「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 78 79 次へ＞- Then, the bake process after exposure is performed on the photoresist layer after exposure, and the patterning of the photoresist layer is completed by performing a development process.
この後に、露光後ベーク工程は、露光された後に、フォトレジスト層上で行われ、現像工程を行うことによってフォトレジスト層のパターニングを完成する。 - 特許庁 - The color reflector used is prepared by forming a phase volume hologram optical element by interference exposure using a laser and patterning into pixels of RGB colors or the like.
位相型体積ホログラム光学素子を、レーザーを用いた干渉露光により形成し、ＲＧＢ等のパターンにピクセル化したものをカラー反射板として用いる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an inkjet recording apparatus which forms electric wires or electrodes surely and efficiently by patterning treatment with laser beams.
レーザーのパターニング処理により確実にかつ効率よく電気配線又は電極を形成するインクジェット記録装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, and a support constructed to support a patterning device.
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。 - 特許庁 - To provide an electroluminescent element with high insulation property between elements, good sealing property, fine patterning, and uniform luminous property.
発光素子部分間の絶縁分離性が高く、かつ封止能が優れ、パターンニングが高精細であり、発光の均一性が優れた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a transparent container capable of putting a pattern or a letter at an optional position when molding the container at a low cost and a mold therefor.
容器成形時にも任意の位置に模様又は文字を入れることが可能な安価な透明容器の模様入れ方法法及び金型を提供する。 - 特許庁 - PEDOT, which is a conductive polymer, is formed using a spin coater on a glass substrate 10 with ITO that is carried out a slit patterning, and after drying, completed.
スリットパターニングされたＩＴＯ付きガラス基板１０上に導電性ポリマーであるＰＥＤＯＴをスピンコーターを用いて製膜し、乾燥させて形成する。 - 特許庁 - To provide a method of nano-patterning using surface plasmon, a method of manufacturing a master for nano-imprint and a discrete track magnetic recording medium using the same.
表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、これを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The patterning of a plurality of transistors 7, 8 and 9 is carried out on a substrate 2, by using a vapor phase growth method, a photolithography method, an etching method or the like for the substrate 2.
基板２に対して気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法等を施すことによって複数のトランジスタ７，８，９を基板２上にパターニングする。 - 特許庁 - These terminals are formed as a patterning on the ITO film together with the wiring for the positive electrode and the wiring between the positive electrode and terminal of the organic EL element.
これらの端子は、有機ＥＬ素子の陽極および陽極−端子間の配線とともに、ＩＴＯ薄膜に対するパターニングで形成されている。 - 特許庁 - CD (critical dimension) uniformity between the central part and the edge part of the wafer using the two different processes improves a known single-stage patterning process, and the yield is enhanced.
２つの異なる工程により、ウェハ中央部とエッジ部のCD均一性は効果的に公知のシングルステージパターン工程を改善し、歩留まり率が向上する。 - 特許庁 - To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of an insulating base material in the three-dimensional shape such as a cylindrical shape.
筒形などの立体形状の絶縁基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an organic EL panel which can reduce the deterioration factor of light emitting characteristics and enables the efficient highly precise patterning of a pixel.
発光特性の劣化要因を軽減すると共に、高精細な画素の効率的なパターニングを可能とする有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an organic EL element, capable of patterning an organic luminescent layer without using a resist, and to provide the organic EL element and an organic EL display device.
レジストを使用せずに有機発光層をパターニングできる有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子、及び有機ＥＬ表示装置を提供すること。 - 特許庁 - The BPSG film 6 is subjected to a patterning process to make a contact hole 7 (b), polycrystalline silicon is buried in the contact hole 7 to form a contact plug 8.
ＢＰＳＧ膜６をパターニングを行ってコンタクトホール７を形成し（ｂ）、コンタクト孔７に多結晶シリコンを埋込んでコンタクトプラグ８を形成する。 - 特許庁 - A paste composition, containing silver oxide, that is coated on the glass substrate can make a film photosensitive to enable patterning by photolithography.
ガラス基板上に塗膜された酸化銀を含むペースト組成物は皮膜に感光性を持たせることができ、フオトリソグラフイによるパターニングが可能になる。 - 特許庁 - A film thickness t of the device layer 2 as-deposited is adjusted or modulated after the patterning of respective devices by removing the disposable regions 4.
