「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 12 13 14 15 16 17 18 19 20 .... 78 79 次へ＞- PATTERNING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTRIC CIRCUIT, DISPLAY MODULE, COLOR FILTER AND LIGHT EMITTING ELEMENT
パターン形成方法、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子 - 特許庁 - LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH GAS PRESSURE MEANS FOR CONTROLLING PLANAR POSITION OF PATTERNING DEVICE CONTACTLESS
パターニングデバイスの平面位置を非接触で制御するガス圧手段を備えたリソグラフィ装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COLORED COMPOUND, NEW PHTHALOCYANINE COMPOUND AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
感光性着色化合物、新規なフタロシアニン化合物およびそれらを用いたパターンニング方法 - 特許庁 - The antireflection film is patterned by dry etching (b) (a broken line showing the proper patterning position).
ドライエッチングで反射防止膜をパターニングする（ｂ）（破線は本来のパターン位置を示す）。 - 特許庁 - A green sheet is adhered to the outer tube 6, and the green sheet is irradiated with laser for patterning.
外管６に貼り付けられたグリーンシートに対して、レーザーを照射し、パターンニングする。 - 特許庁 - INSPECTION METHOD OF EUV MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF EUV PHOTOMASK, AND PATTERNING METHOD
ＥＵＶマスクブランクスの検査方法、ＥＵＶフォトマスクの製造方法、及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING FRONT-SIDE ELECTRODE LAYER MADE OF ZINC OXIDE OF PHOTOVOLTAIC MODULE
光起電モジュールの酸化亜鉛製の前側電極層をパターン加工するための方法 - 特許庁 - The photoresist film 3 is formed by patterning into a first mask pattern containing a thin film part 3a.
該フォトレジスト膜３をパターニングして薄膜部３ａを含む第１マスクパターンを形成する。 - 特許庁 - RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING METHOD, AND FULLERENE DERIVATIVE
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体 - 特許庁 - A silicon oxide film 1 as an electret is formed on an insulating film 3 in a patterning.
絶縁膜３の上に、エレクトレットとなるシリコン酸化膜１がパターニング形成されている。 - 特許庁 - The side 13c of the mesa section 13a is subjected to wet etching after patterning by plasma etching.
メサ部１３ａの側面１３ｃは、プラズマエッチングによるパターニング後、ウェットエッチングされている。 - 特許庁 - The anode electrode is formed by patterning as one common anode wiring 115.
アノード電極は、１本の共通のアノード配線１１５としてパターニングされて形成される。 - 特許庁 - SURFACE PATTERNING OF LIGHT EMITTING DIODE LAYER FOR BONDING TO SECOND LIGHT EMITTING DIODE LAYER
第２の発光ダイオード層に対する接合のための発光ダイオード層表面のパターン形成 - 特許庁 - In the patterning process, etching is conducted using the first side wall film 201 as a mask.
パターニングにおいて、第１の側壁膜２０１をマスクとして用いたエッチングがなされる。 - 特許庁 - The patterning device PD comprises a control system CS and an array of individually controllable elements M.
パターニング用デバイスＰＤは制御系ＣＳと個別制御可能素子Ｍのアレイを備える。 - 特許庁 - The internal space 10 is pressurized before the patterning device is transferred from the internal space 10 to a lithography apparatus.
内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。 - 特許庁 - In a new patterning process which is different from the conventional technique of adopting a mark for matching formed in a single-patterning process, plural marks 20a-2, 20b-2 and 20c-1 matchingly formed in the mutually different patterning processes are adopted to alignment correction.
新たなパターニング工程で、単一のパターニング工程で形成された整合用マークを採用する従来技術とは異なり、相互に異なるパターニング工程で形成された複数の整合用マーク２０ａ−２、２０ｂ−２および２０ｃ−１をアライメント修正に採用する。 - 特許庁 - In a state in which the tray 200 for carrying is removed, the 1st metallic film 120 is subjected to patterning.
搬送用トレイ２００を外した状態で、第１金属膜１２０をパターニングする。 - 特許庁 - METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM, METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR THIN FILM
薄膜の形成方法、薄膜パターンの形成方法および薄膜のパターニング方法 - 特許庁 - To provide a method for patterning a beverage bottle in dew drops causing a pleasant cooling sensation.
飲料容器に清涼感溢れる結露状模様を施し得る方法を提供する。 - 特許庁 - The deformation measurement device is configured so as to be patterning-formed by the exposure processing in each exposure region.
変形計測装置は、露光領域に露光処理によりパターニング形成されてなる。 - 特許庁 - TRANSFER PRINT PATTERNING METHOD AND GLASS WITH PRINT PATTERN FORMED THEREON USING THE SAME
転写式印刷パタ—ン形成方法及びこれにより印刷パタ—ンが形成されたガラス - 特許庁 - To obtain a color image processor having a color patterning function for readable and legible limited color print.
読み易くわかりやすい限定色印刷のための配色機能を有するようにする。 - 特許庁 - PATTERNING DEVICE, AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR AND PROCESS FOR FABRICATING THE SAME
パターン形成装置および有機薄膜トランジスタの製造方法ならびに有機薄膜トランジスタ - 特許庁 - Then, as shown in figure (h), the patterning mask 7 is removed through, for example, wet etching.
その後、たとえばウエットエッチングにより、図１(h) に示すように、パターニング用マスク７を除去する。 - 特許庁 - The lithography apparatus includes a support that is structured to support the patterning device.
