「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 25 26 27 28 29 30 31 32 33 .... 78 79 次へ＞- Subsequently, the patterning member 12 is adhered to a member unit 20 for limiting visual field, which is cut off along the range 44.
次に、型取り部材１２を視野制限部材ユニット２０に貼り付けて、視野制限部材ユニット２０を範囲４４に沿って切り取る。 - 特許庁 - To provide a sucking apparatus which can goodly remove abrasion slag generated, in the case of patterning a substrate for solar cell.
太陽電池用基板のパターニングに際して発生するアブレーション滓を良好に除去できる吸引装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a new manufacturing method capable of improving material in the degree of freedom of selection and a patterning device suitable for practicing the above method.
材料の選択自由度を高くした新たな製造方法と、この方法の実施に好適なパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a short-period construction method for a building, wherein no dispersion occurs in patterning finishing surfaces.
短期間で、かつ、仕上げ面の模様付け等の品質にばらつきが生じることのない建築物の施工方法を提供する。 - 特許庁 - To simplify the constitution for tensioning a patterning sheet installed on the concrete form side and the constitution for fixing a tensioning state.
コンクリート型枠側に取付ける模様付けシートを緊張させる構成、緊張状態を固定する構成を簡素化する。 - 特許庁 - To provide a patterning apparatus using an ink jet head which is so structured as to draw a fine pattern with high accuracy by reducing a droplet in size.
液滴のサイズを小さくし、パターニング精度の高精細化を可能とする構成のインクジェットヘッドによるパターニング装置である。 - 特許庁 - After patterning by exposure and development of the master optical disk, a resist surface is subjected to surface treatment to form a specified pattern.
光ディスク原盤の露光及び現像によりパターニングした後に、レジスト表面を表面処理して所定のパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device which forms a second resist pattern into a fine and satisfactory shape on a first resist pattern in a double patterning method.
ダブルパターニング方法において、第１のレジストパターン上に第２のレジストパターンを微細且つ良好な形状に形成する。 - 特許庁 - To narrow core width of a magnetic head in a manufacturing method of a magnetic head having a patterning process of a magnetic film.
磁性膜のパターニング工程を有する磁気ヘッドの製造方法について、磁気ヘッドのコア幅を狭くすることを課題とする。 - 特許庁 - To provide a thermal sensor (heating type acceleration sensor) of high sensitivity and precision, free from a problem such as disconnection and difficulty in patterning.
断線やパターニングの困難性などの問題がなく、しかも感度や精度の高い熱式センサ（熱式加速度センサ）を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescent display device, superior in the producibility and allowing simple patterning operation for the organic light-emitting layer.
有機発光層のパターニングが簡便にでき、生産性に優れる有機エレクトロルミネッセンス発光表示装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a self-alignment patterning method that can be used to manufacture a plurality of thin film transistors on a substrate.
本発明は、基板上に複数の薄膜トランジスタを製造するために用いることができる自己整合パターニング方法に関する。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording medium which is inexpensive and has a high quality by patterning a soft magnetic layer without using etching.
エッチングを用いること無く、軟磁性層のパターニングを行うことで、低コストで、高品質な磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in patterning ability, especially developability, heat-resistant flowability, and adhesion in development.
パターニング性能、特に現像性、耐熱フロー性及び現像密着性に優れた感放射線樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of reducing a part which is not etched when an etching film is formed into an extremely fine pattern by patterning through wet etching.
ウェットエッチングを用いてエッチング被膜を微細なパターンにパターニングする際に、エッチング残りを低減する方法を提供する。 - 特許庁 - To confirm the fact that interconnect lines are formed by patterning a conductive film normally with reduced efforts.
導電膜が正常にパターニングされて配線が形成されていることを、少ない労力で確認することができるようにする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an electroluminescent element in which a patterning of an organic EL layer is easy and an effect of an photo-catalyst is small.
有機ＥＬ層のパターニングが容易であり、光触媒の影響の少ないＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for efficiently patterning a liquid crystal layer used as an optical element with high quality.
光学素子として用いられる液晶層を効率的にかつ高い品質でパターニングを行うことができる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a silicon substrate or the like, which can perform patterning without using resist, patterning of a reserver or of the taking-out port of an electrode without using the resist after the formation of nozzle communication holes in particular to prevent resist protection failures in the nozzle communication hole portion.
レジストレスでパターニングを行うことができる、特にノズル連通孔の形成後に、レジストレスでリザーバ及び電極取り出し口のパターニングが可能となり、ノズル連通孔部のレジスト保護不良を防止することができるシリコン基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method hardly being influenced by an error even when the error exists in the real moving distance of a stage for scanning a photomask with respect to a set moving distance, and for performing patterning by using the smaller number of photomasks, and to provide an exposure device for the same.
フォトマスクを走査するステージが、設定移動量に対して実移動量が誤差を保有していても、その誤差の影響を受けにくく、かつより少ない枚数のフォトマスクで対応可能なパターンニング手法およびそのための露光装置を提供する。 - 特許庁 - A filter arrangement selectively reduces transmittance of radiation through the second region of the patterning device, and reduces intensity of one or a plurality of images of the second pattern caused by a part of radiation beam which is indirectly incident on the second region of the patterning device.
