「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 78 79 次へ＞- A resist pattern 54 used for patterning at the 1st stage is used as it is for ion injection in the base region 35.
そしてこの第１段階目のパターニングに使用したレジストパターン５４をそのまま用いて、ベース領域３５のためのイオン注入を行う。 - 特許庁 - The laser fuse 7b is formed by patterning from a second layer metal wiring 24, and its terminal is led out by the first layer metal wiring 24.
レーザフューズＦｂは、第２層メタル配線層を用いてパターン形成され、その端子は第１層メタル配線２４により引き出される。 - 特許庁 - METHOD FOR PATTERNING METAL FOIL, ELECTRIC WIRING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND CIRCUIT BOARD AND ELECTRONIC DEVICE
金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 - 特許庁 - The base board is a copper clad circuit board, and a wiring pattern 10 is formed by patterning the copper clad circuit board.
ベース基板６は銅張り回路基板であって、配線パターン１０は該銅張り回路基板をパターンニングすることにより形成されている。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a carbon nanotube certainly at a predetermined position while keeping perpendicularity of the carbon nanotube.
カーボンナノチューブの垂直性を維持しつつ所定の位置に確実にカーボンナノチューブのパターンニングを行うことができる方法を提供する。 - 特許庁 - A belt layer includes at least one monofilament cord manufactured by patterning one monofilament into the spiral or waveform shape.
前記ベルト層は、１本のモノフィラメントを螺旋状又は波形状に型付けした型付けモノフィラメントコードを用いたプライを少なくとも含む。 - 特許庁 - MULTICOLOR PATTERNING GELCOAT SPRAY APPARATUS, MULTICOLOR PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD OF MOLDING HAVING MULTICOLOR PATTERN
多色模様用ゲルコートスプレー装置及びこれを用いた多色模様形成方法並びに多色模様を有する成形体の製造方法 - 特許庁 - By the isomerization reaction of 1,2-diarylethene, patterning is made possible because of a change in adhesiveness of the electrode material like magnesium, or the like.
１，２−ジアリールエテンの異性化反応により、電極材料であるマグネシウム等の付着性に変化が生じ、パターニングが可能になる。 - 特許庁 - A resist pattern 22a having an opening 41 is formed by forming a photosensitive layer 22 having a predetermined thickness and effecting a series of patterning treatments.
所定厚の感光層２２を形成し、一連のパターニング処理を行って、開口部４１を有するレジストパターン２２ａを形成する。 - 特許庁 - A pitch P in the longitudinal direction of the patterning of the patterned monofilament cord is 0.008-0.08 times of a tire outer peripheral length W.
前記型付けモノフィラメントコードの前記型付けの長手方向のピッチＰは、タイヤ外周長さＷの０．００８〜０．０８倍である。 - 特許庁 - Continuously, a first resist film having a fine first pattern is formed on the hard mask film for patterning of the hard mask film (S108).
つづいて、ハードマスク膜上に微細な第１のパターンを有する第１のレジスト膜を形成してハードマスク膜をパターニングする（Ｓ１０８）。 - 特許庁 - A photomask 60 can be commonly used for patterning both of a trench and a contact hole disposed inside the trench in a dual damascene wiring structure.
フォトマスク６０を、デュアルダマシン配線構造のトレンチ及びその内側に配置されるコンタクトホールそれぞれのパターニングに共用可能とする。 - 特許庁 - The method also comprises the step of patterning a three-layer nonmetallic film 6 below the same resist pattern 9 by plasma etching (second stage of second etching).
さらに、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより下方の三層非金属膜６をパターニングする（第２のエッチングの第２段階）。 - 特許庁 - When patterning these films 14 and 15 to form a multilayer gate electrode, the lower layer gate electrode is formed larger than the upper layer gate electrode.
これらをパターニングして多層ゲート電極を形成するとき、下層ゲート電極を上層ゲート電極よりも大きく形成する。 - 特許庁 - To provide a toner with which a semiconductor layer can be fast formed into a desired pattern with high maintenance property in patterning a semiconductor material.
半導体材料のパターニングにおいて、半導体層を任意のパターンで高速に、メンテナンス性よく形成できるトナーなどを提供する。 - 特許庁 - These check patterns 4, 5 are formed by patterning by photolithography after a resist is coated on the insulation film 2 on the semiconductor substrate 1.
これらのチェックパターン４、５は、半導体基板１上の絶縁膜２にレジストを塗布した後、フォトリソグラフィによりパターニングして形成する。 - 特許庁 - To provide a hologram exposure device and a hologram exposure method capable of precisely forming holograms in a multiple patterning hologram optical element.
