「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 38 39 40 41 42 43 44 45 46 .... 78 79 次へ＞- Then, after patterning the conductive layer 8, a TiO_2 film 8a is formed on a surface of the conductive layer 8, and the conductive layer 8 is formed into a passive state to XeF_2 gas.
続いて、導電層８をパターンニングした後、導電層８の表面にＴｉＯ_２膜８ａを形成し、導電層８をＸｅＦ_２ガスに対して不動態化させる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device for preventing an etching damage to the other region while patterning precision and high speed are maintained, and to provide the semiconductor device.
パターニング精度、高速性を維持しつつ他の領域へのエッチングダメージを防止する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供を提供する。 - 特許庁 - To prevent high frequency characteristics from deteriorating by decreasing the gap between a device and a substrate and to increase the degree of freedom in the surface mounting density and patterning of a surface layer through a multilayer structure.
デバイスと基板間のギャップを少なくし高周波特性の劣化を防ぐと共に、多層構造により表層の実装密度及びパターン製作の自由度を上げる。 - 特許庁 - The bank B is formed, by forming a thin film B0 of a bank-forming material on the substrate P, subjecting the surface to liquid repellent treatment, and then patterning the thin film.
バンクＢは、基板Ｐ上にバンクの形成材料からなる薄膜Ｂ０を形成し、その表面に撥液処理を施した後、パターニングすることにより形成する。 - 特許庁 - By patterning the beam of projection radiation so that one region receives more radiation than the other region, the radiation sensor DS is given polarization selectivity.
一方の領域がもう一方の領域より多く放射を受けるように、投射放射ビームをパターン化することによって、放射センサＤＳは偏光選択性が与えられる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an EL element of which patterning of an organic El layer is easy and influence of a photo-catalyst is small.
本発明は、有機ＥＬ層のパターニングが容易であり、かつ、光触媒の影響の少ないＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - The method further includes forming of a resist pattern 8 on a hard mask 6, patterning of the hard mask 6 and the low permittivity film 4 with the resist pattern 8 as a mask, and forming of an opening 10.
ハードマスク６上にレジストパターン８を形成し、このレジストパターン８をマスクとしてハードマスク６と低誘電率膜４をパターニングし、開口１０を形成する。 - 特許庁 - To provide a substrate for optical waveguides which can perform high resolution core patterning, and to provide a manufacturing method of an optical waveguide using the substrate for an optical waveguide.
高解像度のコアパターニングを行うことができる光導波路用基材、及びその光導波路用基材を用いた光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film having a refractive index of ≥1.72 at a wavelength of 193 nm and capable of patterning.
波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - When embossing and lifting off are used as the patterning method of a flexible substrate provided in a PIRM module, the manufacturing process of the module can be simplified remarkably.
モジュール内のフレキシブル基板のためのパターニング方法として、エンボスおよびリフトオフを用いることにより、ＰＩＲＭモジュールの製造工程を著しく簡単にすることができる。 - 特許庁 - By printing (reverse printing) one or two or more kinds of solvent (for example, solvent drops) on the semiconductor layer, the semiconductor layer is subjected to patterning (120).
この半導体層上に１種類又は複数種類の溶媒（例えば溶媒滴）を印刷（リバースプリンティング）することにより当該半導体層をパターニングする（１２０）。 - 特許庁 - In the element 5, the hole 4 is formed of a thick film material 3 selectively curable by patterning the hole by a photolithography having photosensitivity or electron beam curability.
ガイド穴４は、光感光性あるいは電子ビーム硬化性を持ちホトリソグラフィでパターニングすることで選択的に硬化が可能な厚膜材料３で形成してある。 - 特許庁 - In this manufacturing method for the biopolymer analytical chip 1, the solid imaging device 3 is formed at first by patterning double gate transitors 20, 20 on the transparent substrate 17.
