「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 41 42 43 44 45 46 47 48 49 .... 78 79 次へ＞- To provide a photosensitive composition forming a coating film with excellent alkali developability even when a pigment is incorporated and easily increasing the strength after cured, and also to provide a color filter easily improving patterning accuracy, a substrate for a liquid crystal panel having a spacer easily improving strength and patterning accuracy, and a liquid crystal panel easily achieving high picture quality and high definition.
顔料を含有させた場合でもアルカリ現像性に優れた塗膜を形成することができ、且つ硬化後の強度を高め易い感光性組成物、パターニング精度を高め易いカラーフィルター、強度及びパターニング精度を高め易いスペーサーを備えた液晶パネル用基板、及び、高画質化及び高精細化を図り易い液晶パネルを提供。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.
被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer.
基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁 - The first electrode 25g of the unit element Ug with a different resonant wavelength from the unit element Ur includes a first conductive part 271 formed by patterning of the conductive film L1 and blocking the contact hole H, and a second layer 262 formed by patterning of the conductive film L2 filmed after forming of the conductive film L1 and overlapping with the light reflecting layer 21.
共振波長が単位素子Ｕrとは相違する単位素子Ｕgの第１電極２５gは、導電膜Ｌ1のパターニングによって形成されてコンタクトホールＨを塞ぐ第１導通部２７１と、導電膜Ｌ1の形成後に成膜された導電膜Ｌ2のパターニングによって形成されて光反射層２１と重なり合う第２層２６２とを含む。 - 特許庁 - This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.
半導体装置の製造方法は、（ア）半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、（イ）前記レアメタル層上にＴａＯ膜を形成する工程と、（ウ）前記ＴａＯ膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、（エ）前記パターニングされたＴａＯ膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming step of forming a resist pattern on the surface to be processed and then applying the thickening material for a resist pattern to cover the surface of the resist pattern to thereby thicken the resist pattern; and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching by using the thickened resist pattern as a mask.
被加工面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - A lighting system that forms radiation beams, a pattern generator that performs patterning of the beams, a projection system that performs patterning of the flexible substrate by projecting the pattern beams to a target part of the flexible substrate, and a motion system that controls the motion of the flexible substrate are provided, and the target part of the flexible substrate remains still almost without extending even during the period of exposure by the pattern beams.
放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 - 特許庁 - The magnetoresistance effect element 10 is manufactured by the method including a ferromagnetic layer formation process for forming a layer made of a ferromagnetic material on a substrate 14, and a patterning process for patterning the formed layer to set the maximum length of the nano-junction 12 for connecting the ferromagnetic layers 11, 13 to the Fermi length or smaller of the ferromagnetic material.
こうした磁気抵抗効果素子１０は、基板１４上に強磁性材料からなる層を形成する強磁性層形成工程と、形成された層をパターニングして、前記２つの強磁性層１１，１３を連結するナノ接合部１２の最大長さを前記強磁性材料のフェルミ長以下にするパターニング工程とを有する方法により製造される。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive adhesive sheet to be pasted on the surface of a semiconductor wafer having a patterning thereon to protect the patterning in a process for processing the semiconductor wafer that causes neither "warpage" nor "cracks" of the wafer when exposed to a high temperature even when the wafer having the pressure-sensitive adhesive sheet pasted thereon is ground very thin.
パターニングを施した半導体ウェハを加工する工程において、半導体ウェハ表面に貼り合わせることによりパターニングを保護することができる粘着シートであって、粘着シートを貼着したウェハを極薄研削しても、高温下に曝した場合にウェハに「反り」や「割れ」が発生することがない粘着シートを提供する。 - 特許庁 - The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning ceramic substrate to be a small-size electronic component storing package, which is easily divided along dividing lines and provided with a metallize layer capable of rigidly connecting and fixing an external electric circuit substrate, a lid body or the like, and to provide the manufacturing method therefor as well as a multiple patterning electronic component storing package and an electronic device.
