「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 36 37 38 39 40 41 42 43 44 .... 78 79 次へ＞- The method of manufacturing the patterning device, includes providing a patterning device having the blank layer and the patterned layer of the opaque material on the surface of the blank layer, applying the PFPE liquid to the surface covering the surface in order to form the PFPE liquid layer and removing at least a portion of the PFPE liquid layer.
パターニング・デバイスの製造方法は、素材層および不透明材料のパターン状層を有するパターニング・デバイスを素材層の表面に設けることと、ＰＦＰ液層を形成するため、表面に表面を覆うＰＦＰＥ液を塗布することと、ＰＦＰ液層の少なくとも一部を除去することとを含む。 - 特許庁 - In a method for manufacturing an organic EL display device, an organic compound layer is formed by vapor deposition after a layer used for patterning the organic compound layer has been formed, and thereby, the organic compound layer such as a luminous layer is formed at a uniform film thickness without being affected by the surface tension at a side face of the layer used for patterning the organic compound layer.
有機化合物層をパターニングするための層を設けた後は、有機化合物層を蒸着法により形成することで、有機化合物層をパターニングするための層の側面部の表面張力の影響を受けずに、均一な膜厚で発光層などの有機化合物層を形成する。 - 特許庁 - To provide a halftone mask having a structure of a light shielding film and a translucent film layered on a transparent substrate, in which admissibility for an alignment error is increased by patterning a first layer (light shielding film) by using indispensable pattern data if great importance is placed on the first layer and by patterning a second layer by using redundant pattern data including errors of superposition.
透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a dielectric film which allows patterning and reduces or fully removes a residue after etching paste thermal treatment, by etching the dielectric film having such a thickness not capable of being etched in single etching paste processing through simple processing using the etching paste to form a patterned film.
一度のエッチングペーストによる処理ではエッチングできない程度の厚さを有する誘電体膜を、エッチングペーストを用いた簡単な処理でエッチングしてパターニングを形成できるとともに、エッチングペーストの熱処理後に発生する残渣を低減もしくは完全に除去できる誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an ink composition for reverse printing which allows for printing with uniform thickness and high definition patterning, and to provide a printing method and a manufacturing method of a display device.
均一な膜厚かつ高精細なパターニングで印刷を行うことができる反転印刷用インキ組成物，印刷方法および表示装置の製造方法を提供する - 特許庁 - To prevent a previously formed resist pattern from being dissolved in a solvent of a resist material applied thereon without complicating a processing step in double patterning.
ダブルパターンニングにおいて、処理工程を煩雑化させることなく、先に形成されたレジストパターンがその上に塗布されたレジスト材料の溶剤に溶けることを防止する。 - 特許庁 - An interlayer insulating layer 60 is formed and a 2nd patterning process is performed to define a source/drain contact hole 66, a data line contact hole 68, and a terminal contact hole 65.
層間絶縁層６０が形成され、第２パターン化プロセスが実行されてソース／ドレインコンタクトホール６６、データ線コンタクトホール６８、及びターミナルコンタクトホール６５が画定される。 - 特許庁 - Then, in the second process, concurrently with patterning of the barrier rib forming material layer 120, a positioning mark 113 is formed by a surface treatment of the rear substrate 103.
そして、第２工程において、隔壁形成材料層１２０のパターニングと同時に、背面基板１０３の表面を加工して位置合わせマーク１１３を形成する。 - 特許庁 - After a gate electrode forming film and a gate electrode cover film are formed on a semiconductor substrate, the gate electrode is formed by etching the gate electrode forming film by anisotropic etching and by using a gate electrode cover formed by patterning the gate electrode cover film as a mask.
さらに、ゲート電極の細小化にともなってＬＤＤ構造のサイドウォール厚みを可変とした半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The abnormal growth of the HSG-Si is prevented, pinch-off with an upper electrode is prevented, and the leakage current is suppressed by conducting the patterning after treatment to form the HSG-Si.
