「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 36 37 38 39 40 41 42 43 44 .... 78 79 次へ＞- In a method for manufacturing an organic EL display device, an organic compound layer is formed by vapor deposition after a layer used for patterning the organic compound layer has been formed, and thereby, the organic compound layer such as a luminous layer is formed at a uniform film thickness without being affected by the surface tension at a side face of the layer used for patterning the organic compound layer.
有機化合物層をパターニングするための層を設けた後は、有機化合物層を蒸着法により形成することで、有機化合物層をパターニングするための層の側面部の表面張力の影響を受けずに、均一な膜厚で発光層などの有機化合物層を形成する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the patterning device, includes providing a patterning device having the blank layer and the patterned layer of the opaque material on the surface of the blank layer, applying the PFPE liquid to the surface covering the surface in order to form the PFPE liquid layer and removing at least a portion of the PFPE liquid layer.
パターニング・デバイスの製造方法は、素材層および不透明材料のパターン状層を有するパターニング・デバイスを素材層の表面に設けることと、ＰＦＰ液層を形成するため、表面に表面を覆うＰＦＰＥ液を塗布することと、ＰＦＰ液層の少なくとも一部を除去することとを含む。 - 特許庁 - To provide a halftone mask having a structure of a light shielding film and a translucent film layered on a transparent substrate, in which admissibility for an alignment error is increased by patterning a first layer (light shielding film) by using indispensable pattern data if great importance is placed on the first layer and by patterning a second layer by using redundant pattern data including errors of superposition.
透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a dielectric film which allows patterning and reduces or fully removes a residue after etching paste thermal treatment, by etching the dielectric film having such a thickness not capable of being etched in single etching paste processing through simple processing using the etching paste to form a patterned film.
一度のエッチングペーストによる処理ではエッチングできない程度の厚さを有する誘電体膜を、エッチングペーストを用いた簡単な処理でエッチングしてパターニングを形成できるとともに、エッチングペーストの熱処理後に発生する残渣を低減もしくは完全に除去できる誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - Thereafter, an Al wiring layer is formed in such a way that the wiring layer can be connected to the plug 6 through the connecting hole 8, and wires 9a-9c are formed by patterning the wiring layer.
接続孔８を通じて接続孔プラグ６に接続するようにＡｌからなる配線層を形成し、パターンニングを行って配線９ａ〜９ｃを形成する。 - 特許庁 - Then, in the second process, concurrently with patterning of the barrier rib forming material layer 120, a positioning mark 113 is formed by a surface treatment of the rear substrate 103.
そして、第２工程において、隔壁形成材料層１２０のパターニングと同時に、背面基板１０３の表面を加工して位置合わせマーク１１３を形成する。 - 特許庁 - The effect of the cleaning action in the cleaning device is effectively increased by rotating the cleaning probe while the wafer is cleaned, and the occurrence of wafer patterning damages is suppressed to the minimum.
ウェーハが洗浄される間に洗浄プローブを回転させることにより装置の洗浄作用を効果的に増加させ、ウェーハパターンダメージの発生は最小にする。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board excellent in partitivity which reduces the generation possibility of cracks, burrs and the like at the time of dividing a substrate into each wiring board region.
基板を各配線基板領域に分割する際に、クラックやバリ等が発生する可能性を低減させ、分割性に優れた多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a thick film capable of patterning in a great film thickness and to provide a a multicolor light emitting device using the manufacturing method and a screen printing plate using the device.
高膜厚でパターニングできる厚膜の製造方法を提供し、前記製造方法を利用した多色発光装置とこれに用いるスクリーン印刷版を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method for easily forming a fine pattern on a surface having a three-dimensional spread, a wiring substrate using the method, and to provide an electronic apparatus.
容易に３次元的な広がりを持った面に対し微細パターンを形成することができるパターン形成方法、該方法を用いた配線基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - At patterning the remaining part of the floating gate and the control gate, a recessed part prevented from being formed due to the excessive etching of the source line formation region 88 is eliminated.
