「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 41 42 43 44 45 46 47 48 49 .... 78 79 次へ＞- A lighting system that forms radiation beams, a pattern generator that performs patterning of the beams, a projection system that performs patterning of the flexible substrate by projecting the pattern beams to a target part of the flexible substrate, and a motion system that controls the motion of the flexible substrate are provided, and the target part of the flexible substrate remains still almost without extending even during the period of exposure by the pattern beams.
放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming step of forming a resist pattern on the surface to be processed and then applying the thickening material for a resist pattern to cover the surface of the resist pattern to thereby thicken the resist pattern; and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching by using the thickened resist pattern as a mask.
被加工面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - The diffractive element is formed by; providing a substrate transmitting light having wavelengths of about 100nm to about 300nm; forming an amorphous isotropic layer which transmits the light of wavelengths in the range without substantial attenuation of the light; patterning the layer; and removing a part of the layer from the area of the substrate based on the patterning.
約１００ｎｍ〜約３００ｎｍの波長を有する光を透過する基板を提供し； 光の実質的な減衰なしに範囲における波長における光を透過する非晶質の等方性の層を基板上に形成し； 層をパターニングし、 パターニングに基づき基板の領域から層の一部を除去し、これにより回折素子が形成される。 - 特許庁 - The second resist material absorbs exposure radiation during a first patterning exposure and, after development, during a second patterning exposure to prevent exposure of at least a portion of the first resist material, underneath exposed portions of the second resist material layer, to an exposure dose above a fraction of an energy-to-clear exposure dose associated with the first resist layer.
第二のレジスト材料は、第一のパターン形成露光の間、および現像後の第二のパターン形成露光の間、露光放射を吸収し、第二のレジスト材料層の露光される部分の下の第一のレジスト材料の少なくとも一部を、第一のレジスト層の限界エネルギー露光ドーズの或る割合より多い露光ドーズに露光させない。 - 特許庁 - In the substrate processing method including an organic film patterning processing for processing the organic film pattern formed on a substrate, a dissolution deforming treating (step 3) of dissolving and deforming the organic film pattern and a third removal processing (step J3) of removing a portion of the dissolved and deformed organic film pattern are performed in this order in the organic film patterning processing.
基板上に形成された有機膜パターンを加工する有機膜パターン加工処理を備える基板処理方法において、有機膜パターン加工処理では、有機膜パターンを溶解させ変形させる溶解変形処理（ステップＳ３）と、溶解変形した変形有機膜パターンを第三の除去処理（ステップＪ３）とをこの順に行う。 - 特許庁 - The offset printer includes: a printing roller; a coating unit for applying a print substance to the printing roller; a patterning unit for patterning the print substance applied to the printing roller; a printing unit for transferring the patterned print substance to a printing medium; and a cleaning unit for cleaning the print substance remaining on the printing roller by dry cleaning.
オフセット印刷装置は、印刷ロールと、前記印刷ロールに印刷物質を塗布するコーティング部と、前記印刷ロールに塗布されている印刷物質をパターニングするパターン部と、前記印刷物質を被印刷物に印刷する印刷部と、前記印刷ロールに残っている前記印刷物質を乾式洗浄する洗浄部とを備える。 - 特許庁 - Patterning data of the electrode pattern, the wiring pattern and the dummy wiring pattern is generated by a CAD system, patterning data of the electrode pattern and the dummy wiring pattern is coupled as a component cell data corresponding to the electronic component, and previously registered in the component library of the CAD system.
ここで、電極パターン、配線パターン及びダミー配線パターンのパターン形成用データはＣＡＤシステムによって生成されるものであり、電極パターン及びダミー配線パターンのパターン形成用データは電子部品に対応する部品セルデータとして結合されており、ＣＡＤシステムの部品ライブラリに予め登録されたデータであることを特徴とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.
被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition forming a coating film with excellent alkali developability even when a pigment is incorporated and easily increasing the strength after cured, and also to provide a color filter easily improving patterning accuracy, a substrate for a liquid crystal panel having a spacer easily improving strength and patterning accuracy, and a liquid crystal panel easily achieving high picture quality and high definition.