小型の電子部品収納用パッケージとなる多数個取りセラミック基板であって、分割線に沿って分割が容易であるとともに、外部電気回路基板や蓋体等を強固に接続固定できるメタライズ層を備えた多数個取りセラミック基板およびその製造方法ならびに多数個取り電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a laser radiating device capable of transferring an organic film layer pattern when forming it by using LITI (laser induced thermal imaging), capable of reducing damage to the organic film layer, and capable of enhancing the quality of the transferred organic film layer pattern, a patterning method, and a manufacturing method of an electroluminescent element using the patterning method.
本発明は，ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成する時，低い強度を有するレーザーで転写が可能であって，有機膜層の損傷を減らすことができ，転写される有機膜層パターンの質も向上させることができるレーザー照射装置，パターニング方法，およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.
多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁 - To provide a polishing amount measuring method capable of easily and surely measuring the polishing amount of a thin layer formed by patterning on a substrate and of achieving polishing with high accuracy.
基板上にパターニングして形成した薄膜の研磨量を容易にかつ確実に測定することを可能とし、高精度の研磨加工を可能にする研磨量計測方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for self-depositing a dense monomolecular film on a substrate by a simple method and to provide a method for patterning the organic monomolecular film with high precision by a simple method.
稠密な単分子膜を簡便な方法で基板上に自己集積させる方法、更に有機単分子膜を精度良く、簡便な方法でパターニングする方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device, a method for manufacturing an electro-optical panel, and a method for manufacturing an electro-optical device by which high accuracy patterning can be easily carried out.
容易かつ高精度のパターニングを行うことができる半導体装置の製造方法、電気光学パネルの製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of forming resist patterns without using a photolithography step and to provide a method of fabricating a liquid crystal display element capable of simplifying a patterning step.
フォトリソグラフィ工程を使用せずに、レジストパターンを形成し得るパターン形成装備を提供し、且つ、パターニング工程を単純化し得る液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - After patterning is carried out so that the side wall of a photoresist 4 and that of a TiN film 3 are inclined, the A1 film is etched using these side walls as a mask, and an A1 film 2 is processed in a trapezoidal shape.
フォトレジスト４とＴｉＮ膜３の側壁が傾斜するようにパターニングにした後、これらをマスクにしてＡｌ膜２をエッチングして、Ａｌ膜２を台形形状に加工する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a flat and uniform organic EL display element capable of forming a organic layer with corrected patterning error, prevented from the generation of leakage and uneven brightness.
平坦で均一であり、かつパターニングエラーが補正された有機層の形成が可能であり、リーク、輝度ムラ等の発生が防止された有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.
タクトタイム（工程数）を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁 - Two or more layers are collectively patterned in at least part of the laminated film 24, so that the number of photomasks to be used is reduced as compared with that for patterning for each layer.
積層膜２４のうちの少なくとも一部において２層以上を一括してパターニングすることにより、各層毎にパターニングする場合に比べ、使用するフォトマスクの枚数が減る。 - 特許庁 - An insulating film 30 is formed on a semiconductor substrate where a channel layer 20 is formed by a CVD method, etc. for patterning with a resist, and a gate opening 31 is formed using an RIE, etc.
チャンネル層２０が形成された半導体基板に絶縁膜３０をＣＶＤ法等で成膜し、レジストでパターンニングした後、ＲＩＥ等を用いてゲート開口部３１を形成する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing the same of a nanoparticle thin film pattern which makes fine patterning possible, a circuit pattern forming method, a nanoparticle thin film suited to it, and to provide a method of manufacturing the same.
微細なパターンニングを可能とするナノ粒子薄膜パターンの製造方法、回路パターン形成方法およびこれに適したナノ粒子薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - This order enables manufacture of the packages, without additional patterning process or additional substrate for adhering solder balls in the direction of the upper surface of the semiconductor chip.
このような順序変更を通じて、半導体チップの上面方向にソルダーボールを付着するための別途のパターニング工程や別途の基板を利用せずにパッケージが製造できる。 - 特許庁 - An apparatus and method is disclosed which allows for stress relaxation in the substrate prior to further patterning to reduce, minimize or prevent such misalignment from residual strain.
