおける非露光部分を安定した形状でパターニングすることを可能とすること。 - 特許庁 - To provide a transfer apparatus which attains high accuracy patterning and allows an apparatus cost to be reduced.
高精度のパターニングが達成できるとともに、装置の低価格化が図れる転写装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a semiconductor film in manufacturing of a transistor array which is used in a display device.
表示デバイスに使用するトランジスタアレイの製造における半導体膜のパターニングを提供すること。 - 特許庁 - To manufacture a low-cost and large-area electroluminescent element allowing accurate patterning and color-coding.
高精度なパターニングおよび塗り分けが可能であり、低コストで大面積の電界発光素子を製造する。 - 特許庁 - To provide a conductive film forming method capable of patterning into a prescribed shape precisely.
所定の形状に精度よくパターニングすることができる導電膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁 - The projections 17 formed on the TFT side on the surface of the pixel electrode 12 are formed by patterning a novolac photoresist film.
第１の突起物の側面の、第1の電極の表面に対する接触角は３０°以上である。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device having high breakdown strength in which fine patterning and high speed operation of transistors are realized.
トランジスタの微細化及び高速動作が可能で、且つ高耐圧な半導体装置を提供する。 - 特許庁 - The patterning device imparts the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.
パターン化デバイスは、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与する。 - 特許庁 - To provide a dry etching gas which allows for patterning of a contact hole, or the like, having a high aspect ratio.
高アスペクト比のコンタクトホールなどのパターンを形成することが可能となるドライエッチングガスを提供する。 - 特許庁 - To easily fabricate overhanging barriers and to facilitate patterning of cathodes on an organic EL element.
オーバーハング形状を有する隔壁を簡易に製作し、有機ＥＬ素子の陰極のパターニングを容易にする。 - 特許庁 - To provide an electrode panel for a PDP aiming at fine patterning and reduction of electric resistance, and prevented from defective adhesion between respective layers.
微細パターン化および電気抵抗値の低減化を図り、各層間の密着不良を防止する。 - 特許庁 - LENGTH MEASURING METHOD BY LASER BEAM PROPAGATING THROUGH SOLID, AND METHOD OF EXPOSURE AND PATTERNING BY USING THE SAME LASER BEAM
固体を伝搬するレーザ光による測長方法及びそのレーザ光による露光とパターニング方法 - 特許庁 - Then, based on these designs, the patterning mask and the isolation-film removing mask are formed realistically.
そして、これら設計に基づいて、現実に、パターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクを形成する。 - 特許庁 - At least one of the patterning supporter and the substrate supporter is moved by the electromagnetic actuator.
パターニング支持体と基板支持体のうちの少なくとも一方が、電磁アクチュエータによって動かされる。 - 特許庁 - To provide a slider bar for a thin-film magnetic head capable of suppressing the occurrence of warping, and performing highly accurate patterning.
反りの発生を抑制し、高精度でパターニングできる薄膜磁気ヘッド用スライダバーを提供する。 - 特許庁 - The topography measurement device measures topography of at least one mechanical element of the patterning device PD.
トポグラフィー計測デバイスは、パターニング用デバイスPDの少なくとも１つの機械要素のトポグラフィーを計測する。 - 特許庁 - To enable to carry out high-speed patterning of a transparent electrode without being accompanied by drainage treatment or the like.
排液処理などを伴うことなく高速で透明電極のパターニングを行うことを可能にする。 - 特許庁 - To provide a thin film patterning apparatus which is capable of performing a patterning process without using a photolithography process and permits simplification of fabricating processes and to provide a method of fabricating color filter array substrate using the thin film patterning apparatus, with respect to the method of fabricating a color filter array substrate provided with an overcoat layer particularly having a flat surface.
本発明は、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a touch panel where patterning of a conductive film can be attained without deteriorating transparency and durability.
透明性や耐久性を劣化させることなく導電膜のパターニングが可能なタッチパネルを提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an optically anisotropic film with which simple and easy orientation patterning can be realized.
簡便かつ容易な配向パターニングを実現できる光学異方性フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - This lithography projection apparatus has an operation cycle including: a projection phase where the projection system projects a patterned beam on a target part of a substrate and the reticle stage 25 supports the patterning means 1; and an exchange phase where the patterning means is exchanged and the connection system positions the patterning means against the reticle stage.
このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁 - After patterning is carried out the patterned amorphous silicon films are irradiated with a laser beam in a certain direction so as to turn to poly-crystal silicon films.
パターニング後に、一方向にレーザ光を照射して結晶化し、多結晶シリコン膜を得る。 - 特許庁 - To provide lithography equipment constituted such that a pattern is transferred on a substrate from a patterning device.
パターニング装置から基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern for patterning a thin film by an easy low-cost apparatus configuration.
簡易で低コストな装置構成により薄膜をパターニングできるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning and fabricating poled dielectric microstructures in dielectric materials.
誘電体材料に分極反転誘電体微小構造をパターン化し製造する方法を提供する。 - 特許庁 - Patterning is applied on the first conductive layer in the logical operation circuit area based on the resist layer processed by patterning while the gate electrode of an insulation gate electric field effect transistor is formed in the logical operation circuit area and a dummy layer is formed above the element separating area in the logical operation circuit area based on the stopper layer processed by patterning.