生体高分子分析チップ１を製造するには、まず透明基板１７上にダブルゲートトランジスタ２０，２０，…をパターニングすることによって、固体撮像デバイス３を形成する。 - 特許庁 - Then, an upper aluminum thin film 4 is formed on the protective mask 3, and then a patterning mask 5 is formed on the surface of the upper aluminum thin film 4.
次に、保護用マスク３の上層側に対してアルミニウム膜からなる上層側薄膜４を形成した後、上層側薄膜４の表面にパターニング用マスク５を形成する。 - 特許庁 - To remove a resist mask together with its hardened superficial film, without damaging the organic base film after the organic film patterning, in the formation of an organic film pattern.
有機膜パターンの形成において、有機膜のパターニング後に、下地の有機膜を損なうことなく、レジスト表面硬化膜を含むレジストマスクの除去を可能にする。 - 特許庁 - The reticle for metal patterning has a scribe line, in a non-transmitting solid region (B) adjacent to the counter side of the side of the TEG pattern region adjacent to the region A.
また、前記領域Ａと接しているTEGパターン領域の辺の対辺と接している光非透過ベタ領域（領域B）にスクライブラインを有する金属パターニング用レチクルとした。 - 特許庁 - To obtain the subject resin having good water resistance and developability and having an excellent patterning property by adding specific structural unit each having a quaternized aromatic nitrogen-containing heterocyclic ring.
耐水性、現像性が良好で、優れたパターニング性を有する感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Utilizing a difference of etching characteristics in patterning due to a germanium concentration profile, a bottom gate length can be made shorter than a top gate length which is limited by photolithography.
ゲルマニウム濃度プロファイルによるパターニング時のエッチング特性差を用いることにより、フォトリソグラフィにより限定されたトップゲート長よりボトムゲート長を短くできる。 - 特許庁 - To prevent the loss caused by the crack and air bubbles generated in core patterning by dry etching in a method for manufacturing an optical wiring layers having cores and clads.
コアとクラッドを有する光配線層の製造方法において、ドライエッチングでコアパターン時に生ずる亀裂及び気泡により発生する損失を防止することを目的とする。 - 特許庁 - It is desirable to manufacture the template 1 made of resin by carrying out a patterning on a front surface of a PE sheet 1a laminated on a PMMA sheet 1b by a thermal cycling nano imprint method.
樹脂製テンプレート１は、ＰＭＭＡシート１ｂ上にラミネートされたＰＥシート１ａの表面に熱サイクルナノインプリント法でパターニングすることにより作製するとよい。 - 特許庁 - The method further comprises steps of forming the protective oxide film in this state by a thermal oxidation treating step, thereafter patterning the amorphous silicon film, and forming the gate electrode on the element region.
さらにこの状態で保護酸化膜を熱酸化処理工程により形成し、その後で前記アモルファスシリコン膜をパターニングして前記素子領域にゲート電極を形成する。 - 特許庁 - To provide a patterning method for easily forming a fine pattern on a surface having a three-dimensional spread, a wiring substrate using the method, and to provide an electronic apparatus.
容易に３次元的な広がりを持った面に対し微細パターンを形成することができるパターン形成方法、該方法を用いた配線基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - When the contact unit 13 is formed, a wiring 14 is formed on the interlayer film 11b through patterning by depositing a conductive material of a metal or the like.
コンタクト部１３が形成されると、層間膜１１ｂ上に金属等の導電性材料を堆積させ、パターニング形成することにより、配線１４を形成する。 - 特許庁 - At patterning the remaining part of the floating gate and the control gate, a recessed part prevented from being formed due to the excessive etching of the source line formation region 88 is eliminated.
したがって、フローティングゲートの残りの部分及びコントロールゲートのパターンニングをする際、ソース線形成領域８８が過度にエッチングされ、凹部が形成されるということがなくなる。 - 特許庁 - To eliminate difference in the adhesiveness of a resin to a substrate due to a variation in the standby time from the end of development to a heating step and to provide a stable patterning method.
