「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 43 44 45 46 47 48 49 50 51 .... 78 79 次へ＞- By performing the patterning of a conductor film being formed on a resin substrate 11, a conformal mask 12 with an opening 14 for drilling a hole in the resin substrate 11 and circuit wiring 13 are formed.
樹脂基板１１に形成された導体膜をパターニングして、樹脂基板１１に孔を開けるための開口１４を有するコンフォーマルマスク１２と同時に回路配線１３を形成する。 - 特許庁 - An epitaxial mask 4 comprising a metallic oxide in major proportions is formed on the substrate 1 by patterning the photosensitive mask layer with a photolithography method and further by conducting an oxidation treatment or a reductional treatment.
この感光性マスク層をフォトリソグラフィによりパターニングし、更に酸化処理又は還元処理して、基板１上に金属酸化物を主成分とするエピタキシャルマスク４を形成する。 - 特許庁 - A patterning device includes a material layer 31, a patterned opaque material layer 32 on the surface of the material layer, and a pellicle 40 of a perfluoropolyether (PFPE) liquid, the pellicle covering the surface.
パターニング・デバイスは、素材層３１と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層３２と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクル４０とを含む。 - 特許庁 - To provide a method of forming fine patterning of a semiconductor device in which patterns differing in pattern density or pattern width and having various sizes and various pitches are formed on one substrate at the same time.
同じ基板上にパターン密度またはパターン幅の相異なる多様な大きさ及び多様なピッチのパターンを同時に形成できる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An electronic element having at least one material among a conductive material, a semiconductor material and an insulating material, a circuit board, an electronic device and an electrooptic device are manufactured by a patterning apparatus 1.
導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料を備えた電子素子、回路基板、電子装置、電気光学装置を、パターニング装置１で製造する。 - 特許庁 - The patterning apparatus draws a pattern on the substrate 4 with the ink jet head 1 by making ink droplets 2, 11, 12, and 14 discharged from the ink jet head 1 impinge on the substrate 4.
インクジェットヘッド１を用いたパターニング装置は、インクジェットヘッド１により吐出したインク液滴２、１１、１２、１４を着弾、付着することにより基板４にパターニングを行う。 - 特許庁 - The uppermost layer of the dielectric multilayered film 10 is divided into first regions 11 of the high refractive index dielectric layer and second regions 12 of the low refractive index dielectric layer by patterning.
誘電体多層膜１０の最上層を、高屈折率誘電体層の第１領域１１と低屈折率誘電体層の第２領域１２とにパターニングで分割した。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for producing a coating mate rial for simultaneous patterning on double side, by which optional coating film patterns are precisely applied on both surfaces of a base material whose dimen sional stability is poor.
寸法不安定性の基材の両面に任意の塗膜パターンを精度良く塗工可能にする両面同時パターン塗工材の製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a display element and its manufacturing method in which characteristics such as low cost, high throughput and flexibility of optical material selection are maintained and a patterning precision is improved.
表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁 - To prevent the barrier wall between ink pressure chambers from being deformed during ink jet operation even if it is made thin through fine patterning.
高密度化によりインク圧力室間の隔離壁を薄くしても、インク吐出動作における当該隔離壁の変形を防止できる静電式インクジェットヘッドの駆動方法を提案すること。 - 特許庁 - A first opening part and second opening part are formed in a phase-shift layer 402 by patterning for exposing part of a mask substrate 400.
位相シフト層がマスク基板上に形成され、かつ、第１および第２開口部が、前記マスク基板の一部を露光させるためにパターン化により前記位相シフト層内に形成されている。 - 特許庁 - To provide a thermosetting or photo-curable resin capable of forming a cured material having a high refractive index, excellent heat resistance and electric characteristics, and also excellent in patterning property.
屈折率が高く、優れた耐熱性および電気特性を有し、かつパターニング性に優れた硬化物を形成し得る熱硬化性あるいは光硬化性の樹脂を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a display element and its manufacturing method in which characteristics of a low cost, a high throughput and a wide selection of optical materials are maintained and a patterning precision is improved.
