「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 31 32 33 34 35 36 37 38 39 .... 78 79 次へ＞- To provide a method or the like for manufacturing a semiconductor device which enables high precision patterning by using a resist pattern, whose wall surfaces are smoothened to reduce its roughness.
壁面を平滑化しラフネスを低減したレジストパターンを用いて高精細なパターニングを可能とした半導体装置の製造方法等の提供。 - 特許庁 - To provide a metal mask in which patterning superior in handling property and of high precision is enabled in a vacuum vapor deposition process when manufacturing an organic EL element.
有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程において、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能とする金属マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method using a liquid material while using an inkjet system, which directly forms a wiring pattern of a complicated shape on a substrate at a low cost and on-demand.
インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、複雑形状の配線パターンを低コスト、オンデマンドに基板に直描すること。 - 特許庁 - Then, after laminating a protective film thereon and patterning it, contact holes are so formed in the protective film as to expose respectively to the external of the surfaces of each drain electrode, each gate pad, and each data pad.
次に、保護膜を積層しパターニングしてドレーン電極、ゲートパッド及びデータパッドの表面を各々露出する接触孔を形成する。 - 特許庁 - Lines 41, consisting of piano wires of 0.2 mm diameter arranged with the 0.3 mm pitch, are pushed into a barrier rib material mounted on a back panel, then is subjected to patterning of barrier ribs.
直径0.2ｍｍのピアノ線からなるライン41を、隔壁のピッチ（0.3ｍｍ）ごとにバックパネル上の隔壁材料の上から押し込み、隔壁をパターニングする。 - 特許庁 - Next, a floating gate 12, an insulating film 13, a control gate 14 and an on-gate oxide film 15 are formed by patterning said elements in a specific shape.
次いで、これらを所定の形状にパターニングすることにより、浮遊ゲート１２、絶縁膜１３、制御ゲート１４及びゲート上酸化膜１５を得る。 - 特許庁 - By patterning the second film, a first pattern 41a with openings 41 or recessed parts 41c arranged therein, and a second pattern 31a elongated in one direction are formed.
第２の膜をパターニングすることにより、内部に開口(41c)または凹部(41d)が配置された第１のパターン(41a)と、一方向に長い第２のパターン(31a)とを形成する。 - 特許庁 - To easily control a III-V compound semiconductor laser in a lateral mode, improve the aspect ration of a laser beam, and reduce damages by the growth and patterning of an AlN layer.
III-Ｖ化合物半導体レーザの横モード制御を容易にし、ビーム形状の縦横比を改善し、さらに、AlN 層の成長やパターニングによるダメージを減らす。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified negative resist composition less liable to cause bridges and having small substrate dependency of a pattern thereof, and to provide a patterning process using the same.
ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic light emitting element in which patterning of a water-soluble organic material can be carried out simply without deteriorating an element characteristic.
素子特性を劣化させずに簡便に水溶性有機材料をパターニングすることができる有機発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - When the second patterning is performed, the position of the wafer W is adjusted, based on the detection result prior to placing the wafer W on the hot plate of the post-exposure baking (S4).
２回目のパターニングでは、ウェハＷが露光後ベークの熱板に載置される前に、上記検出結果に基づいてウェハＷの位置が調整される（Ｓ４）。 - 特許庁 - By executing the stacking material supply process and the patterning process are executed as a series of continuous processes, the ink coating 22 is prevented from being dried.
この積層用材料供給工程とパターニング工程とを連続した一連の工程として行うことにより、インキ皮膜２２の乾燥を防止する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THIS COMPOSITION
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - The sensor part is formed by patterning a conductor layer, and the signal processing part is formed by providing a metal connecting layer on the conductor layer to be formed on the connecting layer by a flip chip method.
センサ部は導体層をパターニングで形成し、信号処理部は導体層上に金の接続層を設け、接続層上にフリップチップ方法で形成する。 - 特許庁 - To provide a method and a device of manufacturing plate display elements carrying out patterning processes by a method of not using photo processes.
本発明の目的はフォト工程を使わない方法でパターニング工程を遂行する平板表示素子の製造方法及び装置を提供するのにある。 - 特許庁 - With such an arrangement, a mask can be made by patterning a large master mask at a stretch using a reduction projection aligner while fixing a pellicle during exposure.
この構成によれば、露光中、ペリクル取り付けた状態で、大型マスターマスクを縮小投影光学系によって一度にパターン露光してマスクを作成できる。 - 特許庁 - To prevent incomplete resist patterning due to unnecessary temperature rise of an arm for carrying a glass substrate coated with resist to a prebake unit.
