「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 78 79 次へ＞- Then patterning through wet etching, etc., is performed to remove a barrier metal film 4, a seed film 5 and the metal wiring film 6, except the part masked with the patterning mask 7.
そして、このパターニング用マスク７でマスキングされた部分以外のバリアメタル膜４、シード膜５および金属配線膜６を除去すべく、たとえばウエットエッチングによるパターニングを行う。 - 特許庁 - Accordingly, coils small in size and high in density are obtained by utilizing a patterning technique for example the ink jet-aided patterning technique whereby conductive pattern formation is easily accomplished.
したがって、容易に導体パターンの形成が可能なパターニング技術（例えばインクジェットによるパターニング技術等）を利用して、小型で高密度のコイルを提供することが可能である。 - 特許庁 - To restrict sticking of a material on the surface of a patterning roll, in forming patterns by the patterning roll on a molded product ejected from the ejection port of the mold for an extrusion molding.
押出成形用金型の吐出口から吐出される成形品に模様付けロールにより模様付けする際に、模様付けロール表面に材料が付着するのを抑制する。 - 特許庁 - To provide a patterning formation method with which each area of a thin film made of specific photochromic compounds can be easily formed through patterning in a storage area of multiple recording.
特定のフォトクロミック化合物から形成された薄膜の各領域を多重記録の記憶領域に簡便にパターニング形成することができるパターニング形成方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce the non-etched area on the side face of a lower electrode of a capacitance element by patterning a second conductive film to form upper electrodes of the elements and patterning a first conductive film to the lower electrodes of the elements.
半導体装置の製造方法において、容量素子の下部電極の側面にエッチング残りをなくし、ショートの原因や不純物濃度のムラが生じる原因を低減する。 - 特許庁 - A substrate glass for a photomask used for patterning the color filter is a large sized substrate glass welded on parts which are to be patterning parts of a color filter pattern with plural synthetic quartz glass substrates.
カラーフィルタのパターニングに用いるフォトマスクの基板ガラスが、複数の合成石英ガラス基板により、カラーフィルタパターンのパターン部となる部分で溶接されてなる大型基板ガラスである。 - 特許庁 - To provide a method for forming a film pattern which accomplishes the thickening of a patterning film obtained by an ink-jet method and makes the thickness of the patterning film uniform by improving the shapes of edges.
インクジェット法により得られるパターニング膜の厚膜化を達成し、かつ、エッジ形状を良好にしてパターニング膜の膜厚を均一にする膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Lithographic apparatus includes a position controller for selectively pressurizing, at least one of sides of a patterning device M to control the position of the patterning device M in its planar direction.
リソグラフィ装置は、パターニングデバイスの側面の少なくとも１つに選択的に加圧することによって平面方向でパターニングデバイスの位置を制御するように構成された位置コントローラを含む。 - 特許庁 - The support transport device 230 is configured to be coupled to the support device 250 and arranged to move the support device 250 concurrently with the magnetostrictive actuator 260 providing the force to the patterning device so as to prevent slippage of the patterning device 270.
サポート輸送装置２３０は支持デバイス２５０に結合され、磁歪アクチュエータ２６０による力の付与と同時に支持デバイス２５０移動し、パターニングデバイス２７０滑りを防止する。 - 特許庁 - To provide a lithography device, a method of compensating substrate non-flatness, a method of finding influence of patterning device non-flatness, and a method of finding influence of thermal load to a patterning device.
リソグラフィ装置、基板非平坦性を補償する方法、パターニングデバイス非平坦性の影響を求める方法、およびパターニングデバイスへの熱負荷の影響を求める方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition for treating a photoresist pattern to be used in a double patterning process in photolithographic patterning techniques such as lithography-lithography-etching and self-alignment spacer double patterning, and for a reduction process useful to form a contact hole and a groove.
フォトリソグラフィパターニング技術、例えば、リソ−リソ−エッチおよび自己整合スペーサーダブルパターニングのようなダブルパターニングプロセスなどに、並びに、コンタクトホールおよび溝形成において有用な縮小プロセスに使用されうるフォトレジストパターンを処理するための組成物およびこの組成物を使用する方法を提供する。 - 特許庁 - To facilitate patterning of a floating gate itself and to enable to improve patterning performance and to prevent reduction in wiring yields with respect to patterning of upper layers such as control gate electrode which are formed afterward.
