「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 45 46 47 48 49 50 51 52 53 .... 78 79 次へ＞- To provide a photosensitive resin composition which excels in film retention in its patterning and ensures very little change in profile by heat treatment, and a metal-resin complex using the same.
パターン加工時の残膜性に優れ、かつ、加熱処理による形状の変化が極めて少ない感光性樹脂組成物ならびにそれを用いた金属樹脂複合体を提供する。 - 特許庁 - To enhance condensation efficiency when finer patterning is employed on the light receiving face or various kinds of film, e.g. a light shielding pattern or an interconnection pattern, are formed in layers on the light receiving face.
受光面の微細化が進んだり、遮光パターンや配線パターンのような各種の膜が受光面の上に多く積層されるようになった場合の集光効率を高める。 - 特許庁 - To satisfy both patterning accuracy and light shielding performance in using a hard mask and a light shielding band light shielding film in common relating to a method of manufacturing a halftone phase shift mask and a method of manufacturing a semiconductor device.
ハーフトーン位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法に関し、ハードマスクと遮光帯遮光膜を兼用する場合に、パターニング精度と遮光性を両立する。 - 特許庁 - The present invention discloses a mask for forming a fine pattern to completely transfer a first and a second pattern from the mask through a double patterning step onto a transfer object below, and a method for forming the mask.
二重パターニング工程でマスク上の第１及び第２パターンをそのまま下部の被転写物に転写させる微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法である。 - 特許庁 - The terminal structure of a catcher in order to connect an antenna element and a cable has the conductor plate 1 composed of the conductive member and a notched part 11 that is installed by patterning to the conductor plate.
アンテナ素子とケーブルとを接続するためのキャッチャの端子構造は、導電性部材からなる導体板１と、導体板にパターンニングされて設けられる切り欠き部１１とを有する。 - 特許庁 - To provide the manufacture of a multi-layered wiring board which can use the target of an internal layer material as the matching standard for the patterning of an external layer without requiring any extra process.
余計な工程を要さずに内層材のターゲットを外層のパターン加工のための整合基準として用いることができる多層配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A lithography system is disclosed which includes a lithography patterning chamber, a wafer replacement chamber coupled to the lithography patterning chamber, and at least one alignment load-lock separated from the wafer replacement chamber by a second gate valve, wherein the at least one alignment load-lock includes an alignment stage for aligning a wafer.
本発明のリソグラフィシステムは、リソグラフィシステムであって、リソグラフィのパターニングチャンバと、上記リソグラフィのパターニングチャンバに結合されたウェハ交換チャンバと、第２のゲートバルブによって上記ウェハ交換チャンバから分離された少なくとも１つのアライメントロードロックであって上記少なくとも１つのアライメントロードロックはウェハの位置を合わせるアライメントステージを含む少なくとも１つのアライメントロードロックとを含む。 - 特許庁 - In the method of cleaning the patterning device used for the lithographic projector, the patterning device includes the blank layer and the patterned layers of the opaque material existing on the surface of the blank layer and the PFPE liquid covering the surface is applied on the surface of the blank layer in order to form the PFPE liquid layer and at least a portion of the PFPE liquid layer is removed.
フォトリソグラフィ投影装置に使用するパターニング・デバイスのクリーニング方法、素材層と、素材層の表面上にある不透明材料のパターン状層とを含むパターニング・デバイス、ＰＦＰＥ液層を形成するため、ＰＦＰＥ液の表面に表面を覆うＰＦＰＥ液体を塗布することと、ＰＦＰＥ液層の少なくとも一部を除去することとを含む方法。 - 特許庁 - This lithography equipment comprises a radiation system, a second support for supporting a first support substrate supporting a patterning device for patterning a radiation beam, a projection system for projecting the patterned beam on the target of the substrate, and an interferometric measurement system for providing an interferometric measurement beam extending along an axis in an elongated volume of gas extending under the projection system.
リソグラフィ装置は、放射線システム、および放射線ビームをパターン化するパターニングデバイスを支持する第一支持体基板を支持する第二支持体、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システム、および投影システムの下に延在するガスの細長いボリューム内で、軸線に沿って延在する干渉計測定ビームを提供する干渉計測定システムを含む。 - 特許庁 - This boiler control device has: measuring instruments for measuring the flow of fuel supplied to the burners for every burner, and also has: a patterning means for forming a flow pattern of fuel flow based on the measured values of the measuring instruments; and an operation signal generating means for computing the air flow supplied to the burners or air ports based on the pattern information generated in the patterning means.