レジストが塗布されたガラス基板をプリベークユニットに搬送するための基板搬送アームの不要な温度上昇に起因するレジストパターニング不良を防止する。 - 特許庁 - An intensity adjustment device is positioned in a radiation system, and comprises multiple members for casting penumbrae in the radiation beam illuminating the patterning device.
強度調整デバイスは、放射システム内に配置され、且つ、パターニング・デバイスを照射している放射ビームに半影を投げかけるための複数の部材を備えている。 - 特許庁 - To provide a laser patterning apparatus, wherein time loss during movement of a substrate is reduced to improve TAT (Turn Around Time) and defective machining due to focus deviation is reduced.
レーザパターニング装置において、基板移動中の時間ロスを低減してＴＡＴを向上させるとともに、フォーカスずれによる加工不良を低減する。 - 特許庁 - A patterning device includes a pair of supporting parts 1 disposed at a predetermined interval, a guide bar 2, a processing head 3, a roller stage 4 and a conveying mechanism 5.
このパターニング装置は、所定の間隔をあけて配置された１対の支持部１と、ガイドバー２と、加工ヘッド３と、ローラステージ４と、搬送機構５と、を備えている。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board favorably producing a wiring board with a cut-off part and a notch for alignment formed in a corner part.
角部に切取り部や位置合わせを行なうための切欠きを有する配線基板を良好に作製できる多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁 - The patterning device forms the thin film in a predetermined shape constituting a portion of a thin film solar cell by removing a portion of the thin film with the tool 30.
パターニング装置は、薄膜の一部をツール３０によって除去することにより、薄膜太陽電池の一部をなす所定形状の薄膜を形成する。 - 特許庁 - To obtain a method and a device for manufacturing a photovoltaic device, performing fine laser patterning on an etching resistant film by means of a laser beam having a large focused spot size.
集光スポットサイズの大きいレーザビームで耐エッチング膜に微細なレーザパターニングを行う光起電力装置の製造方法及び製造装置を得ること。 - 特許庁 - To provide a patterning device efficiently forming a thin film of high formation precision, and to provide a thin film-removing tool suitably used for the device.
高い形成精度の薄膜を効率良く形成することのできるパターニング装置、および同装置に用いて好適な薄膜除去工具を提供する。 - 特許庁 - To enable a dye-sensitized solar cell of not bad design to be freely equipped with a collecting electrode, and to be equipped with fine patterning industrially and inexpensively.
意匠性を備えた色素増感太陽電池が、集電用電極を自由に設けられ、工業的に安価で、微細なパターニングを備えるようにする。 - 特許庁 - Patterning the interfaces is controlled to direct more light into the ambient without requiring multiple reflection in the device in order to extract the light.
界面のパターン形成は、光の抽出のために素子内部における多重反射をしないで、より多くの光を外部に送り込めるように制御される。 - 特許庁 - A method for patterning a wafer using a phase shifting photolithography that can produce a critical symmetrical 2-dimensional structure such as a magnetic write pole of a magnetic write head.
磁気書き込みヘッドの書き込み磁極等の重要な対称２次元構造を生産できる、位相シフト光リソグラフィを使用するウェハのパターニング方法。 - 特許庁 - To carry out a partial deposition of a desired material at a desired position on a substrate at a high precision so as to repair patterning in an organic EL element or the like.
有機ＥＬ素子などにおけるパターニングの修正のために、基板上の所望の位置に、所望の材料を高精度に局所成膜すること。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric vibrator, including an additional film, capable of reducing the influence, upon frequency accuracy of the vibrator, caused by variations of a line width during patterning.
パターニング時の線幅のばらつきが振動子の周波数精度に与える影響を低減することができる、付加膜を備えた圧電振動子を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a field emission element which can reduce the number of photomask patterning processes and can improve a manufacturing yield of the field emission element.
フォトマスクパターニング工程数を減らし、電界放出素子の製造歩留まりを高めることのできる電界放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, a high overlay accuracy of a pattern can be achieved even when a pattern is formed on a wafer by utilizing a double patterning method.
これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁 - In the stencil mask manufacturing method, a plurality of thin films are laminated, and patterning is performed by etching processing for each of the thin films.
本発明のステンシルマスク製造方法は、薄膜を複数積層し、それぞれの薄膜についてエッチング加工によるパターン形成を行うことを特徴とする。 - 特許庁 - A material liquid ejector 60 ejects film forming material liquid 70 for patterning in the form of liquid drops 72 being injected into a pattern opening 58 of the mask 50.