フィルタ機構は、パターニングデバイスの第２の領域を通して放射の透過率を選択的に減少させて、パターニングデバイスの第２の領域に間接的に入射する放射ビームの一部に起因する第２のパターンの１つまたは複数の像の強度を減少させる。 - 特許庁 - To apply similar patterning to a plurality of image data when patterning is applied to combined image data generated by arranging a plurality of image data representing a predetermined image at least in either a main scanning direction or an auxiliary scanning direction.
所定の画像を表す画像データを主走査方向および副走査方向のうちの少なくとも一方に複数並べて生成した結合画像データに対してパターン処理を行う際、複数の画像データに対して同様のパターン処理を施すようにする。 - 特許庁 - In the liquid crystal display device and the method for fabricating the liquid crystal display device, the number of mask further can be reduced by forming an active pattern and a storage electrode with a single mask process and also by patterning a pixel electrode, too simultaneously upon the patterning of a gate line.
アクティブパターンとストレージ電極を１回のマスク工程で形成することによって、また、ゲート配線のパターニング時に画素電極をも同時にパターニングすることによって、マスク数をさらに減少させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - An extraction timing discriminating means 60 carries out patterning by a patterning means 30, feature extraction by a feature extracting means 50 and appliance discrimination by an appliance discriminating means 70 as pattern determination.
抽出タイミング判定手段６０は、特徴抽出を行うタイミングを判定した場合に、パターン判定として、パターン化手段３０によるパターン化、特徴抽出手段５０による特徴抽出、および器具判別手段７０による器具判別を行わせる。 - 特許庁 - The method for marking a lens includes: a patterning process for forming a layout pattern having machining information of the lens 1 on an ink receiving board 41 with a planar surface; and a transfer process for transferring the layout pattern formed by the patterning process to the surface of the lens 1.
表面が平面状のインク受板４１にレンズ１の加工情報を有するレイアウトパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程で形成された前記レイアウトパターンを前記レンズ１の表面に転写する転写工程と、を有するレンズのマーキング方法。 - 特許庁 - Then, the upper thin film 4 appearing out of the patterning mask 5 is patterned by etching into an upper thin film pattern 6, and then the patterning mask 5 and the protective mask 3 appearing from the upper thin film pattern 6 are removed simultaneously.
次に、パターニング用マスク５から露出している上層側薄膜４をエッチングによりパターニングして上層側薄膜パターン６を形成し、しかる後に、パターニング用マスク５と、上層側薄膜パターン６から露出している保護用マスク３とを同時に除去する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive adhesive composition which is excellent in patterning ability by the use of an alkali developing liquid, has satisfactory thermo-compression adhesiveness even after patterning, is excellent in heat resistance after adhesion and is also excellent in low-temperature pasting ability when the adhesive composition is formed into a film shape.
アルカリ現像液によるパターン形成性に優れ、パターン形成後も十分な熱圧着性を有し、接着後の耐熱性に優れ、フィルム状に形成した場合には低温貼付け性にも優れた感光性接着剤組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method by which, even when patterning with a second resist composition is performed without using a freezing material in the formation of a resist pattern by double patterning, a fine resist pattern can be formed while retaining the good shape of a first resist pattern.
ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - A process from the deposition of a substrate-protecting layer to the deposition of a gate-writing layer is performed in a state of being isolated from an atmosphere outside a device, and thereafter, the patterning of the gate wiring, the crystallization of the semiconductor layer and the patterning of a gate-insulating film and the semiconductor layer are performed.
下地保護層堆積工程からゲート配線層堆積工程までを装置外の雰囲気から隔離した状態で連続して行い、その後に、ゲート配線のパターニング、半導体層の結晶化、ゲート絶縁膜、半導体層のパターニングを行う。 - 特許庁 - An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.
あるいは、ＣＭＰで研磨するＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を２回に低減する。 - 特許庁 - To provide a pattern measuring device for appropriately evaluating a pattern formed by a double patterning method prior to transfer using a mask, or appropriately evaluating the deviation of the pattern formed by the double patterning method.
本発明は、ダブルパターニング法によって形成されるパターンの評価を、マスクを用いた転写前に適正に行うパターン測定装置、或いはダブルパターニング法によって形成されるパターンのずれの評価を適正に行うパターン測定装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - The position controller includes a gas supply section and one or a plurality of outflow openings directed to the side of the gas pressure supply section, to apply a pressurized gas to at least one side of the patterning device to control the position of the patterning device, in its planar direction in a non-contact manner.
位置コントローラはパターニングデバイスの位置を平面方向で非接触式に制御するために、パターニングデバイスの少なくとも１つの側面に加圧ガスを加えるように、ガス圧供給部及びこの側面へと向けられた１つ又は複数の流出開口を含む。 - 特許庁 - To provide a nonlinear element manufacturing method which can perform a patterning finer than resolution of an exposure apparatus used in formation of a resist mask, and which is free from contaminating a film pattern obtained by patterning due to the resist; and to provide an electro-optical device.
レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁 - Alternatively, the exposure tool may have a plurality of illuminators and/or a plurality of scanning complementary patterning devices optionally used with a plurality of exposure slits on the scanning substrate to facilitate double patterning in a single substrate pass.
別法として、露光ツールは、単一の基板パスでの二重パターニングを容易にするように、スキャンする基板上の複数の露光スリットと共に任意選択で使用される複数のイルミネータおよび／または複数のスキャンする相補的なパターニングデバイスを有することができる。 - 特許庁 - To provide a mask for patterning a thin film by which the thin film can be patterned without damaging an organic polymer film formed on a substrate, in the mask for patterning the thin film used when the thin film is patterned on the substrate on which the organic polymer layer is formed.
有機高分子層を形成した基板上に薄膜をパターン形成する際に使用する薄膜パターン化用マスクにおいて、基板上に形成された有機高分子膜にキズをつけることなく、薄膜のパターン化が可能な薄膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning by dry etching capable of easily forming a mask with a taper-shaped side face on a member to be etched with a hollow and well performing the patterning, a mold used for it and a method for manufacturing an inkjet head.
空洞を有する被エッチング部材上にテーパー形状の側面を有するマスクを容易に形成して良好にパターニングを行うことができるドライエッチングによるパターニング方法及びそれに用いるモールド並びにインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of executing complete patterning by preventing the remainder of polyimide due to deficient exposure at thick parts of a positive photosensitive polyimide film and occurrence of pattern disturbance due to over-exposure at thin parts in the patterning of the positive photosensitive polyimide film whose thickness is ununiform.
厚みの異なるポジ型感光性ポリイミド膜のパターニングにおいて、厚い箇所での露光不足によるポリイミド残りと浅い箇所での過露光によるパターン乱れを防止して、完全なパターニングができる半導体装置の製造方法を提供すること - 特許庁 - The patterning means 30 reads measured data recorded in a measured data recording means 20, patterns the measured data and extracts a measured data pattern.
パターン化手段３０は、計測データ記録手段２０に記録された計測データを読み出し、パターン化して計測データパターンを抽出する。 - 特許庁 - To dispense with a resist and a metal mask and to contrive to make it possible to easily perform a patterning of a metallic oxide film by a drying process only.
レジスト，金属マスクが不要であり、ドライプロセスのみで、金属酸化物膜のパターニングを容易に行える加工方法を提供する。 - 特許庁 - To improve a lithographic apparatus, and particularly to achieve a correct and uniform heat regulation of an object such as a substrate or a patterning structure.
リソグラフィ装置を改良すること、特に、オブジェクト、例えば基板またはパターニング構造の正確で均一な熱調節を提供すること。 - 特許庁 - To carry out a surface treatment at a low cost by a method which enables the control of liquid-repellency in patterning using an ink-jet manner.
インクジェット方式を用いたパターニング方式においける表面処理を低コストでかつ撥液性の制御可能な方法で行うこと。 - 特許庁 - Based on parameters of patterning operations and a relationship between the injected axis and the measured axis, a correlation function (CF) is used in the calculation.
パターニング動作のパラメータおよび注入軸と測定軸との関係に基づいて、相関関数（ＣＦ）が前記計算で使用される。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board easily dividing a ceramic mother board into respective wiring board areas without generating burrs.
セラミック母基板を各配線基板領域にバリを発生させることなく容易に分割できる多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁 - The depth of focus of the camera 30 is small and the focal plane FP is not twice as far away from a surface of the patterning device as the depth of focus.
カメラ３０の焦点深度は小さく、焦点面ＦＰは、パターニングデバイスの表面から焦点深度の２倍よりも遠くにない。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device for improving patterning accuracy in the vicinity of a chip outer edge, and also to provide a template for imprint.
チップ外縁付近のパターニング精度を向上させる半導体装置の製造方法及びインプリント用テンプレートを提供する。 - 特許庁 - The metal thin film resistance material 23 is formed by patterning the metal thin film for leaving the metal thin film also to the connecting hole 21.
接続孔２１にも金属薄膜を残存させるように金属薄膜をパターニングして金属薄膜抵抗体２３を形成する。 - 特許庁 - To form a prescribed resist pattern on a substrate while reducing to be small the amount of a resist liquid to be fed in the second time in double patterning.
ダブルパターニングにおける２回目のレジスト液の供給量を少量に抑えつつ、基板上に所定のレジストパターンを形成する - 特許庁 - To perform the patterning of a laminated substrate such as a solar battery substrate with high speed and high precision without increasing the cost.
コストアップを招くことなく、高速かつ高い精度で太陽電気基板等の積層基板に対してパターニング加工できるようにする。 - 特許庁 - To reduce the number of processes of ion implantation and patterning of resist associated with it in manufacturing a low-voltage-operation CMOS semiconductor device.
低電圧動作ＣＭＯＳ半導体装置の製造におけるイオン注入およびそれに伴うレジストのパターニング工程数を削減する。 - 特許庁 - In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region.
第１のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン１１１を有する第１のレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁
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