バーナーに供給する燃料の流量をバーナー毎に計測する計測器を有し、計測器で計測した計測値に基づいて、燃料流量の流量パターンを生成するパターン化手段と、パターン化手段で生成したパターン情報に基づいて、バーナー又は、エアポートに供給する空気流量を計算する操作信号生成手段を備えるボイラの制御装置。 - 特許庁 - A lithography system comprises a patterning chamber of lithography, a wafer replacement chamber coupled with the patterning chamber of lithography, and at least one alignment load lock separated from the wafer replacement chamber by a second gate valve wherein at least one alignment load lock comprises at least one alignment load lock including a stage for aligning a wafer.
本発明のリソグラフィシステムは、リソグラフィシステムであって、リソグラフィのパターニングチャンバと、上記リソグラフィのパターニングチャンバに結合されたウェハ交換チャンバと、第２のゲートバルブによって上記ウェハ交換チャンバから分離された少なくとも１つのアライメントロードロックであって上記少なくとも１つのアライメントロードロックはウェハの位置を合わせるアライメントステージを含む少なくとも１つのアライメントロードロックとを含む。 - 特許庁 - A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist pattern by using the above resist composition on a surface to be processed and then applying a resist pattern thickening material to cover the surface of the resist pattern, and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching with the thickened resist pattern as a mask.
本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に前記レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うようにレジストパターン厚肉化材料を塗布することにより該レジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、該厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁 - This strain sensor is manufactured by a patterning process for forming a pattern having a beltlike aperture surrounding a predetermined point in one surface of the substrate, and a process for etching the substrate along the beltlike aperture by a predetermined amount after this patterning process, and integrally forming the diaphragm copying the outline of the beltlike aperture and the needlelike projection supported at the center of the diaphragm on the substrate.
この歪センサは、基板の一面に、所定の点を取り囲む帯状の窓を設けたパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程の後に帯状窓に沿って基板を所定量エッチングし、基板に帯状の窓の外形に倣ったダイアフラムとダイアフラムの中央に支持された針状突起とを一体に形成する工程によって製造される。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a color filter array having simplified manufacturing steps, particularly a method for manufacturing the color filter array substrate provided with an overcoat layer having a flat surface, and to provide a thin film patterning apparatus capable of performing the patterning step without using a photolithography step and capable of simplifying the manufacturing step and a method for manufacturing the color filter array substrate utilizing the same.
本発明は、製造工程を単純化したカラーフィルタアレイ基板の製造方法、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - The color filter has a base material, a plurality of color layers formed on the base material in a pattern shape, layers for patterning formed on the color layers and/or boundary regions between the color layers and used for forming spacer parts and the spacer parts formed on the layers for patterning.
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層と、前記着色層上および／または前記着色層どうしの境界領域上に形成され、スペーサ部を形成するために用いられるパターニング用層と、前記パターニング用層上に形成された前記スペーサ部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁 - By using such a material for the mask, the plastic substrate can be heat deformed to approximately the same extent as the mask during vapor deposition, whereby the accuracy of deposition patterning can be enhanced.
このような材料を蒸着マスクに採用することで蒸着時においてプラスチック基板の熱変形と蒸着マスクの熱変形とを同程度とでき、蒸着パターニング精度を向上できる。 - 特許庁 - The spectrally dividing part comprising the optical layer apart from the substrate can be formed by, for example, successively depositing a sacrificial layer and an optical layer on the substrate, patterning the layers and then removing a part of the sacrificial layer.
例えば、基板上に、犠牲層、光学層を順に形成してパターニングを行った後、犠牲層の一部を除去することで、基板から離間した光学層からなる分光部を形成できる。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.
パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a transfer sheet which makes highly precise transfer possible without using the laser transferring method in the case patterning of an organic EL layer of EL element is carried out by the transferring method.
本発明は、ＥＬ素子の有機ＥＬ層を転写法でパターニングする際に、レーザ転写法を用いることなく高精細な転写を可能とする転写シートを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To prevent wiring that should be left from being etched by a resist film thickness reduction, and prevent wire linewidth variations by suppressing a focus deviation during wire patterning by an exposure machine.
レジストの膜減りによって残すべき配線がエッチングされることを防止すると共に、露光機による配線パターニング時のフォーカスずれを抑制し、配線の線幅にバラツキが生じることを防止する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for efficiently and easily drying substrates on which fine patterning is performed, such as photomasks and printing plates for fine printing after wet-washing using a washing liquid or the like.
フォトマスクや精密印刷用の刷版など、微細なパターニングが施されている基板を、洗浄液等を使用してウェット洗浄した後、効率よく容易に乾燥させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - The EL element manufacturing method comprises patterning at least one of organic EL layers constituting the EL element using a photolithographic method.