デバイス層２の堆積状態の膜厚ｔは、可処分部分４の除去による個々のデバイスのパターンの形成の後、調整(adjust)または調節(modulate)される。 - 特許庁 - The lithographic apparatus comprises an illumination system which conditions a radiation beam, a support structure which supports a patterning device for patterning the cross section of the radiation beam, a substrate table which holds a substrate, a projection system which projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a robot which replaces a replaceable object.
本発明はリソグラフィ装置に係わり、放射ビームを調整する照明系と、放射ビームの横断面にパターンを与えるパターン付与装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、交換可能物品を交換するロボットとを含む。 - 特許庁 - The method for patterning on the surface of the rock wool board comprises the steps of forming the stripe-like grooves 2 on the surface of the rock wool board 1 by cutting, and thereafter continuously pressing the stripe-like rugged part by the patterning roll 5 having the pins 4 of different diameters and protruding lengths and implanted thereto to form the rugged pattern 6.
ロックウール基板１の表面にストライプ状の凹溝２を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部に直径、突出長さの異なるピン４を植設した模様付けロール５で連続的に押圧して凹凸模様６を形成することを特徴とするロックウールボードの表面模様付け方法にある。 - 特許庁 - The manufacturing method of an element comprises a step of patterning a mold on a substrate, a step of applying a carbon nanotube in the groove formed by the patterning and on the whole surface of the mold, a step of filling the groove with the carbon nanotube applied on the whole surface of the mold, and a step for removing the mold.
本発明による素子を製造する方法は、基板の上にモールドをパターニングする段階と、パターニングによって形成された溝及びモールド前面に炭素ナノチューブを塗布する段階と、モールド前面に塗布された炭素ナノチューブを溝に満たして入れる段階及びモールドを取り除く段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of automatically rearranging each warp of a plurality of warp sheets obtained by arranging a plurality of warps in one layer sheet-like shape every raw material to one layer sheet-like shape in the order of predetermined raw material and automatically patterning warp in the order of predetermined raw material.
複数本の経糸を素材別の一層のシート状に並べてなる複数枚の経糸シートの各経糸を予め定められた素材の順番に経糸を一層のシート状に自動的に並び替えることができ、予め定められた素材の順番に経糸を自動的に柄組みすることができる。 - 特許庁 - When a photoresist is patterned and a material 2 to be worked is worked using the photoresist to produce a semiconductor device, (1) the resist is patterned, and this resist or a mask material formed from the resist is treated by isotropic etching 6 to carry out finer patterning than the former patterning.
フォトレジストをパターニングし、これを用いて被加工材２を加工する工程を有する半導体装置の製造方法において、 レジストについてこれをパターニングしたのち、該レジスト又はレジストにより形成されたマスク材料を等方性エッチング６を用いて処理することにより、先のパターニングよりも微細なパターニングを行う工程を具備する。 - 特許庁 - A lithography apparatus includes an illuminating system that adjusts a radiation beam, a support that supports a patterning device capable of forming a patterned radiation beam by patterning the section of the radiation beam, a substrate table that holds a substrate, and a projection system that projects the patterned radiation beam to a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システム、放射ビームの断面にパターンを付与することによってパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポート、基板を保持する基板テーブル、およびパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムを含む。 - 特許庁 - To establish a technology capable of making patterning materials uniformly distribute in a cast molding even when a large-sized patterning material is used, thereby obtaining an artificial marble with a large-sized color pattern of high quality excellent in design, deluxe feeling and natural feeling, and with less distribution of product strength.
サイズの大きい柄材を使用した場合でも、注型成形体内に該柄材を均一分布させることができ、その結果として、色柄模様が大柄で意匠性、高級感および天然感に優れ、しかも製品強度のバラツキも少ない高品質の色柄模様付き人造大理石を得ることのできる技術を確立すること。 - 特許庁 - The spot from the micro lens array forms the hexagonal and exposed spot grid on the substrate (a) through at least one of the movement of the substrate patterned by the patterning device and/or the change of the frequency of the beam of radiation, or (b) through hexagonal configuration of the patterning device and the micro lens array.
（ａ）パターン形成デバイスによってパターン形成される基板の移動、及び／又は放射のビームの周波数の変更の少なくとも１つを介して、或いは（ｂ）パターン形成デバイス及びマイクロレンズ・アレイの六角形構成を介して、マイクロレンズ・アレイからのスポットは、基板上の六角形の露光されたスポット・グリッドを形成する。 - 特許庁 - A silicon oxide film or silicon oxide nitride film is formed on the surface of a silicon nitride film 12 only when the silicon nitride film 12 has the thickness to cause undercut of the chemically amplifying type resist 13 on the silicon nitride film 12 by lithographic patterning, so as to suppress undercut in the chemically amplifying resist 13 after patterning.
