「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 31 32 33 34 35 36 37 38 39 .... 78 79 次へ＞- ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THIS COMPOSITION
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - The sensor part is formed by patterning a conductor layer, and the signal processing part is formed by providing a metal connecting layer on the conductor layer to be formed on the connecting layer by a flip chip method.
センサ部は導体層をパターニングで形成し、信号処理部は導体層上に金の接続層を設け、接続層上にフリップチップ方法で形成する。 - 特許庁 - By executing the stacking material supply process and the patterning process are executed as a series of continuous processes, the ink coating 22 is prevented from being dried.
この積層用材料供給工程とパターニング工程とを連続した一連の工程として行うことにより、インキ皮膜２２の乾燥を防止する。 - 特許庁 - Lines 41, consisting of piano wires of 0.2 mm diameter arranged with the 0.3 mm pitch, are pushed into a barrier rib material mounted on a back panel, then is subjected to patterning of barrier ribs.
直径0.2ｍｍのピアノ線からなるライン41を、隔壁のピッチ（0.3ｍｍ）ごとにバックパネル上の隔壁材料の上から押し込み、隔壁をパターニングする。 - 特許庁 - Next, a floating gate 12, an insulating film 13, a control gate 14 and an on-gate oxide film 15 are formed by patterning said elements in a specific shape.
次いで、これらを所定の形状にパターニングすることにより、浮遊ゲート１２、絶縁膜１３、制御ゲート１４及びゲート上酸化膜１５を得る。 - 特許庁 - To reduce fluctuation of a gap, mainly in a sealing portion of each panel obtained by a multi-panel patterning method and to reduce cost by improving display quality and yield.
複数個取りで得られる個々のパネルの主にシール部の間隙バラツキを小さくし表示品質の向上と歩留まりの向上によるコストダウンの効果を得る。 - 特許庁 - Patterning the interfaces is controlled to direct more light into the ambient without requiring multiple reflection in the device in order to extract the light.
界面のパターン形成は、光の抽出のために素子内部における多重反射をしないで、より多くの光を外部に送り込めるように制御される。 - 特許庁 - To provide a patterning device efficiently forming a thin film of high formation precision, and to provide a thin film-removing tool suitably used for the device.
高い形成精度の薄膜を効率良く形成することのできるパターニング装置、および同装置に用いて好適な薄膜除去工具を提供する。 - 特許庁 - To enable a dye-sensitized solar cell of not bad design to be freely equipped with a collecting electrode, and to be equipped with fine patterning industrially and inexpensively.
意匠性を備えた色素増感太陽電池が、集電用電極を自由に設けられ、工業的に安価で、微細なパターニングを備えるようにする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a non-volatile memory element and a patterning method to realize a stepped structure gate in the non-volatile memory element.
本発明は、不揮発性メモリー素子の製造方法を提供し、不揮発性メモリー素子において階段形態のゲートを具現できるパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - The patterning device forms the thin film in a predetermined shape constituting a portion of a thin film solar cell by removing a portion of the thin film with the tool 30.
パターニング装置は、薄膜の一部をツール３０によって除去することにより、薄膜太陽電池の一部をなす所定形状の薄膜を形成する。 - 特許庁 - To obtain a method and a device for manufacturing a photovoltaic device, performing fine laser patterning on an etching resistant film by means of a laser beam having a large focused spot size.
集光スポットサイズの大きいレーザビームで耐エッチング膜に微細なレーザパターニングを行う光起電力装置の製造方法及び製造装置を得ること。 - 特許庁 - To prevent a formation of an inversely tapered cross-sectional end portion of a scan line due to alkali formed from peeling liquid and water during a resist-peeling process after patterning of the scan line.
走査線をパターニング後、レジスト剥離の際、剥離液と水で形成されるアルカリによって走査線の断面端部が逆テーパとなることを防止する。 - 特許庁 - The conductive film or the adhesive layer is subjected to patterning processing to gain the same effect as a usual conductive plate including an ITO (Indium Tin Oxide) layer.
前記導電性フィルム又は前記接着層がパターン化処理され、従来のＩＴＯ層を含む導電板と同様の効果を奏することができる。 - 特許庁 - To provide a probe card that can deal with fine patterning of a semiconductor integrated circuit and an anisotropic conductive film manufacturing method used for the same.