多面付けホログラム光学素子に精度良くホログラムを形成することができるホログラム露光装置およびホログラム露光方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an anode for a lithium metal polymer secondary battery made of anode current collector with surface patterning, and manufacturing method of the same.
表面パターニングされた負極集電体からなるリチウム金属ポリマー二次電池用の負極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The process simultaneously performs the patterning of the cathode 4 and the forming of the layer 5 by using a laser 9.
本発明では、転写法を用いることにより、陰極４のパターニングと発光層５の形成をレーザー９を用いて同時に行う。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a piezoelectric vibrator having excellent characteristics, while patterning of a photoresist layer can be accurately performed.
フォトレジスト層のパターンニングを精度良く行うことができ、特性の良い圧電振動子の製造方法を提供するためのものである。 - 特許庁 - By using a resist pattern formed by developing the resist 201c as a mask, the film 201b composed of the halftone film and the chromium film is subjected to patterning.
レジスト２０１ｃを現像して形成されたレジストパターンをマスクとしてハーフトーン膜とクロム膜から成る２０１ｂをパターニングする。 - 特許庁 - To provide an orientational carbon nanotube cathode, suitable or exposure and decal transferring by patterning electron source, without the use of a mask.
マスクを使用せず、電子源をパタン化することにより露光転写を行うのに適当な配向性カーボンナノチューブ陰極を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a method of designing a photomask by which high-precision patterning can be easily performed.
容易に高い精度のパターニングを行うことができる半導体装置の製造方法及びフォトマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a catalyst layer for synthesis of carbon nanotubes and a method of fabricating a field emission device using the method.
炭素ナノチューブの合成のための触媒層のパターニング方法及びそれを利用した電界放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for etching a wafer with the use of an advanced-patterning-film (APF) in order to reduce a curvature and to improve a ratio between an upper part and a lower part.
湾曲を軽減し上下比を改善するためにアドバンスドパターニングフィルム（ＡＰＦ）を用いてウェハをエッチングする方法である。 - 特許庁 - To provide an ejecting section maintenance device for facilitating maintenance while preventing the size of a patterning device from increasing and lessening the burden on a worker.
パターン形成装置の大型化を防止し、作業員等の負担も軽減でき、メンテナンスが容易な吐出部保守装置を提供する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE, COLOR FILTER, LIGHT EMITTER AND THIN-FILM TRANSISTOR
パターニング方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルターの製造方法、発光体の製造方法、並びに薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁 - To provide a method of producing a patterned birefringent product using a cholesteric structure efficiently in orientation and patterning processes.
コレステリック構造を用いた複屈折パターンを有する物品を、配向、パターニングの工程において効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM SOLAR BATTERY, AND EQUIPMENT OF PROCESSING THROUGH HOLE AND EQUIPMENT OF PATTERNING THE SAME BY POWDER JETTING METHOD FOR THIN-FILM SUBSTRATE
薄膜太陽電池の製造方法ならびに粉体噴射法による薄膜基板貫通孔加工装置およびパターニング装置 - 特許庁 - The lithography apparatus is provided with a lighting system that adjusts radiation beams, support that gives patterns to the cross-section of radiation beams and supports patterning devices to form patterning radiation beams, substrate table that holds a substrate, projection system that projects patterning radiation beams on the targeted part of the substrate, and robot that is configured to transmit replaceable objects, to and from a support region.
本発明のリソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システムと、放射線ビームの断面にパターンを付与してパターン化放射線ビームを形成するパターン化デバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン化放射線ビームを基板のターゲット部分に投射する投影システムと、交換可能オブジェクトを支持領域へ、および支持領域から移送するように構成されたロボットとを有している。 - 特許庁 - Thus, a deformation of the 1st thin-film pattern 111 at an end part 111T is suppressed, and an exact patterning is attained.
これにより、端部１１１Ｔにおける第１薄膜パターン１１１の型くずれを抑制し、より正確にパターニングすることができる。 - 特許庁 - To provide a method for detecting a defect in a mask by patterning a reference substrate by using the mask immediately after the mask is manufactured.
マスクの製造の直後に、マスクによって参照基板をパターン形成するマスクの欠陥を検出する方法を提供すること。 - 特許庁 - Then, the conductive materials 140 are ground in parallel with the surface of the core substrate 111, and the patterning of the conductive layers 112 and 113 is carried out.
そして、コア基板１１１の表面と平行に導電性材料１４０を研磨した後、導電層１１２，１１３をパターニングする。 - 特許庁 - To provide an inkjet recording method capable of easily securing suitable quality in patterning to a building material.