顔料を含有させた場合でもアルカリ現像性に優れた塗膜を形成することができ、且つ硬化後の強度を高め易い感光性組成物、パターニング精度を高め易いカラーフィルター、強度及びパターニング精度を高め易いスペーサーを備えた液晶パネル用基板、及び、高画質化及び高精細化を図り易い液晶パネルを提供。 - 特許庁 - The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer.
基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning ceramic substrate to be a small-size electronic component storing package, which is easily divided along dividing lines and provided with a metallize layer capable of rigidly connecting and fixing an external electric circuit substrate, a lid body or the like, and to provide the manufacturing method therefor as well as a multiple patterning electronic component storing package and an electronic device.
小型の電子部品収納用パッケージとなる多数個取りセラミック基板であって、分割線に沿って分割が容易であるとともに、外部電気回路基板や蓋体等を強固に接続固定できるメタライズ層を備えた多数個取りセラミック基板およびその製造方法ならびに多数個取り電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a laser radiating device capable of transferring an organic film layer pattern when forming it by using LITI (laser induced thermal imaging), capable of reducing damage to the organic film layer, and capable of enhancing the quality of the transferred organic film layer pattern, a patterning method, and a manufacturing method of an electroluminescent element using the patterning method.
本発明は，ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成する時，低い強度を有するレーザーで転写が可能であって，有機膜層の損傷を減らすことができ，転写される有機膜層パターンの質も向上させることができるレーザー照射装置，パターニング方法，およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.
多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁 - To provide a new pattern forming method in which the number of steps in a double patterning method can be reduced and to provide a material for forming a coating film suitably used for the pattern forming method.
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。 - 特許庁 - Further, inks, ink cartridges, printing units, ink-jet printers, printing methods, printing media, liquid compositions, patterning methods, articles, and methods for sensing environmental history, each utilizing the above technology, are also provided respectively.
この技術を利用したインク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、記録媒体、液体組成物、パターン形成方法、物品および環境履歴検知方法。 - 特許庁 - After forming a first electrode 11 to which the patterning has been carried out and an insulating membrane on opposing faces of a first substrate 10, a part of light-emitting function layer 12 of an organic layer is formed on the top of them.
第１の基板１０の対向面上に第１電極１１、絶縁膜５０をパターニングして形成した後、有機層の一部の発光機能層１２をその上に成膜する。 - 特許庁 - To provide a composition for a hole injection transport layer by which optimization of a material and element design can be made and a patterning film forming of high precision can be carried out in a short time and at low cost.
材料や素子設計の最適化を行うことができ、短時間、低コストで精度の高いパターニング成膜を行うことができる正孔注入輸送層用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element excellent in emission characteristics, by which patterning of an organic EL layer is easy, and a superb change of wettability is obtained.
本発明は、有機ＥＬ層のパターニングが容易であり、良好な濡れ性の変化が得られ、発光特性に優れる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To provide a cross-linkable polymer which can be developed with an aqueous developer and has good patterning properties; its production method; a photosensitive composition and a method for forming patterns.
水性現像液で現像可能であり、良好なパターニング性を有する、架橋性高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The multiple patterning circuit board 100 includes a buildup layer having a structure for which a resin insulating layer and a conductor layer are laminated and also having a plurality of terminal pads to which an IC chip can be connected.
多数個取り配線基板１００は、樹脂絶縁層及び導体層を積層した構造を有しかつＩＣチップが接続可能な複数の端子パッドを有するビルドアップ層を備える。 - 特許庁 - To provide a photoelectric conversion device with high efficiency having an improved etching workability while maintaining optical and electro-optical characteristics, and especially, easy to apply an integrated patterning.
透明電極の光学的および電気的特性を維持しつつ、エッチング加工性を向上させ、特に集積化パターニングが容易な高効率光電変換装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL display device, capable of surely carrying out patterning on a comparatively large area with the use of a letterpress reverse printing method.
本発明の目的は、凸版反転印刷法を用いて、比較的大きな面積のパターニングを確実に行うことが可能な有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁 - By temporarily fixing a plurality of positions of the substrate 2 by the plurality of pressure members 5, respectively, after alignment, a patterning with high precision can be achieved, and displacement of the organic EL element film to an anode can be prevented.