パターニングされたレジスト層に基づいてロジック回路領域内の第１導電層をパターニングし、ロジック回路領域内に絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成し、パターニングされたストッパ層に基づいてロジック回路領域内の素子分離領域の上方にダミーゲート層を形成する。 - 特許庁 - To provide a lithography device and a method for detecting contamination of a patterning device and removing contaminants.
パターニングデバイスの汚染を検出し、汚染物質を除去するリソグラフィ装置および方法を提供する。 - 特許庁 - To enable the patterning of a light emitting layer of an organic electroluminescent element with high precision without swelling a printing plate.
印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングを可能とする。 - 特許庁 - A lithography apparatus comprises an illumination system, patterning means, a substrate table, a projection system, a detector, and a controller.
照射システムと、パターン化手段と、基板テーブルと、投影システムと、検出器と、制御器とから構成される。 - 特許庁 - To control an etching speed of a ZnO-based transparent conductive film at a speed suitable for patterning.
ＺｎＯ系透明導電膜のエッチング速度を、パターニングに適した速度に制御することを課題とする。 - 特許庁 - To avoid damaging a magnetoresistive effect element when patterning an electrode lead layer and narrow the effective playback track width.
電極リード層のパターニングの際に磁気抵抗効果素子にダメージを与えることがないようにする。 - 特許庁 - A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.
このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁 - This technique can improve the line-end pattern definition and improve the manufacturability and a patterning process window.
この技術は、配線の端部パターンの形成を改良し、生産性とパターニング工程ウィンドウを改善する。 - 特許庁 - A resist layer is formed on the whole surfaces of the memory area and the logical operation circuit area while patterning is applied on the resist layer.
メモリ領域とロジック回路領域との全面にレジスト層を形成し、レジスト層をパターニングする。 - 特許庁 - After injecting boron ions 7 into the polysilicon germanium film 6, patterning is performed, and a gate electrode 6a is formed.
ポリシリコンゲルマニウム膜６にボロンイオン７を注入した後、パターニングしてゲート電極６ａを形成する。 - 特許庁 - Related to the core, a thin plate of a core material (magnetic body) is bonded to the separate substrate through a junction material, for patterning.
コアは別基板に接合材を介してコア材（磁性体）の薄板を付着させて、パターニングする。 - 特許庁 - A lithography apparatus comprises an illumination system which adjusts a radiation beam, and a support which supports a patterning device.
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを備える。 - 特許庁 - Disconnection of wiring is prevented by patterning the wiring on the surface where no tensile stress is applied.
引っ張り応力のかからない面で配線をパタニングすることで、配線の断線を防ぐことができる。 - 特許庁 - This lithography device comprises a patterning device MA for giving a pattern onto the section of a beam of radiation to form a patterned beam of radiation, a washing unit CU positioned to wash the patterning device MA on that place, and/or a detection unit positioned to detect patterning device contamination on the moment.
リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化された放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを含み、パターニングデバイスをその場で洗浄するように配置構成された洗浄ユニットおよび／またはパターニングデバイスの汚染物をその場で検出するように配置構成された検出ユニットも含む。 - 特許庁 - The target area may be a transparent area of an aperture diaphragm and/or an operation area of a patterning device.
目標エリアは絞りの透過領域及び／またはパターニング用デバイスの動作領域であってもよい。 - 特許庁 - To precisely and easily determine the lighting condition of a reticle in a lithography step of patterning a substrate.
基板をパターニングするリソグラフィ工程におけるレチクルの照明条件を高精度かつ容易に決定する。 - 特許庁 - The lithography apparatus also includes the bending mechanism structured to add a bending torque to the clamped patterning device, and this bending mechanism has a force/torque actuator structured to cause a clamp force added to the patterning device by the support clamp to act on the clamped patterning device with virtually no reduction of the force.
リソグラフィ装置はさらに、クランプされたパターニングデバイスに曲げトルクを加えるように構成された曲げ機構を有し、曲げ機構は支持クランプによってパターニングデバイスに加えられたクランプ力を実質的に減少させることなしにクランプされたパターニングデバイスに作用するよう構成された力／トルクアクチュエータを備える。 - 特許庁 - To obtain a high sensitivity radiation sensitive composition having such a resolution as to enable very fine patterning.
非常に微細なパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度な感放射線性組成物を得る。 - 特許庁 - The patterning device can form patterned radiation beams by providing a pattern to the cross section of radiation beams.
パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができる。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERN TRANSCRIPTION, METHOD OF PATTERNING ON FABRIC, AND SHEET FOR PATTERN TRANSCRIPTION TO BE USED THEREFOR
パターンの写し取り方法、布地へのパターン付け方法、およびそれに用いられるパターン写し取り用シート - 特許庁 - To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a conductive substrate that allows easy and accurate patterning while allowing the easy and accurate alloying of dissimilar metals after the patterning, a semiconductor element using the same, and methods for manufacturing each of them.
容易且つ正確にパターニングが行えると共にそのパターニング後に容易且つ正確に異種金属の合金化を行うことができる導電性基板とそれを用いた半導体素子、それらの製造方法を提供する。 - 特許庁
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