現像終了から加熱工程までの待機時間の違いによる樹脂と基板との接着性の差を無くし安定なパターン加工方法を提供する。 - 特許庁 - The thickness of the second insulating layer pattern to be used for wire patterning is reduced to the minimum and the filling margin of the gap between wires is increased.
配線パターニングに使用される第２絶縁層パターンの厚さを最小限に縮めることができて配線と配線との間のギャップ埋立てマージンを増加させることができる。 - 特許庁 - Thereafter, an Al wiring layer is formed in such a way that the wiring layer can be connected to the plug 6 through the connecting hole 8, and wires 9a-9c are formed by patterning the wiring layer.
接続孔８を通じて接続孔プラグ６に接続するようにＡｌからなる配線層を形成し、パターンニングを行って配線９ａ〜９ｃを形成する。 - 特許庁 - Thus, proportion of the presence of the crystal defect 4b by the growth of a GaN film 4 can be reduced by patterning the mask 3 into the shape of dots.
このように、マスク３をドット状にパターニングすることによって、ＧａＮ膜４の成長による結晶欠陥４ｂの存在する割合を減少させることができる。 - 特許庁 - The polycrystallized silicon layer with the HSG-Si formed is made to be conductive by being annealed in an atmosphere of PH_3, and after that, patterning is conducted to form the lower electrode (S5).
ＨＳＧ−Ｓｉが形成され多結晶化したシリコン層をＰＨ_3雰囲気中でアニールすることにより導電化した後、パターニングし下部電極を形成する（Ｓ５）。 - 特許庁 - Lithographic equipment which transfers a pattern from a patterning device to a substrate comprises an integrated after-exposure baking device which is so constituted as to expose the substrate to a set temperature cycle.
パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するリソグラフィ装置は、基板を既定の温度サイクルにさらすように構成された一体型露光後ベークデバイスを備える。 - 特許庁 - The effect of the cleaning action in the cleaning device is effectively increased by rotating the cleaning probe while the wafer is cleaned, and the occurrence of wafer patterning damages is suppressed to the minimum.
ウェーハが洗浄される間に洗浄プローブを回転させることにより装置の洗浄作用を効果的に増加させ、ウェーハパターンダメージの発生は最小にする。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board excellent in partitivity which reduces the generation possibility of cracks, burrs and the like at the time of dividing a substrate into each wiring board region.
基板を各配線基板領域に分割する際に、クラックやバリ等が発生する可能性を低減させ、分割性に優れた多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a thick film capable of patterning in a great film thickness and to provide a a multicolor light emitting device using the manufacturing method and a screen printing plate using the device.
高膜厚でパターニングできる厚膜の製造方法を提供し、前記製造方法を利用した多色発光装置とこれに用いるスクリーン印刷版を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film, a base material with the transparent conductive film, an organic electroluminescent element using the same and a manufacturing method thereof, in which a patterning process is simply performed.
透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法において、パターニング処理を簡易に行う。 - 特許庁 - To reduce damage to a color filter due to heating during vapor deposition of or sputtering of transparent conductive film and damage at patterning time, by improving the heat resistance and the chemical resistance of a color filter or the like.
カラーフィルタ等の耐熱性や耐薬品性を向上させ、透明導電膜の蒸着やスパッタ時の加熱やパターニング時におけるダメージを低減すること。 - 特許庁 - To reduce a space in the longitudinal and horizontal directions necessry for a selection device, in a knitting machine having the selection device for electromagnetic patterning by a three-way method.
スリーウェイ手法による電磁的パターンニング用の選択デバイスを備えている編み機において、選択デバイスに必要とされる高さ方向と幅方向のスペースを節減する。 - 特許庁 - Since the magnetic force of the mask 10 does not work on the patterning-opening region 31 of the mask 30, a light-emitting unevenness can be prevented from occurring on the light-emitting layer by the magnetic force.