表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁 - To provide a substrate for a liquid crystal display device having a protrusion for liquid crystal alignment control having excellent electric characteristics and light-shielding properties without spoiling patterning characteristics and reliability.
パターニング特性や信頼性を損なうことなく、電気的特性、遮光性に優れた液晶配向制御用突起を有する液晶表示装置用基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device which enhances the resistance to a developer without increasing a film thickness of a protective film in a double exposure technology, and achieves a micro patterning.
ダブル露光技術において、保護膜の膜厚を増加せずに現像液耐性を向上させ、微細パターニングを実現する半導体デバイスの製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To eliminate adverse effects on the positional precision of a pattern caused by radiant heat as much as possible with respect to a mask for vapor deposition, and to allow it to cope with high precision patterning.
蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁 - To provide a method of forming a mask pattern, which prevents pattern collapse of the mask pattern by omitting an etching process of an antireflection film when forming the mask pattern by a Side Wall Patterning (SWP) method.
ＳＷＰによりマスクパターンを形成する場合に、反射防止膜のエッチング工程を省略し、マスクパターンのパターン倒れを防止することができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrostatic induction-type power generation element having an electret which is superior in thermal stability of the retained charge and is constituted of a film formed by patterning, and to provide a method of manufacturing the element.
保持した電荷の熱安定性に優れた、パターニングにより形成された膜から構成されるエレクトレットを具備する静電誘導型発電素子およびその製造方法の提供。 - 特許庁 - The liquid crystal display device may include a protrusion on the peripheral area by patterning an organic film on the peripheral area by using a half-tone mask.
本発明の一実施形態による液晶表示装置は、ハーフトーンマスクを用いて周辺領域の有機膜をパターニングすることにより、周辺領域に突出部を含むことができる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a copper coating polyimide film substrate, which does not have a minute depression on a metal layer surface, and to decrease depressions on a metal layer surface and defects at patterning of wiring.
金属層表面に微小な凹みが無い銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法を提供し、金属層表面の凹みや配線パターニング時に欠陥を減少させる。 - 特許庁 - The resulting pattern may be used in a projection lithography apparatus having a programmable patterning means that is adapted to generate three or more intensity levels.
その結果得られるパターンは、３つ以上の強度レベルを生成するように適合されたプログラム可能なパターン形成手段を備える投影リソグラフィ装置内で使用することができる。 - 特許庁 - A polysilicon gate 11g, which is formed even on a silicon oxide film 9 and subjected to planarization processing and patterning processing, is silicide-processed from its surface to obtain a silicide region 18g.
シリコン酸化膜９上にも形成され、平坦化処理及びパターニング処理が施されたポリシリコンゲート１１ｇに対し、表面からシリサイド化してシリサイド領域１８ｇを得る。 - 特許庁 - Images reach from different angles which have the number NA of larger effective openings since the images are of from radiations generated from the mutually separated patterning arrays.
互いに間を隔てたパターニング・アレイから生成される放射線からイメージが形成されるため、異なる角度からイメージが到達し、これはより大きい有効開口数ＮＡを有している。 - 特許庁 - Accuracy of patterning using an electron beam aligner is enhanced by replacing the unevenness in exposure intensity uncontrollable for a pattern to be obtained by controllable double exposure.
得るべきパターン形状に対して制御不可能な露光強度むらを、制御可能な２重露光に置き換えることで、電子線露光装置を用いたパターン作製精度が向上する。 - 特許庁 - After depositing a polysilicon film 111 over the metal containing film 105, an N-type transistor gate electrode 113, and a P-type transistor gate electrode 114 are formed by patterning.
金属含有膜１０５上にポリシリコン膜１１１を堆積した後、パターニングにより、Ｎ型トランジスタ用ゲート電極１１３及びＰ型トランジスタ用ゲート電極１１４を形成する。 - 特許庁 - To provide an electron-emitting element capable of long-term stabilization of an emission current at a high yield, an electron gun, an electron microscope device and an electron beam patterning device using it.