ＨＳＧ−Ｓｉ化の処理後にパターニングすることにより、ＨＳＧ−Ｓｉの異常成長を防止でき、上部電極とのピンチオフを防止し、リーク電流を抑制できる。 - 特許庁 - Then, the conductive paste 12 is applied to a modified region 20 of the substrate surface 10a where the surface treatment is applied along the pattern forming elements 14 of the patterning member 16.
次に、基板表面１０ａの表面処理を施した改質領域２０に、パターニング部材１６のパターン形成要素１４に沿って、導電性ペースト１２を付与する。 - 特許庁 - The first partitioning wall 9 and the second partitioning wall 26 are formed by applying a partitioning wall paste layer using a roller, and by burning the partitioning wall paste layer after patterning.
第１の隔壁９及び第２の隔壁２６は、ローラにより隔壁ペースト層を塗布し、この隔壁ペースト層をパターニングした後焼成して形成されたものである。 - 特許庁 - To provide a fine structure patterning method capable of preparing a uniform pattern into large area by easily solidifying various kinds and properties of substance fluids.
簡便に、様々な種類、性質の物質流体を固化させることで均質なパターンを大面積に作製することのできる新しい微細構造パターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce damage during patterning of a magneto-resistance effect sensor film, and failures caused by current leakage between upper and lower shields in a magneto-resistance effect type head of a CPP structure.
CPP構造の磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、磁気抵抗効果センサ膜のパターニングの際のダメージや、上下のシールド間の電流のリークなどによる不良を低減する。 - 特許庁 - To make a player surely recognize the changeover of a special pattern under the display state that complicated pattern variation patterning advances and the changeover time of the special pattern becomes hard to recognize.
複雑化する図柄変動パターン化が進み、特別図柄の切換時期がわかりずらくなる表示状態の下で、確実に遊技者に特別図柄の切換を認識させる。 - 特許庁 - To provide a producing method of multi-layer circuit board for improving close contact strength between wiring and insulating resin film while preventing a patterning fault accompanied by advancement in microfabrication.
微細化に伴うパターニング不良を回避しながら、配線と絶縁樹脂膜との間の密着強度を高めることができる多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an optoelectronic device with which the number of patterning processes can be suppressed and the reduction of electric power consumption is made possible, a driving method for the optoelectronic device, and electronic equipment.
パターニングの工程数を抑制するとともに、低消費電力化を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の駆動方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - A back layer is integrally laminated on the back surface of a patterning sheet 1 and an FRP main body layer is integrally laminated on the back layer.
模様付けシート１の背面にバック層３０を一体に積層すると共にバック層３０の背面にＦＲＰ主体層４０を一体に積層して構成される。 - 特許庁 - A first portion of the line assembly is extended between a base and the additional support, and a second portion is extended between the additional support and the patterning support or the substrate support.
線アセンブリの第一部分はベースと追加のサポートとの間に延在し、第二部分は追加のサポートとパターニングサポートまたは基板サポートとの間に延在する。 - 特許庁 - To obtain an etching shape without a side-wall deposition film as a reattached etching film to a sidewall of a resist, without disturbing minute patterning in a non-reactive sputtering etching step.
反応性を用いないスパッタエッチングにおいて、微細化を妨げることなく被エッチング膜のレジスト側壁への再付着による側壁析出膜のないエッチング形状を得る。 - 特許庁 - To improve defective short circuit problem due to the manufacturing step for patterning a reflective substance layer by unit cells, utilizing a laser to enhance the optical conversion efficiency of a thin-film solar cell.
レーザを利用して単位セル別に反射物質層をパターニングする工程による短絡不良問題を改善し、薄膜太陽電池の光変換効率を向上させる。 - 特許庁 - The first electrode 22 is formed, by selecting one or more layers among the conductive films 22A, 22B, and 22C constituting the connective conduction part for patterning.
第１電極２２は、接続導電部を構成する導電膜２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃのうちの単層又は２層以上が選択されパターニングされて形成されている。 - 特許庁 - In the inkjet recording process, dots are formed by ink droplets for which the volume of one ink droplet impacted onto the recording surface 72 is equal to or more than 45pl, and patterning is performed.