シリコン窒化膜１２の厚さが、リソグラフィによるパターニングによってシリコン窒化膜１２上の化学増幅型レジスト１３にアンダカットが生じる厚さである場合にのみ、シリコン窒化膜１２の表面にシリコン酸化膜またはシリコン酸化窒化膜を形成して、パターニング後の化学増幅型レジスト１３におけるアンダカットを抑制する。 - 特許庁 - At this time, in addition to the shape of a boundary line formed between the substrate 11 and the patterning layer 12, one or more selected from wettability of the substrate 11 and the patterning layer 12, the movement applied to the substrate, and a parameter such as wavelength of light applied to the substrate 11 may be controlled.
このとき、基板１１とパターニング層１２との間で形成される境界線の形状に加えて、基板１１並びにパターニング層１２の濡れ性、基板１１に対して加える動き、基板１１に対して照射する光の波長等のパラメータのうち何れか１つ以上を制御するようにしてもよい。 - 特許庁 - In the patterning method of impurity doped indium oxide thin film, the patterning method includes: a process for etching the impurity doped indium oxide thin film in a dry etching method; and a process for etching the impurity doping indium oxide thin film, which was subjected to the dry etching method, in a wet etching method.
不純物ドープ酸化インジウム薄膜のパターニング方法において、ドライエッチング法により該不純物ドープ酸化インジウム薄膜のエッチングを行う工程と、ウェットエッチング法により前記ドライエッチング法を行った不純物ドープ酸化インジウム薄膜のエッチングを行う工程とを行うパターニング方法を用いる。 - 特許庁 - To provide a polymer composition for the color filter substrate by which the patterning having a taper form can be easily carried out even the case of high density color or low density color and the deviation of the patterning dimension from a mask design can be controlled to be minimum, and to provide a color filter substrate using the same and the liquid crystal display device using the color filter substrate.
(1)高濃度色、低濃度色に拘らず、テーパ形状のパターニングが容易で、マスク設計に対する、パターニング寸法のズレを最小限とすることが可能なカラーフィルタ用重合組成物、(2)これを用いたカラーフィルタ基板、および、(3)このカラーフィルタ基板を使用した液晶表示装置、を提供すること。 - 特許庁 - In a semiconductor production process, the method for patterning protein including a metal on a semiconductor substrate comprises a step for forming a thin film of a charged material on a photoresist, a step for patterning the charged material, and a step for adsorbing supermolecules of protein including a metal to the charged material.
半導体製造プロセスにおいて、フォトレジスト上に電荷を帯びた材料の薄膜を形成する工程と、該電荷を帯びた材料をパターニングする工程と、金属内包タンパク質超分子を該電荷を帯びた材料に吸着させる工程とを含むことを特徴とする金属内包タンパク質を半導体基板上にパターニングする。 - 特許庁 - A piezoelectric element 11 is provided with two electrode layers, a drive electrode and a detection electrode are provided to the first electrode layer through patterning, input output electrodes are provided to the second electrode layer at a non vibrated part of the piezoelectric vibrator 1 through patterning and a single electrode layer is adopted for the vibrated part of the piezoelectric vibrator 1.
圧電素子１１に２層の電極層を設け、１層目の電極層にパターニングで駆動電極と検出電極とを設け、２層目の電極層は圧電振動子１の振動しない部分にパターニングで入出力電極を設け圧電振動子１の振動する部分の電極層を１層にする。 - 特許庁 - Namely, although in a prior art manufacturing method of an elastic boundary wave device, patterning which does not cover an electrode with the clad layer is required, when the clad layer is formed, since such a clad layer patterning is not required in this embodiment, the number of processes at the time of manufacturing can be reduced, and this leads to reduction in the manufacturing cost.
すなわち、従来の弾性境界波デバイスの製造方法では、クラッド層を形成する際、電極をクラッド層で覆わないようにパターニングする必要があったが、本実施の形態ではこのようなクラッド層のパターニングが必要でないため、製造時の工程を削減することができ、製造コストを削減することができる。 - 特許庁 - After the first resist pattern is formed using the resist composition containing a thermal base generator as a chemically-amplified resist composition in the first patterning, a hard bake process is performed before the second patterning, for baking the first resist pattern under a bake condition that a base is generated from the thermal base generator.