原料液吐出器６０は、パタンを形成するための成膜用原料液７０を液滴７２として吐出し、マスク５０のパターン開口５８に注入する。 - 特許庁 - In one of the middle block holes 8, small blocks 10 of several rows are formed, and patterning is applied on the emulsion resist 9 to form a specified fine image pattern.
１つの中ブロック孔８には数列の小ブロック１０が形成され、エマルジョンレジスト９にパターニングがなされて、所定の微細画像パターンが形成される。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL display element of high productivity in which a patterning is easy and adhesive property of joint faces is improved.
容易にパターンニングすることができ、接合面の接着性を改善すると同時に、生産性の良い有機ＥＬ表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent the degradation in arrangement accuracy of filters of respective colors with respect to pixels when alignment of masks is performed for every color in patterning of a color filter array of a solid state imaging element.
固体撮像素子のカラーフィルタアレイのパターニングにおけるマスクの目合わせを各色毎に行うと画素に対する各色のフィルタの配置精度が低下する。 - 特許庁 - A pattern creation means 8 finds a plurality of patterns of the combination for one material under a predetermined patterning condition according to the size of the order.
パターン作成手段８は、注文の寸法に応じて、所定のパターン化の条件の下、１本の材料に対する取り合せのパターンを複数個求める。 - 特許庁 - The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.
前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing organic electroluminescence element which can protect an organic EL element against physical damage, and is capable of patterning a sealing film.
有機ＥＬ素子を物理的な損傷から保護することができ、かつ、封止膜をパターニングすることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive-type photosensitive resin composition having excellent patterning property and retaining a rectangular pattern form even after heat treatment at a high temperature.
パターン加工性に優れ、高温での熱処理後も矩形のパターン形状を維持することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The method for manufacturing the ferroelectric memory device comprises the steps of laminating and patterning a conductive film on an interlayer insulating film having a contact plug, and forming a capacitor lower part electrode pattern.
本発明よると、コンタクトプラグを有する層間絶縁膜上に導電膜を積層してパターニングしてキャパシタ下部電極パターンを形成する。 - 特許庁 - After forming an interlayer film 11a on another interlayer film 4b, a shielding film 12 consisting of TiSi_2 is formed on the interlayer film 11a through patterning.
層間膜４ｂ上に層間膜１１ａを形成した後、層間膜１１ａ上に、ＴｉＳｉ_２からなる遮蔽膜１２をパターニング形成する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PIEZOELECTRIC DRIVING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
パターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus having a programmable patterning means capable of reducing errors due to the movement of a substrate during the duration of the pulse of radiation.
放射線のパルスの持続時間中の基板の移動による誤差を低減できる、プログラマブル・パターニング手段を有するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - A photoresist film formed on the stress mitigating film 30 is processed through patterning and, thereafter, a part of the stress mitigating film 30 is removed by employing the photo resist film as a mask.
応力緩和膜３０上に形成したフォトレジスト膜をパターニングした後、フォトレジスト膜をマスクとして応力緩和膜３０の一部を除去する。 - 特許庁 - To increase the bonding strengths between electrodes for outside connection and solder balls without obstructing fine wire patterning by exposing the partial side faces and whole top faces of the electrodes from an insulating coating film.
フレキシブルテープを配線基板とした半導体装置において、外部接続用電極と半田ボールとの接合強度向上させること。 - 特許庁 - To provide a vacuum deposition mask wherein the patterning part will have no distortion of a pattern shape or misregistration, even if it is fixed to a fixed frame with tensile force applied to it.
張力をかけた状態で固定枠に固定してもパターニング部のパターンの形状の歪みや位置ずれのない真空蒸着マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for an optical waveguide by which no white cloud occurs during the patterning of a core layer and an optical waveguide having small optical loss is manufactured as a result.
コア層のパターニングの際に白濁が生じず、光損失の少ない光導波路を得ることのできる光導波路の製法を提供する。 - 特許庁 - The patterning of the carbon nanotubes is typically accomplished using electrostatic attraction between pre-formed metal lines and the charged carbon nanotubes.
カーボンナノチューブのパターニングは典型的には予め形成された金属線と帯電したカーボンナノチューブとの間の電気的引力を利用することでなされる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a color filter having enhanced contact strength of a seal part at low cost without patterning a transparent protective layer nor transparent conductive film.
透明保護層や透明導電膜をパターニングすることなく、シール部の密着強度を強くしたカラーフィルタを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁
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