インクジェット記録工程では、記録面７２に着弾する一滴のインク滴の体積が４５ｐｌ以上のインク滴によって、ドットが形成されて模様付けされる。 - 特許庁 - OPTICAL FILM, LIGHT REFLECTING FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING OPTICAL FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERNING ROLLER, AND METHOD AND APPARATUS FOR STICKING OPTICAL FILM THEREFOR
光学フィルム、光反射フィルム、液晶表示パネル、光学フィルム製造方法および装置、型ローラ製造方法、ならびに光学フィルム貼付方法および装置 - 特許庁 - To provide a device and method for manufacturing display plate, permitting to carry out patterning of a thin film with efficiency and high accuracy without using a photo etching process.
本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁 - When patterning is performed in order to form the movable member and the base thereof on the substrate, a structure is formed simultaneously on the channel wall and at the position of the substrate beneath the liquid chamber frame.
基板へ可動部材および可動部材台座を形成する際のパターニング時に流路壁および液室枠下の基板位置に構造物を同時に形成する。 - 特許庁 - To provide a high sensitivity; low smear sensor capable of forming, in a self alignment manner, a reflection prevention film forming an island-shaped reflection prevention film on a photodiode; and forming a reflection prevention film on the photodiode without securing overlapping accuracy due to patterning of the reflection prevention film beyond necessity.
反射防止膜のパターニングによる重ね合わせ精度を必要以上に確保することなく、フォトダイオード上に島状の反射防止膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive conductive paste capable of carrying out a fine patterning and exhibiting conductivity in a comparatively lower temperature cure, and to provide a method of manufacturing a conductive pattern.
微細なパターンニングが可能で、比較的低温のキュアで導電性を発現することができる感光性導電ペーストおよび導電パターンの製造方法を得る。 - 特許庁 - To perform patterning of a conductive layer, formed of a light-reflective conductive material, with high quality in a method of manufacturing an electrooptical device such as a liquid crystal display device.
液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、光反射性を有する導電性材料から形成された導電層を高品位にパターニングする。 - 特許庁 - To provide a patterning method for an aluminum shape having a pattern with a sense of natural texture or a three-dimensional and geometric pattern, and an aluminum shape obtained thereby.
自然の風合い感のある模様や立体感のある幾何学的模様を備えたアルミニウム形材の模様付け方法と、それにより得られたアルミニウム形材を提供する。 - 特許庁 - To provide removal plate cleaning method and device for a removal plate, inexpensively patterning a plurality of substrates highly accurately by using a reverse relief printing plate printing method.
反転凸版印刷法を用いて安価に複数枚の高精細なパターニングを可能とする、除去版の除去版洗浄方法及び除去版洗浄装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a masking coating on a metal surface by an inkjet method, that is, means for heightening the patterning precision of the masking coating and making the surface smooth.
インクジェット方式で金属表面にマスキング皮膜を形成する方法であって、マスキング皮膜のパターニング精度を高め、かつ表面を平滑にする手段を提供すること。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device with improved display quality in which patterning failure in the pixel electrode formed in the outermost peripheral pixel part of the display region can be eliminated.
表示領域最外周画素部に設けられた画素電極のパターニング不良を無くし、表示品位の向上した液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.
高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁 - The mask for conductive film patterning is a mask for forming pattern on a substrate, and the corners of the mask are rounded to 0.01-0.1 mm R.
基板にパターンを形成するためのマスクであって、該マスクの角の部分にＲ＝０．０１〜０．１ｍｍの円味をもたせたことを特徴とする導電膜パターン化用マスク。 - 特許庁 - To provide a precursor composition for resists having excellent liquid film-formation ability and pattern formation ability suitable for photo-nanoinprint and a method for micro-patterning using the composition.
光ナノインプリントに適した液膜形成能、およびパターン形成能のすぐれたレジスト前駆体組成物ならびにこれを用いた微細なパターンの形成法を提供する。 - 特許庁 - DRAM crown cells are foamed by forming sidewall filaments 240 on such forming walls, after partly patterning etching of a polysilicon layer 230.