残留ひずみによるこのようなミスアライメントを低減させ、最小化し、または防止するために次のパターニングの前に基板内の応力緩和を可能にする装置および方法を開示する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a wiring board suitable for a mounted circuit device for easily forming a plated layer for enabling highly reliable bonding, and for executing fine wiring patterning.
信頼性の高いボンディングを可能とするメッキ層を容易に形成でき、かつ微細な配線パターン化もできる実装回路装置用に適する配線板の製造方法の提供。 - 特許庁 - A thin-film conductor layer 21 and a photosensitive layer 31 are formed on an insulating base 11 and a series of patterning treatment, such as pattern exposure and development, is performed, thus forming a resist pattern 31a.
絶縁基材１１上に薄膜導体層２１及び感光層３１を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターンニング処理を行って、レジストパターン３１ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a multiple patterning circuit board which can uniformly vacuum-suck a mask for solder ball alignment and can improve the yield of ball loading.
はんだボール整列用マスクを均一に真空吸着することができ、ボール搭載の歩留まりを向上することができる多数個取り配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified resist material having high sensitivity (≤5 mJ/cm^2) required for ArF lithography and capable of ensuring stable suitability to patterning.
ＡｒＦリソグラフィに要求される高感度（５ｍＪ／cm^2 以下）を有しかつ安定したパターニング特性を得ることのできる化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method further comprises steps of then forming a thick insulating film 9 in the opening, patterning the polysilicon film 3 with the thick insulating film 9 as a mask, and forming a floating gate.
次に、前記開口内に厚い絶縁膜９を形成し、当該厚い絶縁膜９をマスクにして前記ポリシリコン膜３をパターニングしてフローティングゲートを形成することを特徴とする。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the field emission element, an emitter 50a is formed by a lift-off method and a separation layer 70 for preventing reaction is formed between a sacrifice layer 60 for emitter patterning and an emitter substance.
リフトオフ法によってエミッタ５０ａを形成し、エミッタパターニングのための犠牲層６０と、エミッタ物質との間にこれらの間の反応を防止する隔離層７０とを形成する。 - 特許庁 - The horizontal wiring portion of two-layer construction which includes a lower metal layer and an upper metal layer functioning as a mask for patterning the lower metal layer is formed on the thin film tape.
下層金属層と該下層金属層をパターニングするためのマスクとして機能する上層金属層からなる２層構成の水平配線部を薄膜テープ上に形成する。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises 11 processes including a manufacturing process of a metal sacrificial layer, a resist cone forming process, a resist film patterning process, a shape memory alloy film manufacturing process, and the like.
その製造方法は、金属犠牲膜の製造工程、レジスト錐形成工程、レジスト膜パターンニング工程、形状記憶合金膜製造工程などを含む１１の工程からなる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element to make a patterning of an organic EL layer using a photolithography method, having no defect and having a high safety and reliability.
フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、欠陥がなく、安定性、信頼性の高い有機EL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process to obtain broad range of feature detail in the same resist film with sufficiently uniform surface topography and without the need to perform significant post-patterning processing.
同一レジスト膜に、実質的なパターニング後処理を行う必要がない十分に均一な表面トポグラフィを有する、広範囲のフィーチャのディテールを得ることが可能なプロセスの提供。 - 特許庁 - To provide a method of forming wiring, capable of obtaining practically sufficient low resistance by sintering at a low temperature and short time after patterning a conductive fine particle material on a substrate.
基板上に、導電性の微粒子材料をパターニングした後、低温且つ短時間の焼結で、実用上充分に低い抵抗が得られる配線形成方法を提供する。 - 特許庁 - The surface of an insulated layer 12f laminated on a wafer 30 is formed with a mask for a main pedestal (a mask for patterning) 46 and plural masks 50a to 50e for monitoring having different dimensions.