建築材に対する模様付けにおいて好適な品質を容易に確保できるインクジェット記録方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In such a manner, it is possible to eliminate the processes of photo- resist deposition, pattern exposure, and development which have been necessary for patterning the protective insulating film in the conventional art.
これにより従来保護絶縁膜のパターニングに必要としていたフォトレジスト成膜、パターン露光、現像工程を削減できる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor element in which the electrical characteristics of patterns formed by a double patterning process can be controlled, and also to provide a method of controlling the patterns.
ダブルパターニングされたパターンの電気的特性をコントロール可能な半導体素子及びそのパターンコントロール方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which has an electrode of a low resistance and can reduce the number of patterning processes, and to provide a method of manufacturing the same.
低抵抗な電極部を有し、且つパターニング工程数の削減可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an etching liquid composition and a patterning method of a conductive film using the same and a manufacturing method of a flat panel display.
本発明は、エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関する。 - 特許庁 - The 1st conversion part 28a is formed in a display shape, for example, a shape patterning a number, and surrounded with the 1st transmission part 29a.
第１変換部２８ａは表示形状、例えば数字を象った形状に形成され、周囲を第１透過部２９ａに囲まれる。 - 特許庁 - To accurately detect waviness in a sample to be inspected also to a variation of brightness in a patterning light source, and the position deviation of the sample to be inspected.
パターン化光源の明るさの変動や、被検査試料の位置ずれに対しても正確に被検査試料のうねりを検出する。 - 特許庁 - In one embodiment, the system is in the lithography system, and the system further includes a lighting system 212, a patterning device 214, and a projection system 216.
一例では、システムはリソグラフィシステム内にあり、これはさらに照明システム２１２、パターニングデバイス２１４、および投影システム２１６を有する。 - 特許庁 - Ruthenium or osmium is employed as the principal constituent of a mask film 8 upon patterning a capacitor electrode 6 whose principal constituent is platinum or iridium.
白金やイリジウムを主成分とするキャパシタ電極６のパターニング時のマスク膜８の主成分として、ルテニウム又はオスミウムを採用する。 - 特許庁 - To provide an imprint mold suitable for micro patterning, a production method therefor, and a patterned body produced using an imprint mold.
微細なパターンの形成に好適なインプリントモールド及びその作製方法、インプリントモールドを用いて製造されるパターン形成体を提供する。 - 特許庁 - As a result, the circuit can be formed at the internal surface of the insulating base material 4 in the three-dimensional shape with the patterning method using the electromagnetic wave.
この結果、電磁波を用いたパターニング方法で立体形状の絶縁基材４の内面に回路形成を行なうことができる。 - 特許庁 - First, the original plate for patterning 10 where a protective layer 13 is formed to cover over the surface of the liquid crystal layer 12 is prepared ((a) and (b)).
まず、液晶層１２の表面を覆うように保護層１３が形成されたパターニング用原版１０を準備する（図１（ａ）（ｂ））。 - 特許庁 - The production process of the artificial marble with a large-sized color pattern comprises heat curing a molding material containing a thermosetting resin, a filler, patterning materials and a curing agent, wherein the patterning materials having various color tones and shapes are previously inserted and fixed inside a mold for casting, and thereafter a resin compound for casting is injected/filled in the gap of the patterning materials and heat-cured.
熱硬化性樹脂と充填材、柄材、硬化剤を含む成形材料を注型用金型内で加熱硬化させて人造大理石を製造するに当り、予め様々な色調と形状の柄材を注型用金型内に挟み込んで固定した後、柄材の隙間に注型用樹脂コンパウンドを注入・充填して加熱硬化させることにより、大柄の色柄模様を有する人造大理石を製造する。 - 特許庁 - To provide an improved system for patterning of a lapping surface capable of efficiently forming a pattern on the lapping surface with no turbulence.
ラップ仕上面に乱れの無いパターンを効率的に形成することができる、改善されたラップ仕上面のパターン付けシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide an EL element which can be manufactured simply, and especially in which formation of a light shielding layer and patterning of a light-emitting layer can be made simply and easily.
簡易に製造できるＥＬ素子、特に遮光層の形成や発光層のパターニングが簡易にできるＥＬ素子の提供。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern by which a fine resist pattern with excellent lithography properties can be formed in a double patterning process.
ダブルパターニングプロセスにおいて、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - A first motor assembly generates a force in at least one direction and is coupled with any one of the patterning support and the substrate support.
第一モータアセンブリは少なくとも１つの方向に力を発生して、パターニングサポートおよび基板サポートのうちの一方に結合される。 - 特許庁
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