ＤＲＡＭクラウン・セルが、ポリシリコン層（２３０）の部分的なパターンぎめエッチの後、こうして形成された壁の上に側壁フィラメント（２４０）を形成することによって形成される。 - 特許庁 - As a result, there is no need to conduct masking which avoids the exposed region of the high heavily-doped layer 30a, when patterning in a device forming process is performed.
この結果、デバイス作製工程のパターン付けをする際は、この従来の高濃度不純物層３０ａの露出した領域を避けてマスキングする必要がない。 - 特許庁 - In a semiconductor substrate wherein a stopper layer and a sacrifice layer are laminated, the surface of the sacrifice layer is oxidized to overlap a resist to the oxidized surface of the sacrifice layer, and patterning is performed.
ストッパ層と犠牲層を積層した半導体基板において、犠牲層表面を酸化させてレジストを酸化した犠牲層表面までオーバーラップさせてパターニングを行う。 - 特許庁 - The lithographic apparatus further includes a vibration measuring device configured to measure a relative vibration between the patterning device and the substrate during exposure onto the target portion.
リソグラフィ装置はさらに、目標部分の露光の間にパターニングデバイスと基板との間の相対的振動を測定するよう構成された振動測定装置を備える。 - 特許庁 - Thereby, etching speed of the ZnO-based transparent electrode can be made slow and improvement in controllability at the time of patterning can be achieved.
本発明によれば、ＺｎＯ系透明電極のエッチング速度を遅くすることが可能になり、それによりパターニングの際の制御性の向上が図れるという効果がある。 - 特許庁 - Having multiple magnifications in the object plane allows for patterning of both large and small features on an image plane, which can include the substrate therein.
物体平面において複数の倍率をもつことから、基板に含まれる大きいフィーチャも小さいフィーチャもともに１つの像平面上にパターニングすることができる。 - 特許庁 - The forgery preventing medium includes a patterning optically anisotropic layer formed by discharging an ink composition containing a liquid crystal compound to an alignment layer by an inkjet method.
液晶化合物を含有するインク組成物をインクジェット法により配向層上に吐出して形成したパターニング光学異方性層を有する偽造防止媒体。 - 特許庁 - The porous conductive materials are connected on the metal support body and are adopted selective patterning in the pore to form the cell element part and the solid oxide fuel cell is obtained.
金属支持体上に多孔質導電材を接合し、細孔内に選択的にパターニングして電池要素部を形成し、固体酸化物形燃料電池を得る。 - 特許庁 - To provide a method and device for appropriately evaluating the deviation and overlapped region between first and second patterns formed by double patterning.
本発明の目的は、ダブルパターニングによって形成される第１パターンと第２パターン間のずれ、重なり領域の評価を適正に行い得る方法，装置の提供にある。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified resist material capable of suppressing pattern defects of a chemically amplified resist film caused by base species from outside, and to provide a patterning method using the same.
外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a highly practicable patterning process capable of forming a further finer pattern simply and efficiently and applicable to semiconductor manufacturing.
より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であり、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - At this time, more accurate patterning can be performed, because the end section 17T of a first thin film pattern 17 protected by the soluble layer 2 does not cause mold damage.
この際、可溶層２によって保護される第１の薄膜パターン１７の端部１７Ｔが型くずれを生じないので、より正確なパターニングをおこなうことができる。 - 特許庁 - When patterning the zinc oxide-based transparent conductive film by etching, the zinc oxide-based transparent conductive film is treated with water before the etching process.
酸化亜鉛系透明導電膜をエッチングによりパターニングするに際し、エッチング工程より前に酸化亜鉛系透明導電膜を水で処理することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of dipping pen nano-lithography (DPN), a substrate processed by patterning by DPN, a kit for carrying out DPN, and an AFM chip coated by hydrophobic compound.
「つけペン」ナノリソグラフィ（ＤＰＮ）の方法、ＤＰＮによってパターニングされた基板、ＤＰＮを行うためのキット及び疎水性化合物で被覆されたＡＦＭチップを提供する。 - 特許庁
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