１回目のパターニングの際、化学増幅型レジスト組成物として、熱塩基発生剤を含有するレジスト組成物を使用して第一のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニングを行う前に、第一のレジストパターンを、前記熱塩基発生剤から塩基が発生するベーク条件にてベークするハードベーク工程を行う。 - 特許庁 - To provide a method for forming simply and conveniently a first wiring pattern including patterns of less than resolution limit in a first wiring pattern formation region and a second wiring pattern comprised of usual patterns of more than or equal to resolution limit in a second wiring pattern formation region, by using an SADP method (Self Align Double Patterning) through two-time lithography steps is used to form.
２回のリソグラフィ工程によるＳＡＤＰ法（Self Align Double Patterning）を用いて、第１配線パターン形成領域には解像限界未満のパターンを含む第１配線パターンを形成し、第２配線パターン形成領域には解像限界以上の通常パターンからなる第２配線パターンを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board capable of cutting a matrix substrate by a dicing process at a boundary of wiring board regions with favorable workability while suppressing the occurrence of failures such as chipping, in the multiple patterning wiring board with the matrix substrate formed of a glass ceramic sintered body.
ガラスセラミックス焼結体で母基板が形成された多数個取り配線基板であって、配線基板領域の境界において母基板をダイシング加工により、チッピング等の不具合の発生を抑制しながら、作業性を良好として切断することが可能な多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁 - A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.
リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - To provide a patterning method which remarkably enhances the productivity of pattern formation to base material, does not require the vacuum environment, allows the pattern to be continuously and stably formed and treated on the base material and enhances the maintenance and to provide a film forming apparatus which performs the patterning.
基材上へのパターンの形成の生産性を大幅に高めるとともに、真空環境をつくる必要もなく、パターンを基材上に連続的に、安定して形成、処理することができるメンテナンス性の向上したパターニング方法及び該パターニングを行う製膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing the semiconductor element comprises a step of cutting one substrate obtained by patterning, and laminating the non-single crystal semiconductor layer containing at least the hydrogen, the group III element and the nitrogen and at least two electrodes, in accordance with the patterning of the semiconductor layer and the electrodes.
少なくとも水素とＩＩＩ族元素と窒素とを含む非単結晶半導体層及び少なくとも二つの電極をパターニングして積層した、一枚の基板を、前記非単結晶半導体層及び前記電極のパターニングに従って、切断することを特徴とする半導体素子の製造方法である。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist film from the resist composition on a surface to be processed, and exposing and developing the resist to form a resist pattern, and a patterning step of patterning the object surface by etching using the resist pattern as a mask.
本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁 - The production process of this resin molded article 10 having a marble grain pattern comprises a step of adding and dispersing patterning material particles 14 for forming a marble grain pattern into a matrix resin 12 consisting of a thermosetting resin, wherein, as the patterning material particles 14, colored particles of a thermoplastic polymer are used and the colored thermoplastic polymer particles 14 are added and dispersed into the matrix resin 12.
石目調模様を形成するための模様材粒子１４を熱硬化性樹脂から成るマトリックス樹脂１２中に分散含有させて成る石目調樹脂成形品１０において、模様材粒子１４として熱可塑性ポリマーの着色粒子を用い、これをマトリックス樹脂１２中に分散含有させる。 - 特許庁 - In the industrial woven fabric for reed screen patterning of monolayer or multilayer structure, the industrial woven fabric for reed screen patterning comprises all the warps and wefts made of monofilaments of synthetic resin and has the diameters of the wefts at the surface side of at least 1.5 times-10 times as much as those of the warps at the surface side.
単層又は多層構造の簾模様付け工業用織物において、経糸と緯糸の全てが合成樹脂モノフィラメントであり、少なくとも上面側緯糸の直径が上面側経糸の直径の１．５倍〜１０倍であることを特徴とする簾模様付け用工業用織物である。 - 特許庁 - To obtain a convenient patterning method employing a metal mask and a method for forming a pattern connected with a large number of circuit units on the surface and rear of a substrate with high connection reliability, in which different patterning can be realized at the electrode part and the wiring part on the circuit board by physical deposition without changing a metal mask set once.