半導体集積回路の微細化に対応することができる、プローブカード及びそれに用いられる異方性導電シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A slimmed sidewall core 4 is formed in a memory cell array area 1a by patterning a polysilicon layer formed on a silicon nitride layer 3.
窒化シリコン層３上に形成されたポリシリコン層をパターニングすることによってメモリセルアレイ領域１ａにスリミングされたサイドウォールコア４を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition excellent in solubility with an alkali aqueous solution during patterning and excellent in mechanical strength, particularly elastic modulus, after cured.
パターニング時のアルカリ水溶液への可溶性に優れ、かつ硬化後の機械的強度特に弾性率に優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an aromatic ring-containing polymer for a resist underlayer, a resist underlayer composition containing the polymer and a method for patterning a device.
レジスト下層膜用芳香族環含有重合体、この重合体を含むレジスト下層膜組成物、および素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce dispersion of a pattern dimension and a pattern shape, and to improve superposition accuracy in manufacturing a semiconductor device using superposition on a lower layer or a double patterning method.
パターン寸法やパターン形状ばらつきの低減や下層との重ね合わせやダブルパターニング法を用いた半導体デバイス製造時の重ね合わせ精度向上。 - 特許庁 - To provide an inspection method for a photomask and an inspection apparatus for a photomask, for determining a defect of a photomask for double patterning and verifying a degree of influences by defects.
ダブルパターニング用フォトマスクの欠陥判定及び欠陥影響度を検証するフォトマスクの検査方法及びフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an oxide semiconductor film suitable for a patterning step upon the production of a semiconductor element, and to provide an oxide sintered compact allowing the semiconductor film to be deposited.
半導体素子の作製の際のパターニング工程に適した酸化物半導体膜、及び半導体膜を成膜できる酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁 - Thus, even when a pattern is formed on a wafer by using a double patterning method, it is possible to achieve the high overlay accuracy of the pattern.
これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁 - Then, self-aligned lithographic patterning is used to form a pattern of the doped semiconductor layer 40 and generate a conductive lead 62.
次に、ドープ半導体層４０を自己整合リソグラフィー法（ｓｅｌｆ−ａｌｉｇｎｅｄ ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）を用いてパターン形成し、導電性リード６２を生成する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.
パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern creation means 8 finds a plurality of patterns of the combination for one material under a predetermined patterning condition according to the size of the order.
パターン作成手段８は、注文の寸法に応じて、所定のパターン化の条件の下、１本の材料に対する取り合せのパターンを複数個求める。 - 特許庁 - The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.
前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁 - To provide a mask for patterning an organic electroluminescence display device which can satisfactorily form a desired shape pattern, and its usage.
目的とする形状のパターンを良好に形成することができる有機エレクトロルミネッセンス表示装置のパターニング用マスクおよびその使用方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat resistant photosensitive resin composition having high adhesiveness to a substrate, free of the problem of precipitation, etc., and exhibiting good patterning performance.
基板との高い接着性を有し、析出等の問題が無く、良好なパターニング性能を発揮する耐熱性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the ferroelectric memory device comprises the steps of laminating and patterning a conductive film on an interlayer insulating film having a contact plug, and forming a capacitor lower part electrode pattern.
本発明よると、コンタクトプラグを有する層間絶縁膜上に導電膜を積層してパターニングしてキャパシタ下部電極パターンを形成する。 - 特許庁 - After forming an interlayer film 11a on another interlayer film 4b, a shielding film 12 consisting of TiSi_2 is formed on the interlayer film 11a through patterning.
層間膜４ｂ上に層間膜１１ａを形成した後、層間膜１１ａ上に、ＴｉＳｉ_２からなる遮蔽膜１２をパターニング形成する。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PIEZOELECTRIC DRIVING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
パターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus having a programmable patterning means capable of reducing errors due to the movement of a substrate during the duration of the pulse of radiation.
放射線のパルスの持続時間中の基板の移動による誤差を低減できる、プログラマブル・パターニング手段を有するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - A photoresist film formed on the stress mitigating film 30 is processed through patterning and, thereafter, a part of the stress mitigating film 30 is removed by employing the photo resist film as a mask.
応力緩和膜３０上に形成したフォトレジスト膜をパターニングした後、フォトレジスト膜をマスクとして応力緩和膜３０の一部を除去する。 - 特許庁 - To increase the bonding strengths between electrodes for outside connection and solder balls without obstructing fine wire patterning by exposing the partial side faces and whole top faces of the electrodes from an insulating coating film.