エミッション電流の長期的な安定化が可能で、高歩留まりな電子放出素子，電子銃、それを用いた電子顕微鏡装置及び電子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - By performing patterning to the channel side substrate by dry etching with the channel side substrate and the reservoir forming substrate 30 held on the support, the communicating portion 13 is formed.
そして、流路側基板及びリザーバ形成基板３０を支持体に保持したまま、流路側基板に対してドライエッチングによるパターニングを行うことで、連通部１３を形成する。 - 特許庁 - To provide a color filter substrate which is free of a problem of pattern precision in patterning or a problem of color unevenness or color absence on a surface when a color layer uses, especially, pigment.
特に顔料を用いたカラー層の場合に、パターニング時にパターン精度に問題が発生しない、あるいは面内の色ムラや色抜けの問題が生じないカラーフィルタ基板を提供すること。 - 特許庁 - In an adhesive layer patterning process 203, a part of the adhesive layer formed on the plate corresponding to the opening section is physically removed by an ultrasonic wave in a liquid.
次に、接着層パターニング工程２０３で、プレート上に形成されている接着層における開口部上に対応した部分を、液中超音波にて物理的に除去する。 - 特許庁 - First masks 6 having lattice type regular patterns in first opening sections (holes) 61 are manufactured by using a double patterning technique for forming the contacts 3 for the sub-lithographic.
サブリソグラフィックのコンタクト３を形成するために、第１の開口部（ホール）６１の格子型の規則正しいパターンを有する第１のマスク６をダブルパターニング技術を用いて製造する。 - 特許庁 - Next, trench mask patterns and filler insulating film patterns are formed for defining slit type openings crossing and exposing the active regions by patterning the trench masks and filler insulating films.
次に、トレンチマスク及び埋め立て絶縁膜をパターニングして活性領域を横切り、露出させるスリット型開口部を定義するトレンチマスクパターン及び埋め立て絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁 - A gate electrode 126 of a TLPM 100, a gate electrode 226 of an NMOS 200 and a gate electrode 326 of a PMOS 300 are formed by patterning the same polysilicon layer.
ＴＬＰＭ１００のゲート電極１２６、ＮＭＯＳ２００のゲート電極２２６およびＰＭＯＳ３００のゲート電極３２６を同一のポリシリコン層のパターニングにより形成する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a photomask which is hardly affected by errors of stage movement even when the real amount of stage movement for scanning the photomask has errors with respect to the set amount of movement.
フォトマスクを走査するステージが、設定移動量に対して実移動量が誤差を保有していても、その誤差の影響を受けにくいフォトマスクのパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a photomask which can suppress the influence of the "stray light" while achieving high patterning precision for the circuit patterns transferred on a wafer without largely increasing the costs.
ウェハに転写される回路パターンの高いパターニング精度を実現しつつ、大幅なコストアップ無しに“迷光”の影響を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The ohmic contact layer forming film 25 and the semiconductor film forming film 21 are subjected to plasma etching for patterning, using resist patterns 26 and 26 and the second channel protective film 6 as masks.
そして、レジストパターン２６、２６および第２のチャネル保護膜６をマスクとしたプラズマエッチングにより、オーミックコンタクト層形成用膜２５および半導体膜形成用膜２１をパターニングする。 - 特許庁 - The page size patterning methodology is performed globally on at least a sub-page basis, rather than on a pixel-by-pixel basis and may be performed based on or independent of specific image data.
ページサイズのパターン形成方法は、ピクセル毎ではなく、少なくともサブページ毎に広範囲で実行され、特定の画像データに基づいて、又はこれとは独立して実行することができる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method of a semiconductor element, which can simultaneously form patterns having a variety of widths, and can increase a pattern density in part of regions by double patterning technique.
多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を増加させることができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus has a support configured so as to support a patterning device capable of forming a patternized radiation beam by giving a pattern to the section of the radiation beam.