金属マスクを用いる簡易なパターニング方法で、基板の表裏両面に多数個の回路ユニットが連結されたパターンを接続信頼性のある方法で、且つ、回路基板上の電極部位と、配線部位とでそれぞれ異なるパターニングを、一度セットした金属マスクを交換することなく、物理蒸着にて実現する。 - 特許庁 - After patterning treatment liquid A (220) such as a developer is supplied onto a substrate 200 from a treatment liquid supplying device 121, a film-like member 133 arranged on or near a substrate conveyance path goes over the surface of the patterning treatment liquid 220 to crush bubbles 220a in the treatment liquid 220.
処理液供給装置１２１から基板２００上に現像液等のパターニング用処理液Ａ（２２０）を供給した後に、基板搬送路上又は搬送路近傍に設けられたフィルム状部材１３３によりパターニング用処理液２２０の表面をなぞり、処理液２２０中の気泡２２０ａを押しつぶす。 - 特許庁 - To provide a method of improving close adhesiveness between a copper patterning layer and a insulated resin layer without a process to form a coarse surface of the copper patterning layer surface through the chemical process using chemicals for a blackening process of the prior art in order to eliminate the problem that reduction of manufacturing period and manufacturing cost is dented.
従来の技術の黒化処理等の薬品を用いて化学処理による銅パターン層表面の表面粗化を処理せずに、銅パターン層と絶縁樹脂層の密着力を向上させる方法を提供し、工期短縮と製造コストの削減を損なう問題を解消することにある。 - 特許庁 - To prevent flow out of thin film material liquid over a bank when thin films having different characteristic properties are formed on the same substrate by patterning, surely accurately, relatively simply form in high yield the thin film layer having stable characteristics such as flat surface, uniform thickness, and no color unevenness, and make precise fine patterning possible.
特性の異なる薄膜を同一基板上にパターニング成膜する場合、薄膜材料液体がバンクを超えて流れ出るという事態を防止し、平坦且つ均一厚みの色むらなどの無い安定した特性の薄膜層を確実に高精度に比較的簡単に歩留まり良く形成でき、高精細な微細パターニングを可能とする。 - 特許庁 - To provide a thin film deposition method by which an area excepting mask material on a body to be processed where patterning of the mask material is performed is coated with liquid material, patterning is performed by means of the difference of wettability, and when the material is solidified thereafter, the shape of the pattern-formed thin film is made rectangular, and to provide the body to be processed having the thin film.
マスク材がパターニングされた被処理体上において、マスク材を除く領域に液体材料を塗布し、濡れ性の差によりパターニングを行い、その後固化した際に、パターン形成された薄膜の形状を矩形化できる薄膜形成方法および薄膜を有する被処理体を提供すること。 - 特許庁 - The coating method for drawing the pattern on an undried coated film within a range of thickness 0.5 to 5.0 mm formed of a coating material is so constituted that the patterning roller 11 having a plurality of projected stripes 12 is used for drawing patterns and that the projected stripes of the patterning roller are only brought into contact with the undried coated film.
塗材により形成された０．５〜５．０ｍｍの範囲の厚みの未乾燥塗膜に対して、模様付けを行う塗装方法において、模様付けを複数の凸条１２を有する模様付けローラ１１を用い、且つ、模様付けローラの凸条部分のみを未乾燥塗膜に接触させることである。 - 特許庁 - A method for manufacturing a semiconductor device includes; a resist pattern forming step of forming a resist pattern by forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition, exposing and developing the resist film; and a patterning step of patterning the surface to be processed, by etching through the resist pattern as a mask.
本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method and device of an electroluminescent element in which the constituting layer in the emission region that is almost impossible of patterning is formed uniformly and in high quality membrane and the patterning is performed in a wide viscosity range and in wide selections of use of solvent, and which can be implemented in a short time.
パターニングが不可能とされる発光領域の構成層を均一かつ高膜質にパターン化して形成する上に、そのパターン化を幅広い粘度範囲及び広範囲の溶剤の選択使用下で行える短時間に実施可能な電界発光素子の製造方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁 - Since the conveying vessel accommodating the patterning means is combined with a storing vessel forming storing space inside, after transferring the patterning means into the storing space, it is surrounded with gliding walls, and the inside of the gliding walls is exhausted to be a vacuum chamber, and the conventional vessel can be used because vacuum adaptation is not necessary for the conveying vessel itself.
パターニング手段を入れた搬送容器を、内部に保管スペースを形成する保管容器に結合し、パターニング手段を保管スペースに移してから摺動壁で囲んでその中を排気して真空室にするので、搬送容器自体は真空適合性がある必要はなく、従来の容器が使える。 - 特許庁
- 特許庁
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