ウエハ３０上に積層された絶縁層１２ｆの表面に、メインペデスタル用マスク（パターン用マスク）４６と、寸法の異なる複数個のモニタ用マスク５０ａ〜５０ｅを形成する。 - 特許庁 - Next, in patterning the uppermost and lowermost surfaces, the whole surface of the lowermost conductor layer is etched with an electrode left, so that the necessity the insulating sheet or the insulating material is eliminated.
次に上下の最表面をエッチングでパターン化するが、一番下側の導体層は、電極の部分を残してすべてエッチングすることにより、絶縁シートや絶縁材料を不要とする。 - 特許庁 - A shielding film 3a comprising a metal thin plate or the like is formed on the surface of a glass substrate 9 on the SOQ substrate 5, and the transmission lattice 3 is formed by patterning the film.
ＳＯＱ基板５のガラス基板９の表面には金属薄膜などからなる遮光膜３ａが形成され、ここをパターニングすることにより透過格子３が形成されている。 - 特許庁 - NEW COMPOUND AND METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, PRINTING UNIT, INK-JET PRINTER, PRINTING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERNING METHOD, ARTICLE, METHOD FOR SENSING ENVIRONMENTAL HISTORY AND PRINTING MEDIUM
新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁 - When the shielding film 12 is formed on the interlayer film 11a through patterning, another interlayer film 11b is formed across the whole surface on the interlayer film 11a with the shielding film 12 thereon.
層間膜１１ａ上に遮蔽膜１２がパターニング形成されると、遮蔽膜１２が形成された層間膜１１ａ上に、全面にわたって、層間膜１１ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide a method for film formation, which can simply form a film through the utilization of a chemical species such as a reactively active species, and to provide a method for patterning.
本発明は、反応活性種等の化学種を利用することにより、簡便に膜を形成することができる製膜方法、あるいはパターニング方法を提供することを目的の一つとする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a three-dimensional photonic crystal which manufactures the three-dimensional photonic crystal while adjusting the positions of two-dimensional patterning plates stacked on each other by nano manipulation.
積み重ねた２次元パターニングプレートの位置をナノマニピュレーションにより調整しながら３次元フォトニック結晶を製造する３次元フォトニック結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for quickly and inexpensively manufacturing a large-area organic thin film patterned finely and regularly in comparison with that manufactured by a conventional method in patterning of the organic thin film.
有機物薄膜のパターン化において、従来の方法に比較し、微細かつ規則的にパターン化された有機薄膜を大面積、迅速、且つ安価に製造可能する手法を提供する。 - 特許庁 - The gate electrode for an insulation gate electric field effect transistor is formed in the logical operation circuit area by patterning the first conductive layer excluding the element separating area in the logical operation circuit area.
ロジック回路領域内の素子分離領域を除く第１導電層をパターニングして、ロジック回路領域内に絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the semiconductor includes at least a step for forming a coat, a step of patterning, a step for forming interconnection and a step of reduction using the metal reducing method.
本発明の半導体の製造方法は、被膜形成工程と、パターニング工程と、配線形成工程と、本発明の金属の還元方法を用いた還元工程とを少なくとも含む。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition in which a bridge hardly occurs, substrate dependence is low and a pattern with high resolution can be formed, and a patterning process using the same.
ブリッジが発生しにくく、また、基板依存性が小さく、解像性に優れたパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an application device and an application method for applying application liquid onto a substrate to form a desired structure, the device having simple construction for achieving improved throughput and degree of freedom in patterning.
基板上に塗布液を塗布することで所望の構造物を形成する塗布装置および塗布方法において、簡単な装置構成で、優れたスループットおよびパターン自由度を得る。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a piezoelectric actuator which prevents a particle size in a piezoelectric layer of a piezoelectric element from increasing and has a function as an etching stop layer during patterning of the piezoelectric layer.
圧電素子の圧電体層の大粒化を防止し、しかも圧電体層のパターニングの際のエッチングストップ層としての機能も有する圧電アクチュエーターの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition film allowing formation of a film having superior heat resistance, in which a high-resolution pattern can be formed without producing undercut at patterning.
パターン加工時にアンダーカットが発生することなく、高解像度のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂組成物フィルムを提供すること。 - 特許庁
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