フレキシブルテープを配線基板とした半導体装置において、外部接続用電極と半田ボールとの接合強度向上させること。 - 特許庁 - In the stencil mask manufacturing method, a plurality of thin films are laminated, and patterning is performed by etching processing for each of the thin films.
本発明のステンシルマスク製造方法は、薄膜を複数積層し、それぞれの薄膜についてエッチング加工によるパターン形成を行うことを特徴とする。 - 特許庁 - A material liquid ejector 60 ejects film forming material liquid 70 for patterning in the form of liquid drops 72 being injected into a pattern opening 58 of the mask 50.
原料液吐出器６０は、パタンを形成するための成膜用原料液７０を液滴７２として吐出し、マスク５０のパターン開口５８に注入する。 - 特許庁 - To prevent the degradation in arrangement accuracy of filters of respective colors with respect to pixels when alignment of masks is performed for every color in patterning of a color filter array of a solid state imaging element.
固体撮像素子のカラーフィルタアレイのパターニングにおけるマスクの目合わせを各色毎に行うと画素に対する各色のフィルタの配置精度が低下する。 - 特許庁 - To provide a positive-type photosensitive resin composition having excellent patterning property and retaining a rectangular pattern form even after heat treatment at a high temperature.
パターン加工性に優れ、高温での熱処理後も矩形のパターン形状を維持することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a single side lamination wiring board exhibiting excellent patterning precision with a high yield.
パターン形成精度に優れた片面積層配線基板を高い歩留まりで製造することができる片面積層配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The main magnetic pole layer 12 is formed through a series of patterning processes using a buffer layer 15 slow in etching speed or a nonmagnetic layer 13 as a stopper layer.
エッチング速度の遅いバッファ層１５や非磁性層１３をストッパ層として使用した一連のパターニング工程を経て主磁極層１２を形成する。 - 特許庁 - To perform specific patterning of a mask appropriately when a processed film on a substrate is etched under low temperature environment where the temperature of a substrate is 100°C or lower.
基板の温度が１００℃以下の低温環境下において、基板上の被処理膜をエッチングする際のマスクを所定のパターンに適切に形成する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board capable of forming a plating film uniform in thickness with respect to a pattern to be plated by an electrolytic plating method.
電解めっき法により被めっきパターンに厚みが均一なめっき膜を被着させることが可能な多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁 - Consequently, a high overlay accuracy of a pattern can be achieved even when a pattern is formed on a wafer by utilizing a double patterning method.
これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric vibrator, including an additional film, capable of reducing the influence, upon frequency accuracy of the vibrator, caused by variations of a line width during patterning.
パターニング時の線幅のばらつきが振動子の周波数精度に与える影響を低減することができる、付加膜を備えた圧電振動子を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a field emission element which can reduce the number of photomask patterning processes and can improve a manufacturing yield of the field emission element.
フォトマスクパターニング工程数を減らし、電界放出素子の製造歩留まりを高めることのできる電界放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing organic electroluminescence element which can protect an organic EL element against physical damage, and is capable of patterning a sealing film.
有機ＥＬ素子を物理的な損傷から保護することができ、かつ、封止膜をパターニングすることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In one of the middle block holes 8, small blocks 10 of several rows are formed, and patterning is applied on the emulsion resist 9 to form a specified fine image pattern.
１つの中ブロック孔８には数列の小ブロック１０が形成され、エマルジョンレジスト９にパターニングがなされて、所定の微細画像パターンが形成される。 - 特許庁 - An outer layer board is laminated on the surface covering layer 6, and the conductive layer 9 of the outer layer board is subjected to a patterning treatment to form a required wiring pattern.
そこで、表面被覆層６上に外層基板を積層し、この外層基板の導電層９に対して所要の配線パタ−ンニング処理を施す。 - 特許庁 - While patterning is performed on the surface of a substrate W, deviation information is delivered from a position controller 74 to a position correction control circuit 72.
基板Ｗの表面にパターンが形成されている間に、位置コントローラ７４からは偏差情報が位置補正制御回路７２へ出力される。 - 特許庁 - To obtain a material capable of being developed in a short time when used for a positive type photosensitive resin composition and developing high sensitive and high contrast patterning properties.
ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に短時間で現像が行え、かつ、高感度、高コントラストのパターニング性能を発現する材料を提供する。 - 特許庁
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