「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 11 12 13 14 15 16 17 18 19 .... 78 79 次へ＞- To achieve low cost and high throughput by dispensing with a developing process on patterning of a resist.
レジストのパターニングにおける現像工程を不要として低コスト、高スループットを実現する。 - 特許庁 - To provide a monitoring method capable of measuring a fine patterning size with high accuracy.
微細なパターン加工寸法を高精度に測定することができるモニタ方法を提供する。 - 特許庁 - To satisfy both large capacitance and fine patterning (high integration) of capacitors in a ferroelectric memory.
強誘電体メモリのキャパシタの大容量化と微細化（高集積化）を両立させる。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING INSECT SUCH AS BEETLE OR STAG BEETLE AND THE RESULTANT INSECT
カブトムシ，クワガタムシ等の昆虫の模様づけ方法およびこれにより模様づけをした昆虫 - 特許庁 - METHOD FOR FILM FORMATION, METHOD FOR PATTERNING, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING THEM
製膜方法及びパターニング方法、並びにこれらを用いた電子装置の製造方法 - 特許庁 - The lithography apparatus includes a support that is structured to support the patterning device.
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体を有するリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁 - In a new patterning process which is different from the conventional technique of adopting a mark for matching formed in a single-patterning process, plural marks 20a-2, 20b-2 and 20c-1 matchingly formed in the mutually different patterning processes are adopted to alignment correction.
新たなパターニング工程で、単一のパターニング工程で形成された整合用マークを採用する従来技術とは異なり、相互に異なるパターニング工程で形成された複数の整合用マーク２０ａ−２、２０ｂ−２および２０ｃ−１をアライメント修正に採用する。 - 特許庁 - The processing head 3 is mounted on the guide bar 2 and is used for patterning a thin film layer.
加工ヘッド３は、ガイドバー２に装着され、薄膜層をパターニングするためのものである。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PATTERNING METAL FILM
表示装置の製造方法、液晶表示装置並びに金属膜のパターニング方法。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a substrate in a way requiring no mask free of defects.
マスクが欠陥を含まない方法で基板にパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF PATTERN ROLLER, PAINTING METHOD OF COATING MATERIAL FOR PATTERNING AND STONE PATTERN
模様付けローラーの製造方法、模様付け用塗材および石調模様の彩描方法 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING AND FABRICATING POLED DIELECTRIC MICROSTRUCTURE WITHIN DIELECTRIC MATERIAL
分極反転誘電体微小構造を誘電体材料内にパターン化し製造する方法 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING ORGANIC MATERIAL OR COMBINATION OF ORGANIC AND INORGANIC MATERIAL
有機材料又は有機材料と無機材料を組み合わせた材料をパターニングする方法 - 特許庁 - POLYMER AND ITS PREPARATION METHOD, AND RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS
高分子化合物及びその製造方法、並びにレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - In the patterning process, etching is conducted using the first side wall film 201 as a mask.
パターニングにおいて、第１の側壁膜２０１をマスクとして用いたエッチングがなされる。 - 特許庁 - The patterning structure is formed to impart patterns to the cross section of the radiation beam.
該パターニング構造は放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成されている。 - 特許庁 - To provide a method for selectively patterning a silicon germanium layer by ion implantation.
イオン注入によりシリコンゲルマニウム層を選択的にパターニングする方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM, METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR THIN FILM
薄膜の形成方法、薄膜パターンの形成方法および薄膜のパターニング方法 - 特許庁 - To provide a method for patterning a beverage bottle in dew drops causing a pleasant cooling sensation.
飲料容器に清涼感溢れる結露状模様を施し得る方法を提供する。 - 特許庁 - In a state in which the tray 200 for carrying is removed, the 1st metallic film 120 is subjected to patterning.
搬送用トレイ２００を外した状態で、第１金属膜１２０をパターニングする。 - 特許庁 - A method for setting a multiple patterning lithographic process of a pattern in a single layer is disclosed.
単一層でのパターンの多重パターニングリソグラフプロセスを設定する方法が開示される。 - 特許庁 - METHOD, PROGRAM AND DEVICE FOR PERFORMING DECOMPOSITION OF PATTERN FOR USE IN DOUBLE PATTERNING TECHNOLOGY (DPT) PROCESS
ＤＰＴプロセスで用いられるパターン分解を行うための方法、プログラムおよび装置 - 特許庁 - LINE PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
線パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING FILTER, AND DEVICE AND METHOD FOR INK-JET PATTERNING
フィルター製造装置、フィルター製造方法、インクジェットパターニング装置およびインクジェットパターニング方法 - 特許庁 - WIRING BOARD, MULTIPLE PATTERNING WIRING BOARD, PACKAGE FOR HOUSING ELECTRONIC PART, AND ELECTRONIC DEVICE
配線基板、多数個取り配線基板、電子部品収納用パッケージおよび電子装置 - 特許庁 - The lithographic apparatus is configured to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate.
リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するよう構成されている。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of performing a good patterning which utilizes EUV light.
ＥＵＶ光を利用した良好なパターニングを行えるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - LITHOGRAPHIC APPARATUS, ANALYZER PLATE, SUBASSEMBLY, METHOD OF MEASURING PARAMETER OF PROJECTION SYSTEM AND PATTERNING DEVICE
リソグラフィ装置、アナライザ・プレート、サブアセンブリ、投射システムのパラメータ測定方法、及びパターン化手段 - 特許庁 - The semiconductor layer is patterned with the same mask as that for patterning the transparent conductive layer.
半導体層が透明導電層をパターン化するマスクと同一のマスクでパターン化される。 - 特許庁 - DIELECTRIC LAYER PATTERNING METHOD, THIN FILM EL ELEMENT MANUFACTURING METHOD AND THIN FILM EL ELEMENT
誘電体層のパターニング方法、薄膜ＥＬ素子の製造方法および薄膜ＥＬ素子 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MICRO DEVICE
レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁 - PATTERNING PHASE DIFFERENCE PLATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
パターン化位相差板、液晶表示パネル、並びに液晶表示パネルの製造方法 - 特許庁 - LITHOGRAPHIC APPARATUS FOR TRANSFERRING PATTERN FROM PATTERNING DEVICE ONTO SUBSTRATE, AND DAMPING METHOD
パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するためのリソグラフィ装置、および制振方法 - 特許庁 - To provide a speedy and inexpensive high-resolution patterning method for manufacturing electronic devices.
電子装置の製造のための速やかで廉価な高解像度パターニング方法を提供する。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE AND PATTERNING PROCESS
ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁 - The size of the mask used for the patterning is made broader than a design value by 1 μm.
パターニングは、パターニングするためのマスク寸法を設計値より１μｍ太く作成する。 - 特許庁 - Then, resist is used for patterning the SiGe/SiGeC film 9, and a base 12 is formed.
そして、レジストを用いてＳｉＧｅ／ＳｉＧｅＣ膜９をパターニングし、ベース１２を形成する。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING METALLIC PARTICLE AND METHOD OF MANUFACTURING CERAMIC ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME
金属粒子のパターニング方法及びこれを用いたセラミックス電子部品の製造方法 - 特許庁 - The patterning device forms at least a part of seal that almost seals the opening of the separator.
パターニングデバイスはセパレータの開口をほぼシールするシールの少なくとも部分を形成する。 - 特許庁 - The deformation measurement device is configured so as to be patterning-formed by the exposure processing in each exposure region.
変形計測装置は、露光領域に露光処理によりパターニング形成されてなる。 - 特許庁 - PATTERNING DEVICE, AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR AND PROCESS FOR FABRICATING THE SAME
パターン形成装置および有機薄膜トランジスタの製造方法ならびに有機薄膜トランジスタ - 特許庁 - TRANSFER PRINT PATTERNING METHOD AND GLASS WITH PRINT PATTERN FORMED THEREON USING THE SAME
転写式印刷パタ—ン形成方法及びこれにより印刷パタ—ンが形成されたガラス - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING, METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD
パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁 - To improve the flexibility in the thinning of SOI substrate, a fine patterning and an element design.
ＳＯＩ基板の薄膜化およびパターンの微細化、かつ素子設計の自由度を高める。 - 特許庁 - The color layer is formed by applying a photosensitive resin and patterning the resin.
着色層は、感光性樹脂を塗布し、これをパターニングすることにより形成される。 - 特許庁 - To obtain a color image processor having a color patterning function for readable and legible limited color print.
読み易くわかりやすい限定色印刷のための配色機能を有するようにする。 - 特許庁 - TWO-DIMENSIONAL PATTERNING METHOD, ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE
二次元パターニング方法ならびにそれを用いた電子デバイスおよび磁気デバイスの作製方法 - 特許庁 - The patterning device PD comprises a control system CS and an array of individually controllable elements M.
パターニング用デバイスＰＤは制御系ＣＳと個別制御可能素子Ｍのアレイを備える。 - 特許庁 - The internal space 10 is pressurized before the patterning device is transferred from the internal space 10 to a lithography apparatus.
内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。 - 特許庁 - To obtain an electric insulating film for a circuit board manufacturing wherein smoothness and a patterning property is superior.
平滑性とパターンニング性に優れた回路基板製造用の電気絶縁膜を得る。 - 特許庁
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