フローティングゲート電極そのもののパターニングを容易にすると共に、その後に形成されるコントロールゲート電極など上層のパターニングにおいても、パターニング性能の向上及び配線歩留まりの低下を防ぐことができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - During the step of removing the coating material from the patterning device, the temperature of the patterning device does not exceed a critical temperature causing damage to the patterning device, while maintaining a plasma etching rate of at least 0.2 μm/min, particularly 0.5 μm/min, particularly 1 μm/min, particularly 2.5 μm/min, particularly 5 μm/min.
コーティング材料をパターニングデバイスから除去する工程中、パターニングデバイスの温度はパターニングデバイスに損傷を生じさせる臨界温度を超えず、プラズマエッチング速度は少なくとも０．２μｍ／分、特には０．５μｍ／分、特には１μｍ／分、特には２．５μｍ／分、特には５μｍ／分で維持される。 - 特許庁 - The electrode arrangement structure of the LCD is equipped with a comb-shaped common electrode 14 formed by patterning a bottom-metal layer, a comb-shaped pixel electrode 26 formed by patterning an inter-metal layer, and a connecting layer 38 formed by patterning a top-metal layer.
ＬＣＤの電極配列構造は、底部金属層をパターン化することにより形成されたくし型コモン電極１４と、中間金属層をパターン化することにより形成されたくし型画素電極２６と、頂部金属層をパターン化することにより形成された接続層３８とを備える。 - 特許庁 - To reduce a risk of slipping of a patterning device held by a support such as a lithographic apparatus.
リソグラフィ装置などの支持体によって保持されているパターニングデバイスの滑りを低減させること。 - 特許庁 - To provide a bismuth-based lead-free glass for which the deterioration of patterning accuracy is suppressed.
パターニング精度の低下が抑制されたビスマス系無鉛ガラスを提供することを課題としている。 - 特許庁 - The process decides on the width of an ink supply port by the patterning of the surface of the silicon.
この製法により、インク供給口の幅は、シリコン表面のパターンニングによって決定される。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - Various types of patterning 5 can be applied on the pattern coating layer 4.
さらに、この模様塗り層４に対しては各種のパターン付け模様５を付加することができる。 - 特許庁 - The second clamp device clamps the patterning device only in the direction parallel to the substrate plane.
第２のクランプデバイスは、基板の平面に平行の方向にのみパターニングデバイスをクランプしている。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein side etching is suppressed and patterning accuracy is increased.
サイドエッチが抑制されたパターニング精度の高い半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A support structure for positioning an exchangeable object (e.g., patterning device) in a lithographic apparatus is provided.
リソグラフィ装置内の交換可能な物体（例えば、パターニングデバイス）を位置決めするサポート構造。 - 特許庁 - The present invention provides also a patterning method for the monomolecular film using the control method.
また、本発明は、前記制御方法を用いる単分子膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a single side lamination wiring board exhibiting an excellent patterning precision while suppressing warp.
反りが少なくてパターン形成精度に優れた片面積層配線基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which occurrence of poor processing of a wafer can be prevented.
基板への処理不良の発生を防止することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Photolithography is used for patterning a PTZ piezoelectric sintered compact layer 54 on a substrate.
基板上のＰＺＴ圧電焼結体層５４をパターニングするにあたって、フォトリソグラフィを使用する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition to which the patterning can be performed and which exhibits adhesiveness even after hardening.
パターニングが可能で硬化後も粘着性を示す感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A control gate 14 is formed by patterning the polysilicon layer 12 containing phosphorus which is diffused therein.
リンが拡散されたポリシリコン層１２をパターニングすることにより、コントロールゲート１４を形成する。 - 特許庁 - To inexpensively perform accurate patterning without the selection of a coating material by using a simple constitution.