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体を有するリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁 - TWO-DIMENSIONAL PATTERNING METHOD, ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE
二次元パターニング方法ならびにそれを用いた電子デバイスおよび磁気デバイスの作製方法 - 特許庁 - To improve the flexibility in the thinning of SOI substrate, a fine patterning and an element design.
ＳＯＩ基板の薄膜化およびパターンの微細化、かつ素子設計の自由度を高める。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING, METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD
パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - The color layer is formed by applying a photosensitive resin and patterning the resin.
着色層は、感光性樹脂を塗布し、これをパターニングすることにより形成される。 - 特許庁 - The patterning structure is formed to impart patterns to the cross section of the radiation beam.
該パターニング構造は放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成されている。 - 特許庁 - The processing head 3 is mounted on the guide bar 2 and is used for patterning a thin film layer.
加工ヘッド３は、ガイドバー２に装着され、薄膜層をパターニングするためのものである。 - 特許庁 - To obtain an electric insulating film for a circuit board manufacturing wherein smoothness and a patterning property is superior.
平滑性とパターンニング性に優れた回路基板製造用の電気絶縁膜を得る。 - 特許庁 - An exposure device is equipped with a topography measurement device, a patterning device PD, and a correction system CS.
露光装置は、トポグラフィー計測デバイスと、パターニング用デバイスPDと、補正システムCSとを備える。 - 特許庁 - To provide a patterning method and an aligner for patterning in which patterning can be performed on the surface of a basic body coated with photoresist material by exposure with no interference with foreign matters by removing foreign matters, e.g. dust, floating above the basic body, e.g. a substrate.
基板等の基体の上方に浮遊するゴミ、チリ等の異物を排除して、該異物によって邪魔されることなく基体のフォトレジスト材料塗布面に露光によるパターニング処理を行えるパターン形成方法及びパターン形成のための露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for selectively patterning a silicon germanium layer by ion implantation.
イオン注入によりシリコンゲルマニウム層を選択的にパターニングする方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process capable of further simplifying a dual-damascene patterning process.
デュアルダマシンパターンを形成する過程をより単純化することができる方法を提供する。 - 特許庁 - THIN-FILM PATTERNING METHOD, AND MANUFACTURING METHODS OF THIN-FILM DEVICE AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD
薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING BLADE OF CUTTER AND CUTTER WITH PATTERNED BLADE
刃物等の刀身への模様付け方法および模様付けされた刀身を備えた刃物類 - 特許庁 - CONDUCTIVE PATTERNING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN FILM BY USING THE SAME
導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法 - 特許庁 - To obtain a patterning film, uniform in the thickness or the quality of film while reducing energy consumption.
エネルギー消費量を低減しつつ、膜厚や膜質が均質なパターニング膜を得ること。 - 特許庁 - A patterning resist film 150 is formed thick on a first interlayer insulation film 140 so that it is used not only as a patterning mask but also as a barrier.
第１層間絶縁膜１４０の上に形成されるパターニング用のレジスト膜１５０を厚く形成することにより、パターニング用のマスクとして利用するだけでなく、隔壁としても利用する。 - 特許庁 - It can thus prevent poor structural patterning due to uneven coating of the photosensitive resin and also enables microscopic three-dimensional patterning with high precision.
このため、不均一な感光性樹脂の塗布に由来する構造パターンの形状不良を防止することが出来、精度良く微細な３次元構造パターンを形成することが可能となる。 - 特許庁 - The device includes a clamp including a support constructed to support the patterning device or the substrate and a temperature control unit constructed to control the temperature of the patterning device or the substrate.
装置は、パターニングデバイス又は基板を支持するように構成された支持部分、及びパターニングデバイス又は基板の温度を制御するように構成された温度制御部分を含むクランプを備える。 - 特許庁 - To provide a method of processing a substrate, which reduces variations in line width of the second time resist patterning on a wafer plane without lowering productivity when double patterning is performed.
ダブルパターニングを行う際に、生産性を低下させることなく、ウェハ面内における２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING DEVICE, COMPUTER PROGRAM, PATTERNING DEVICE, METHOD FOR DETERMINING POSITION OF TARGET IMAGE ON OR NEAR SUBSTRATE, MEASURING DEVICE, AND LITHOGRAPHY DEVICE
フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、コンピュータ・プログラム、パターン化装置、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を決定する方法、測定装置及びリソグラフィ装置 - 特許庁 - To provide a patterning method for forming lithography patterns which are mutually aligned accurately on the front and back surfaces of a substrate when lithographic patterning is carried out on each of the front and back surfaces of the substrate.
基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern 2 of array marks 20 widely distributed on a substrate 1, and arrays 21 and 22 of dots, are projected on the substrate 1 by a beam patterning and projection system 3 with a patterning radiation beam.
基板１上に広く分布する整列マーク２０のパターン２、ドットの列２１、２２を、一方ビームパターニングおよび投影システム３によりパターン化放射線ビームを基板１上に投影する。 - 特許庁 - A metal film layer corresponding to at least a gate electrode shape and a scanning line wiring shape is etched for two times by double patterning in first and second patterning processes.
第１及び第２のパターニング工程により、少なくともゲート電極形状、および走査線の配線形状に対応した金属膜層は、２回のパターニングによって２回エッチングされる。 - 特許庁 - To provide a zinc oxide-based transparent conductive film and its patterning method whereby patterning characteristics can be improved by adjusting the etching rate of the zinc oxide-based transparent conductive film.
酸化亜鉛系透明導電膜のエッチングレートを調整してパターニング特性を向上させることができる酸化亜鉛系透明導電膜及びそのパターニング方法を提供する。 - 特許庁
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