アライメント後の基板２の複数箇所を、それぞれ複数の押圧部材５によって仮固定することで、高精度なパターニングを可能とし、アノードに対する有機ＥＬ素子膜のずれを防ぐ。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device, a method for manufacturing an electro-optical panel, and a method for manufacturing an electro-optical device by which high accuracy patterning can be easily carried out.
容易かつ高精度のパターニングを行うことができる半導体装置の製造方法、電気光学パネルの製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method for self-depositing a dense monomolecular film on a substrate by a simple method and to provide a method for patterning the organic monomolecular film with high precision by a simple method.
稠密な単分子膜を簡便な方法で基板上に自己集積させる方法、更に有機単分子膜を精度良く、簡便な方法でパターニングする方法を提供する。 - 特許庁 - To secure a predetermined distance between wirings, and to prevent the damage of a lower layer wiring when forming an insulator film formed for securing a distance between the wirings by patterning, etc.
所定の配線間距離を確保すると共に、配線間距離を確保するために形成される絶縁膜をパターニング等によって形成する際に、下層配線の損傷を防ぐ。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of forming resist patterns without using a photolithography step and to provide a method of fabricating a liquid crystal display element capable of simplifying a patterning step.
フォトリソグラフィ工程を使用せずに、レジストパターンを形成し得るパターン形成装備を提供し、且つ、パターニング工程を単純化し得る液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an application device and an application method for applying application liquid onto a substrate to form a desired structure, the device having simple construction for achieving improved throughput and degree of freedom in patterning.
基板上に塗布液を塗布することで所望の構造物を形成する塗布装置および塗布方法において、簡単な装置構成で、優れたスループットおよびパターン自由度を得る。 - 特許庁 - Thus, when patterning data related to the execution of the step notice performance beforehand and holding them, the increase of the data capacity is suppressed even when the step notice performance is diversified.
したがって、段階予告演出の実行に係るデータを予めパターン化して保持する場合、段階予告演出が多様化されてもデータ容量の増加を抑制することができる。 - 特許庁 - To provide a substrate for a display device capable of suppressing the occurrence of damage in a reflective layer in a resist peeling step for patterning the reflective layer, and to provide a liquid crystal display device.
反射層をパターニングするためのレジスト剥離工程において反射層にダメージが発生するのを抑制することができる表示装置用基板及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition in which a bridge hardly occurs, substrate dependence is low and a pattern with high resolution can be formed, and a patterning process using the same.
ブリッジが発生しにくく、また、基板依存性が小さく、解像性に優れたパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus has an advantage that the coupling system is apart from the patterning means during the projection phase, so as to obtain the projection image with high accuracy.
このリソグラフィ装置は、投影フェーズの間に結合システムがパターン化手段から間隔を隔てられることを特徴としており、それによってより精度の高い投影イメージが得られる。 - 特許庁 - The ohmic contact layer-forming film 25 and the semiconductor film-forming film 21 are subjected to plasma etching for patterning, using resist patterns 26 and 26 and the second channel protective film 6 as masks.
そして、レジストパターン２６、２６および第２のチャネル保護膜６をマスクとしたプラズマエッチングで、オーミックコンタクト層形成用膜２５および半導体膜形成用膜２１をパターニングする。 - 特許庁 - Processor processes signals from the sensor(s) to resolve spatial information in the projected alignment mark to establish a reference for measuring positional relationships between a substrate support and the patterning location.
プロセッサが、センサからの信号を、投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解するように処理して、基板支持体とパターニング位置の位置関係を測定するための基準を確立する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a piezoelectric actuator which prevents a particle size in a piezoelectric layer of a piezoelectric element from increasing and has a function as an etching stop layer during patterning of the piezoelectric layer.
圧電素子の圧電体層の大粒化を防止し、しかも圧電体層のパターニングの際のエッチングストップ層としての機能も有する圧電アクチュエーターの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition film allowing formation of a film having superior heat resistance, in which a high-resolution pattern can be formed without producing undercut at patterning.
パターン加工時にアンダーカットが発生することなく、高解像度のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂組成物フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a cell culture patterning substrate and a method for manufacturing the same which can be used to culture the cells on the substrate in an intended shape.
本発明は、基材上に目的とする形状に細胞を培養するために用いられる細胞培養用パターニング基板、およびその製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises 11 processes including a manufacturing process of a metal sacrificial layer, a resist cone forming process, a resist film patterning process, a shape memory alloy film manufacturing process, and the like.