マスク３０のパターニング開口領域３１にはマスク１０の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。 - 特許庁 - To provide a screen mask for vapor deposition, capable of meeting the recent demand for high definition patterning and contributing to cost reduction, a vapor deposition method, and a method for manufacturing an organic EL(electroluminescent) device.
高精細なパターニングに対応可能で、コスト低減に寄与することができる蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To speed up the quality test of the magnetic body patterning and stabilize the servo operation when a magnetic recording medium is loaded in a magnetic recorder.
磁性体のパターニングの品質検査を高速化するとともに、磁気記録媒体を磁気記録装置に搭載した際のサーボ動作を安定化させることを課題とする。 - 特許庁 - To provide a method for forming a thin film by a CVD method which makes a large-scale evacuation device or a neutralization device unnecessary and which does not required a patterning process after forming a thin film.
大掛かりな真空排気装置や無害化処理装置が不要であり、薄膜形成後のパターニング工程が不要な、ＣＶＤ法による薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a color filter which hardly has peripheral gap unevenness at a low cost without patterning a transparent conductive film and a protection layer by making the contact strength of a seal part large.
シール部の密着強度を強くすることにより、透明導電膜や保護層をパターニングすることなく、周辺ギャップムラが発生しにくいカラーフィルターを安価に提供する。 - 特許庁 - The method of producing the container with the grip is carried out by patterning an outer peripheral surface of the main body 1, and integrally connecting the grip 2 to the main body 1 by double molding.
また、この把手付き容器の製造方法は、外周面に模様を付した本体１に、二重成形により、把手２を一体に取り付けることとしている。 - 特許庁 - To provide a patterning method of high production efficiency in high precision of an organic semiconductor layer or a thin film such as a conductive film, and to provide an organic TFT of high performance of high mobility and a method of manufacturing the organic TFT of high production efficiency in high precision.
本発明の目的は、有機半導体層、または導電膜等薄膜の高精度で生産効率の高いパターニング方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a transfer print patterning method capable of simply and accurately forming a print pattern such as a thin-film electrical circuit and the like on a large area substrate.
大面積の基板上に高精度で薄膜電気回路等の印刷パターンを簡便に形成することができる転写式印刷パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The breaking points 4 are formed by circularly cutting the copper foil of a part of the conductor 3 in patterning in a state of equally reducing a cross section of the conductor 3.
遮断点４は、導電体３の一部の銅箔がパターンニングの際に円形状に抜かれ、導電体３の断面が等しく縮小されて形成されている。 - 特許庁 - To provide a light-emitting semiconductor device by which light- emitting efficiency can be improved and the occurrence of discrepancies can be reduced when a patterning layer is formed.
発光効率の向上及びパターニング層の形成における不具合発生率の低減を達成できる発光半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a deposition apparatus for carrying out patterning while suppressing unevenness in the resist film thickness in an edge region of a substrate, and to provide a deposition method.
基板周縁部領域におけるレジスト膜厚の不均一を抑制して、良好なパターニングを行うことができる成膜装置、及び、その成膜方法を提供する。 - 特許庁 - A metallic layer 1 is formed on one surface of a hard insulating layer 2, an adhesive layer 4 and a protection film 5 are stacked on the other surface thereof, and conductor wiring 3 is formed by patterning of the metallic film 1.
硬質絶縁層２の一面に金属膜１を、他面に接着剤層４、保護フィルム５を積層し、金属膜１のパターニングにて導体配線３を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.
マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁 - Since the TiN local wiring is formed by patterning after the local wiring is flattened by CMP via the contact holes 9 and 10, the occurrence of steps due to the base can be eliminated.
ＴｉＮの局所配線がコンタクトを介してＣＭＰにより平坦化した後にパターニングして形成されるため、下地の影響による段切れを無くすことができる。 - 特許庁
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