したがって、フローティングゲートの残りの部分及びコントロールゲートのパターンニングをする際、ソース線形成領域８８が過度にエッチングされ、凹部が形成されるということがなくなる。 - 特許庁 - Thus, proportion of the presence of the crystal defect 4b by the growth of a GaN film 4 can be reduced by patterning the mask 3 into the shape of dots.
このように、マスク３をドット状にパターニングすることによって、ＧａＮ膜４の成長による結晶欠陥４ｂの存在する割合を減少させることができる。 - 特許庁 - The polycrystallized silicon layer with the HSG-Si formed is made to be conductive by being annealed in an atmosphere of PH_3, and after that, patterning is conducted to form the lower electrode (S5).
ＨＳＧ−Ｓｉが形成され多結晶化したシリコン層をＰＨ_3雰囲気中でアニールすることにより導電化した後、パターニングし下部電極を形成する（Ｓ５）。 - 特許庁 - Lithographic equipment which transfers a pattern from a patterning device to a substrate comprises an integrated after-exposure baking device which is so constituted as to expose the substrate to a set temperature cycle.
パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するリソグラフィ装置は、基板を既定の温度サイクルにさらすように構成された一体型露光後ベークデバイスを備える。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition showing excellent developability in patterning a calcined product thereof and showing excellent adhesiveness to a substrate and excellent interlayer adhesiveness after calcined.
焼成物パターン形成において、現像性に優れ、焼成後の基板への密着性及び層間の密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The lithography projection apparatus comprises a lighting system 40 designed to adjust radiation beams and a supporting member designed to support a patterning device MA.
リソグラフィ投影装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システム４０およびパターニングデバイスＭＡを支持するように構成された支持体を有する。 - 特許庁 - To eliminate difference in the adhesiveness of a resin to a substrate due to a variation in the standby time from the end of development to a heating step and to provide a stable patterning method.
現像終了から加熱工程までの待機時間の違いによる樹脂と基板との接着性の差を無くし安定なパターン加工方法を提供する。 - 特許庁 - The thickness of the second insulating layer pattern to be used for wire patterning is reduced to the minimum and the filling margin of the gap between wires is increased.
配線パターニングに使用される第２絶縁層パターンの厚さを最小限に縮めることができて配線と配線との間のギャップ埋立てマージンを増加させることができる。 - 特許庁 - When the contact unit 13 is formed, a wiring 14 is formed on the interlayer film 11b through patterning by depositing a conductive material of a metal or the like.
コンタクト部１３が形成されると、層間膜１１ｂ上に金属等の導電性材料を堆積させ、パターニング形成することにより、配線１４を形成する。 - 特許庁 - A back layer is integrally laminated on the back surface of a patterning sheet 1 and an FRP main body layer is integrally laminated on the back layer.
模様付けシート１の背面にバック層３０を一体に積層すると共にバック層３０の背面にＦＲＰ主体層４０を一体に積層して構成される。 - 特許庁 - To obtain an etching shape without a side-wall deposition film as a reattached etching film to a sidewall of a resist, without disturbing minute patterning in a non-reactive sputtering etching step.
反応性を用いないスパッタエッチングにおいて、微細化を妨げることなく被エッチング膜のレジスト側壁への再付着による側壁析出膜のないエッチング形状を得る。 - 特許庁 - To improve defective short circuit problem due to the manufacturing step for patterning a reflective substance layer by unit cells, utilizing a laser to enhance the optical conversion efficiency of a thin-film solar cell.
レーザを利用して単位セル別に反射物質層をパターニングする工程による短絡不良問題を改善し、薄膜太陽電池の光変換効率を向上させる。 - 特許庁 - The first electrode 22 is formed, by selecting one or more layers among the conductive films 22A, 22B, and 22C constituting the connective conduction part for patterning.
第１電極２２は、接続導電部を構成する導電膜２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃのうちの単層又は２層以上が選択されパターニングされて形成されている。 - 特許庁 - In the inkjet recording process, dots are formed by ink droplets for which the volume of one ink droplet impacted onto the recording surface 72 is equal to or more than 45pl, and patterning is performed.