上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To improve smoothness of the surface of a recording layer and to improve precision in nano imprint of a resist layer by eliminating occurrence of residuals in the removal of a mask layer after the patterning process of a magnetic layer.
磁性層のパターニング工程後のマスク層除去で残渣を発生させず、記録層表面の平滑性を向上させることができ、またレジスト層のナノインプリントを高精度で行うことができるようにする。 - 特許庁 - The woven material is produced by using tape-like warp and weft through the employment of a rotary type shedding means which also functions as a direct specific-weave patterning means and a weft guiding means.
直接に特定織パターンを形成する装置およびよこ糸案内装置としても機能する回転式開口装置を用いることにより、テープ状のたて糸およびよこ糸で製造される織物である。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device which allows a precise and uniform patterning of a film to be etched even if a pattern comprises a mixture of pattern elements of various line widths and sparsenesses.
種々の線幅／スパース幅のパターンが混在していても、高精度で均一な被エッチング膜のパターニングを行うことができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In contrast, a movable pin 5 is inserted into a through hole formed in the support plate, and the movable pins 5 are disposed at positions which overlap on cut scheduled lines L3, L4 where the large-sized substrate is further subjected to patterning.
一方、前記支持プレート形成した貫通穴に可動ピン５が挿通され、各可動ピン５は大型基板を更に面取りする裁断予定線Ｌ３，Ｌ４に重なる位置に配置されている。 - 特許庁 - A contact hole 13a is thereby formed in the insulating film 13, using the organic flattened film 14 formed with a contact hole 14a as a mask, and the number of the masks used for the patterning is reduced by this manner.
このため、コンタクトホール１４ａが形成された有機平坦化膜１４をマスクとして絶縁膜１３にコンタクトホール１３ａを形成することができ、パターニングに用いるマスクの数を減らすことができる。 - 特許庁 - The apparatus has a support structure MT for supporting patterning means, a substrate table WT for supporting a substrate, and a projection system PL for projecting a patterned beam onto a target area of the substrate.
パターニング手段を支持するための支持構造ＭＴと、基板を支持するための基板テーブルＷＴと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムＰＬとを有する。 - 特許庁 - To provide a roof beam support structure capable of rationalizing the manufacturing and construction work by eliminating various labors by patterning the opening width of a transverse wall when supporting the load of a roof beam.
屋根梁の荷重を支持するにあたって、妻壁の開口幅をパターン化することによって種々の手間を省き、製造上及び施工上の合理化を図りうる屋根梁支持構造を提供する。 - 特許庁 - To control a patterning geometry by replacing excess acid on the boundary face between a resist and a base film by applying a basic substrate treating agent in which an acid generating agent which generates a weak acid on the resist base film is added.
レジスト下地膜に弱酸を発生する酸発生剤を添加した基板処理剤を塗布することにより、レジストと下地膜の界面の余剰酸を酸置換してパターニング形状を制御する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning ceramic wiring board for an image sensor such as a CCD that improves flatness of a plane where a component such as an optical lens is mounted and suppresses production of dust due to ceramic crushing.
光学レンズ等の部品を搭載する平面の平坦度を向上させるとともに、セラミック破砕に起因したダストの発生を抑え、ＣＣＤ等のイメージセンサ用のセラミック配線基板を提供する。 - 特許庁 - An organic EL (electroluminescent) element material is vapor-deposited onto the surface of the glass substrate 130 from a vapor deposition source 140 via an opening 2 of the shadow mask 1 to carry out patterning of the organic EL element.
蒸着源１４０からシャドウマスク１の開口部２を通してガラス基板１３０の表面に有機ＥＬ素子材料の蒸着を行うことにより、有機ＥＬ素子のパターン形成を行う。 - 特許庁 - The tunnel dielectric layer 210, the charge capture layer 230, the first length setting layer 310, and the second length setting layer 330, which have been formed, are processed by patterning in order so that the self-alignment may be executed mutually.
形成されたトンネル誘電層２１０、電荷捕獲層２３０、第１長さ設定層３１０及び第２長さ設定層３３０を相互間に自己整列されるように順にパターニングする。 - 特許庁 - To provide an electron emission device capable of increasing an aspect ratio of each opening formed in an insulating layer to enable minute patterning, and advantageous for realizing high resolution and high luminance as a result thereof.
絶縁層に形成される開口部の縦横比を高めて微細パターニングを可能にし、その結果高解像度と高輝度実現に有利な電子放出素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning process in which a closely packed dot pattern and an isolated dot pattern are formed in one exposure using a positive resist film and which patterns are used to form a hole pattern by positive/negative reversal.
ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method for plating in which no resist is used and no influence is produced upon a pattern mask and which is capable of repeated use and requires relatively low equipment cost and can cope with the recent demand for finer pattern.