リソグラフィ装置は放射線ビームのその断面にパターンを与えてパターン化放射線ビームを形成することの可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持を備える。 - 特許庁 - Toluene solution of NPD as hole transportation material is formed to a film by a spin coat method on a substrate 1 wherein an indium/tin oxide layer 2 is subjected to patterning, and an NPD film 3 is formed.
インジウム・スズ酸化物層２がパターニングされた基板１の上に、正孔輸送材料であるＮＰＤのトルエン溶液をスピンコート法にて膜状化して、ＮＰＤ膜３を形成した。 - 特許庁 - In a metal gate electrode forming method, a selective oxidation process to silicon which is executed after gate electrode patterning is executed in a gas atmosphere containing gas which contains nitrogen atoms.
金属ゲート電極形成方法において、ゲート電極パターニング後実施されるシリコンに対する選択的酸化工程を、窒素原子を含有するガスを含むガス雰囲気で実施する。 - 特許庁 - Patterning is carried out for an electrode film deposited on each flat principal plane of the crystal element strip, in order to form driven electrodes 12a and 12b and linking electrodes 13a and 13b drawn out from them.
平坦な水晶素子片各主面に成膜した電極膜をパターニングして、励振電極１２ａ，１２ｂ及びそれから引き出した接続電極１３ａ，１３ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring substrate which allows electronic components to be accurately mounted in respective wiring substrate regions and can be accurately divided into each wiring substrate region.
多数個取り配線基板について、各配線基板領域に電子部品を正確に搭載することができるとともに、各配線基板領域ごとに正確に分割することを可能とする。 - 特許庁 - A method includes steps of: forming a material on a substrate; and patterning the material and removing a portion of the material to expose the portion of the substrate underlying the portion of the material.
方法は、基板の上に材料を形成するステップと、この材料にパターンを形成して、材料の部分を除去し、その下の基板の部分を露出させるステップとを含む。 - 特許庁 - A first patterning and an etching process are performed to the lower wiring material and the switching material to form a first structure 1102 having an upper surface area and a side area.
下部配線材料及びスイッチング材料に対して第１パターニング及びエッチングプロセスを行い、上部表面領域及びサイド領域を有する第１構造１１０２を形成する。 - 特許庁 - To provide a substrate for applying an ink discharge system to be processed by a new patterning technique in a method for forming a thin film pattern on the substrate by using the ink discharge system.
インク吐出方式を用いて基板上に薄膜パターンを形成する方法においおて、新規なパターニング技術で処理された、インク吐出方式を適用するための基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface acoustic wave filter for accurately patterning an interdigital electrode on a piezoelectric substrate at a prescribed interval and a prescribed finishing height and to provide its manufacturing method.
圧電体基板上の櫛形電極を、所定の間隔でかつ所定の仕上り高さに精度よくパターニングできる表面弾性波フィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Many and unspecified persons such as self and familiar people can be expressed as a doll by statistically patterning the parts of hair style (1), a face (2) and dress (3) and combining them.
髪型（１）、顔（２）、服装（３）の部首を統計的にパターン化し、それを組み合わせることにより、自分や身近な人などの不特定多数の人を人形として表現することができる。 - 特許庁 - To provide a negative photosensitive resin composition which is excellent, when developing, in adhesion with the surfaces of substrates comprising inorganic substances not containing Si atoms and the element surfaces during the patterning process.
パターン加工時において、Ｓｉ原子を有しない無機物で構成される基板表面や素子表面との現像時接着性に優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method capable of improving the patterning accuracy of charge transferring electrodes, in a solid-state imaging element having the charge transferring electrodes of monolayer electrode structure.
単層電極構造の電荷転送電極を有する固体撮像素子において、電荷転送電極のパターニング精度を向上させることが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a simple method which accomplishes patterning of a micron order and uniaxial orientation of a one dimensional conjugated oligomer simultaneously and a molecular oriented conjugated oligomer.
磁場を用いて一次元共役系オリゴマーのミクロンオーダーのパターニングと一軸配向を同時に実現することができる簡便な方法と、分子配向共役系オリゴマーを提供する。 - 特許庁
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