インクジェット記録工程では、記録面７２に着弾する一滴のインク滴の体積が４５ｐｌ以上のインク滴によって、ドットが形成されて模様付けされる。 - 特許庁 - The breaking points 4 are formed by circularly cutting the copper foil of a part of the conductor 3 in patterning in a state of equally reducing a cross section of the conductor 3.
遮断点４は、導電体３の一部の銅箔がパターンニングの際に円形状に抜かれ、導電体３の断面が等しく縮小されて形成されている。 - 特許庁 - OPTICAL FILM, LIGHT REFLECTING FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING OPTICAL FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERNING ROLLER, AND METHOD AND APPARATUS FOR STICKING OPTICAL FILM THEREFOR
光学フィルム、光反射フィルム、液晶表示パネル、光学フィルム製造方法および装置、型ローラ製造方法、ならびに光学フィルム貼付方法および装置 - 特許庁 - To provide a device and method for manufacturing display plate, permitting to carry out patterning of a thin film with efficiency and high accuracy without using a photo etching process.
本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁 - When patterning is performed in order to form the movable member and the base thereof on the substrate, a structure is formed simultaneously on the channel wall and at the position of the substrate beneath the liquid chamber frame.
基板へ可動部材および可動部材台座を形成する際のパターニング時に流路壁および液室枠下の基板位置に構造物を同時に形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive conductive paste capable of carrying out a fine patterning and exhibiting conductivity in a comparatively lower temperature cure, and to provide a method of manufacturing a conductive pattern.
微細なパターンニングが可能で、比較的低温のキュアで導電性を発現することができる感光性導電ペーストおよび導電パターンの製造方法を得る。 - 特許庁 - To provide a method for forming a masking coating on a metal surface by an inkjet method, that is, means for heightening the patterning precision of the masking coating and making the surface smooth.
インクジェット方式で金属表面にマスキング皮膜を形成する方法であって、マスキング皮膜のパターニング精度を高め、かつ表面を平滑にする手段を提供すること。 - 特許庁 - To provide a patterning method for an aluminum shape having a pattern with a sense of natural texture or a three-dimensional and geometric pattern, and an aluminum shape obtained thereby.
自然の風合い感のある模様や立体感のある幾何学的模様を備えたアルミニウム形材の模様付け方法と、それにより得られたアルミニウム形材を提供する。 - 特許庁 - To provide removal plate cleaning method and device for a removal plate, inexpensively patterning a plurality of substrates highly accurately by using a reverse relief printing plate printing method.
反転凸版印刷法を用いて安価に複数枚の高精細なパターニングを可能とする、除去版の除去版洗浄方法及び除去版洗浄装置を提供する。 - 特許庁 - Then, after removing the barrier film 103, it forms a resist pattern 102a of the resist film 102 by developing the resist film 103 exposed for patterning.
続いて、バリア膜１０３を除去した後、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０３に対して現像を行なうことにより、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁 - Next, after an organic semiconductor layer is formed over the gate insulating layer 3, an organic semiconductor pattern 4 is formed by patterning the organic semiconductor layer by laser ablation method.
続いて、ゲート絶縁層３の上に有機半導体層を形成したのち、レーザアブレーション法により有機半導体層をパターニングして有機半導体パターン４を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist paste having high plasma resistance, even when dry etching is performed using fluorine plasma and no risk of causing a patterning failure by remaining after etching.
フッ素プラズマにてドライエッチングを行う場合でも耐プラズマ性が高く、エッチング後も残存してパターニング不良が発生する恐れがないレジスト用ペーストを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device that suppresses reflected light from a foundation layer when patterning a photoresist film by exposure and reduce manufacturing cost.
露光によるフォトレジスト膜のパターニングに際し、下地層からの反射光を抑制することができ、かつ、製造コストが抑えられる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.
撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁 - The TEOS oxide film 5 is processed to an intermediate pattern 5a of the first width D1 by patterning based on resist and a core material pattern 5b of the second width D2 is formed by slimming processing thereto.
レジストによるパターニングでＴＥＯＳ酸化膜５を第１幅Ｄ１の中間パターン５ａに加工し、スリミング処理をして第２幅Ｄ２の芯材パターン５ｂを形成する。 - 特許庁 - In either case, self-aligned double patterning processing may then be performed to produce product-like alignment marks with high contrast and wafer quality (WQ).
いずれの場合も、その後、自己整合ダブルパターニングプロセスを実行して、高いコントラスト及びウェーハ品質（ＷＱ）を有する製品様アライメントマークを生成することができる。 - 特許庁 - The simulate pattern is compared with a pre-OPC design layout obtained in a process 218 (process 220) to determine whether the manufactured mask demonstrates the desired patterning performance (process 222).
シミュレートパターンを工程２１８で得られたプレＯＰＣ設計レイアウトと比較し（工程２２０）、所望のパターニング性能を発揮するかどうかを判定する（工程２２２）。 - 特許庁 - To provide a donor substrate for transfer allowing for a high precision fine patterning and a method of manufacturing a device such as an organic EL element using the donor substrate.
高精度な微細パターニングが可能である転写用ドナー基板、および、かかるドナー基板を用いて有機ＥＬ素子などのデバイスを製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).
形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device having an anti-reflection layer which can obtain high adhesion to a conductive member and excellent anti- reflection ability when patterning the conductor.
導電部材との高い密着性及び導電部材パターニング時の優れた反射防止能力が得られる反射防止層を有する半導体装置を提供提供する。 - 特許庁 - At this time, the basic curing catalyst penetrates into the photocured film and the film is doped, whereby excellent heat curability is ensured in addition to excellent development patterning property.
この際、上記塩基性硬化触媒が光硬化した塗膜に浸透し、ドーピングされることにより、現像パターニング性に加えて熱硬化性にも優れたものとなる。 - 特許庁 - To provide a highly practicable patterning process capable of forming a further finer pattern simply and efficiently and applicable to semiconductor manufacturing.
より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であり、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - At this time, more accurate patterning can be performed, because the end section 17T of a first thin film pattern 17 protected by the soluble layer 2 does not cause mold damage.
この際、可溶層２によって保護される第１の薄膜パターン１７の端部１７Ｔが型くずれを生じないので、より正確なパターニングをおこなうことができる。 - 特許庁 - When patterning the zinc oxide-based transparent conductive film by etching, the zinc oxide-based transparent conductive film is treated with water before the etching process.
酸化亜鉛系透明導電膜をエッチングによりパターニングするに際し、エッチング工程より前に酸化亜鉛系透明導電膜を水で処理することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of dipping pen nano-lithography (DPN), a substrate processed by patterning by DPN, a kit for carrying out DPN, and an AFM chip coated by hydrophobic compound.
「つけペン」ナノリソグラフィ（ＤＰＮ）の方法、ＤＰＮによってパターニングされた基板、ＤＰＮを行うためのキット及び疎水性化合物で被覆されたＡＦＭチップを提供する。 - 特許庁 - DEVICE FOR TRANSMISSION IMAGE DETECTION FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING THIRD ORDER DISTORTION OF PATTERNING DEVICE AND/OR PROJECTION SYSTEM OF SUCH A LITHOGRAPHIC APPARATUS
リソグラフィ投影装置で使用する透過像検出デバイス及びこのようなリソグラフィ装置のパターニングデバイス及び／又は投影システムの３次歪みを割り出す方法 - 特許庁 - DRAM crown cells are foamed by forming sidewall filaments 240 on such forming walls, after partly patterning etching of a polysilicon layer 230.
ＤＲＡＭクラウン・セルが、ポリシリコン層（２３０）の部分的なパターンぎめエッチの後、こうして形成された壁の上に側壁フィラメント（２４０）を形成することによって形成される。 - 特許庁
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