簡単な構成で、塗布材料を選ばす、精度のよいパターニングを安価に行うことが可能とする。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD AND ORIGINAL MASK FOR PROXIMITY EXPOSURE TO BE USED FOR THE METHOD, AND COLOR FILTER SUBSTRATE
パターンニング方法とこれに用いられる近接露光用の原版マスク、およびカラーフィルタ基板 - 特許庁 - The apparatus and method comprise a projection system, a patterning device, a low-pass filter, and a data manipulation device.
装置及び方法は、投影システム、パターン形成装置、ローパス・フィルタ、及びデータ操作装置を含む。 - 特許庁 - To perform patterning with high resolution while protecting an outer circumferential part of a semiconductor wafer with a resist film.
半導体ウェハの外周部をレジスト膜で保護しつつ、解像度の高いパターニングを行う。 - 特許庁 - The lithography apparatus is constituted such that a pattern is transferred from a patterning device to a substrate.
パターン化デバイスから基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置である。 - 特許庁 - APPARATUS FOR PATTERNING-COATING CONCRETE BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNED AND COLORED CONCRETE BOARD
コンクリート板の模様付け塗装装置、並びに模様及び色彩付きコンクリート板の製造方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR PATTERNING FUNCTIONAL FILM, ELECTROMAGNETIC WAVE IRRADIATOR, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器 - 特許庁 - After this patterning, a polymer brush 516 is produced in a desired area on the surface of the slider.
このパターニングの後で、スライダー表面の望まれる領域にポリマー・ブラシ５１６が作製される。 - 特許庁 - As a patterning layer 4, an aluminum vapor deposition layer with a thickness of 600 Å is formed.
絵付け層４として膜厚６００Åのアルミニウムからなる蒸着層を形成した。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electronic device having high reliability and capable of highly accurate patterning.
信頼性が高く、高精度なパターニングが可能な電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The portion retained on the substrate after patterning of a semiconductor film is grasped according to a mask.
半導体膜のうち、パターニング後に基板上に残される部分をマスクに従って把握する。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE FILM, PROCESS FOR FABRICATING DEVICE, AND PROCESS FOR MANUFACTURING DROPLET EJECTION HEAD
導電膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, PATTERNING SUBSTRATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY
感光性転写材料を用いたパターン形成方法、パターニング基板及び液晶表示装置 - 特許庁 - Then, by patterning a metal film formed entirely, a metal wiring 9 is formed.
次に、全面的に形成した金属膜をパターニングすることにより、金属配線９を形成する。 - 特許庁 - MICRO-PATTERNING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT OBTAINED BY SAME
有機電界発光素子の微細パターン化方法、およびそれにより得られた有機電界発光素子 - 特許庁 - A lower layer pattern 12a is formed by patterning the lower layer 12 by using the intermediate layer pattern 13a as a mask.
この中間層パターンをマスクとして下層がパターニングされ、下層パターン１２ａが形成される。 - 特許庁 - EXPOSURE MASK, ITS DESIGN METHOD AND METHOD FOR PATTERNING RESIST LAYER FORMED ON SUBSTRATE
露光用マスク及びその設計方法、並びに、基体に形成されたレジスト層のパターニング方法 - 特許庁 - The metal film is formed simultaneously with the patterning of the excitation electrode, or the like, or is formed separately from it.
金属膜は、励振電極等のパターニングと同時に又はそれとは別に形成される。 - 特許庁 - A patterning member 16 having pattern forming elements 14 for defining a predetermined pattern is also prepared.
また、所定パターンを画定するパターン形成要素１４を有するパターニング部材１６を用意する。 - 特許庁 - To obtain a semiconductor storage device having a layout structure that the patterning of memory cells can be performed in a highly controllable state.
メモリセルのパターニング制御性が良いレイアウト構造を有する半導体記憶装置を得る。 - 特許庁 - MANUFACTURING PROCESS OF RESIST POLYMER, RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト用組成物、およびパターン製造方法 - 特許庁 - To provide a novel process for patterning by depositing an organic semiconductor layer in an organic electronic device.
有機電子デバイス内に有機半導体層を堆積させパターニングする新規なプロセスを提供する。 - 特許庁
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