レジストを用いることなしに、また、パターンマスクへの影響がなく、繰り返し使用が可能で設備コストが比較的小さく、微細なパターンに対応できるめっきのパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a one-sided or double-sided flexible printed wiring board, which is modified in dimensional stability without marring the physical properties of the board, excellent in a migration resistance and suitable to a fine patterning.
フレキシブル印刷配線用基板の物性を損ねることなく、寸法安定性が改善され、耐マイグレーション性に優れ、ファインパターン化に適した片面または両面フレキシブル印刷配線用基板を得ること。 - 特許庁 - A wiring pattern 44 is formed by patterning using dry etching and connected with a heating element 39 through a contact part 41 in an opening provided in an insulating protective layer 40.
本発明は、ドライエッチングを用いたパターニングにより配線パターン４４を形成し、該配線パターン４４を絶縁保護層４０に設けられた開口によるコンタクト部４１を介して発熱素子３９に接続する。 - 特許庁 - To provide a curable composition which exhibits excellent patterning property in photo-lithography and a membrane obtained from which provides a cured product with good insulation properties, heatproof and lightproof properties, and a cured product.
フォトリソグラフィーにおいて優れたパターニング性を示し、かつ得られた膜は優れた絶縁性と耐熱耐光性を有する硬化物を与える硬化性組成物および硬化物を提供すること。 - 特許庁 - To suppress the occurrence of vibrations or other disturbances which may act on a projection system of a lithographic apparatus (also referred to as a projection lens) by movements of a substrate stage, a patterning device stage (for example, a mask stage), a cooling device etc.
基板ステージ、パターニングデバイスステージ（例えばマスクステージ）、冷却デバイス等の移動により、リソグラフィ装置の投影系（投影レンズとも呼ばれる）に作用する振動または他の外乱の発生を抑制する。 - 特許庁 - The organic EL element is formed by performing patterning by an optical etching method, so that the organic EL display device is manufactured inexpensively with high accuracy compared with a case wherein coating is carried selectively by different colors using vapor-deposition masks.
光エッチング法によりパターニングを行って有機ＥＬ素子を形成するため、蒸着マスクを用いて塗り分けを行う場合に比べ、低コストかつ高精度に有機ＥＬ表示装置を製造できる。 - 特許庁 - To provide a support structure for supporting a patterning device and/or table, and an improved material for a substrate table for holding a substrate in a lithographic apparatus, and also to provide a method of manufacturing the same.
リソグラフィ装置において、パターニングデバイス及び／又はテーブルを支持する支持構造、並びに、基板を保持する基板テーブルの改良型材料、及び、それらを製造する方法を提供すること。 - 特許庁 - In this case, a method is employed which performs the electric inspection on the respective substrates 400 after cutting and dividing the multiple patterning substrate 500 into the respective substrates 400 (after performing the cutting process).
この場合、多面付け基板５００を切断して各基板４００に分割した後（切断処理を実行した後）に各基板４００に対する電気的検査を実行する方法を採用することができる。 - 特許庁 - A vapor deposition substance 115 released from a vapor deposition source 110 is passed through a vapor deposition source nozzle part 120 and a patterning slit sheet 150 to be vapor-deposited on a substrate 400 at a desired pattern.
蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過させて基板４００に所望のパターンで蒸着させる。 - 特許庁 - To provide a gas barrier film having high gas barrier properties and high surface smoothness and enabling the electrode patterning of a conductive layer, a laminated material using the gas barrier film and an image display medium.
高いガスバリア性を有するとともに、表面平滑性が高く、さらに導電性層の電極パターニングが可能なガスバリアフィルムと、このガスバリアフィルムを用いた積層材、画像表示媒体を提供する。 - 特許庁 - The lithographic device is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, and includes an air shower and a temperature sensor positioned near the air shower for measuring the temperature of an air stream in the air shower.
リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するよう構成され、エアシャワーと、エアシャワーの近くに位置決めされ、エアシャワー内の気流の温度を測定する温度センサとを含む。 - 特許庁 - Reference air temperature differences are stored in a reference air temperature difference database 133 in association with dates, and weather pattern information obtained by patterning general weather conditions is stored in a weather pattern database 134.
基準気温差データベース１３３には、日付に対応付けて基準気温差が記憶されており、天気パターンデータベース１３４には、天気概況をパターン化した天気パターン情報が記憶されている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method reducing variations in line widths of first and second resist patterns between substrates and in a substrate surface when forming minute resist patterns by double patterning.
ダブルパターニングにより微細なレジストパターンを形成する際に、基板間及び基板面内での１回目及び２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁
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