その製造方法は、金属犠牲膜の製造工程、レジスト錐形成工程、レジスト膜パターンニング工程、形状記憶合金膜製造工程などを含む１１の工程からなる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element to make a patterning of an organic EL layer using a photolithography method, having no defect and having a high safety and reliability.
フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、欠陥がなく、安定性、信頼性の高い有機EL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process to obtain broad range of feature detail in the same resist film with sufficiently uniform surface topography and without the need to perform significant post-patterning processing.
同一レジスト膜に、実質的なパターニング後処理を行う必要がない十分に均一な表面トポグラフィを有する、広範囲のフィーチャのディテールを得ることが可能なプロセスの提供。 - 特許庁 - To provide a method of forming wiring, capable of obtaining practically sufficient low resistance by sintering at a low temperature and short time after patterning a conductive fine particle material on a substrate.
基板上に、導電性の微粒子材料をパターニングした後、低温且つ短時間の焼結で、実用上充分に低い抵抗が得られる配線形成方法を提供する。 - 特許庁 - The surface of an insulated layer 12f laminated on a wafer 30 is formed with a mask for a main pedestal (a mask for patterning) 46 and plural masks 50a to 50e for monitoring having different dimensions.
ウエハ３０上に積層された絶縁層１２ｆの表面に、メインペデスタル用マスク（パターン用マスク）４６と、寸法の異なる複数個のモニタ用マスク５０ａ〜５０ｅを形成する。 - 特許庁 - Next, in patterning the uppermost and lowermost surfaces, the whole surface of the lowermost conductor layer is etched with an electrode left, so that the necessity the insulating sheet or the insulating material is eliminated.
次に上下の最表面をエッチングでパターン化するが、一番下側の導体層は、電極の部分を残してすべてエッチングすることにより、絶縁シートや絶縁材料を不要とする。 - 特許庁 - A shielding film 3a comprising a metal thin plate or the like is formed on the surface of a glass substrate 9 on the SOQ substrate 5, and the transmission lattice 3 is formed by patterning the film.
ＳＯＱ基板５のガラス基板９の表面には金属薄膜などからなる遮光膜３ａが形成され、ここをパターニングすることにより透過格子３が形成されている。 - 特許庁 - NEW COMPOUND AND METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, PRINTING UNIT, INK-JET PRINTER, PRINTING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERNING METHOD, ARTICLE, METHOD FOR SENSING ENVIRONMENTAL HISTORY AND PRINTING MEDIUM
新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁 - The gate electrode for an insulation gate electric field effect transistor is formed in the logical operation circuit area by patterning the first conductive layer excluding the element separating area in the logical operation circuit area.
ロジック回路領域内の素子分離領域を除く第１導電層をパターニングして、ロジック回路領域内に絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成する。 - 特許庁 - To obtain both an adhesive composition having high adhesion to a substrate and capable of exhibiting good patterning performances without problems such as deposition and a heat-resistant photosensitive resin composition using the adhesive.
基板との高い接着性を有し、析出等の問題が無く、良好なパターニング性能を発揮する接着剤、それを用いた耐熱性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - An insulating film 30 is formed on a semiconductor substrate where a channel layer 20 is formed by a CVD method, etc. for patterning with a resist, and a gate opening 31 is formed using an RIE, etc.
チャンネル層２０が形成された半導体基板に絶縁膜３０をＣＶＤ法等で成膜し、レジストでパターンニングした後、ＲＩＥ等を用いてゲート開口部３１を形成する。 - 特許庁 - The manufacturing method is such that a capacitor lower electrode layer 113, a ferroelectric film 114 and a capacitor upper electrode layer 115 are formed in this order, and a dry etching using a photo resist 116 and a patterning follow.
容量下部電極層１１３、強誘電体膜１１４、および容量上部電極層１１５をこの順で成膜した後、フォトレジスト１１６を用いてドライエッチングし、パターニングする。 - 特許庁 - To quickly perform patterning processing by generating intermediate codes for performing quick color space conversion processing in accordance with the kind and size of picture data inputted from a master device.
上位装置から入力された画像データの種類や大きさに応じて高速な色空間変換処理を行なえる中間コードを生成し、描画処理を高速に行なう。 - 特許庁
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