「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 48 49 50 51 52 53 54 55 56 .... 78 79 次へ＞- To provide a vapor deposition apparatus capable of executing the patterning of pixels with excellent accuracy while keeping the uniform film thickness of a large substrate when forming a thin film for an organic light emitting apparatus or the like through the mask vapor deposition.
有機発光装置などの薄膜をマスク蒸着で形成するにあたって、大判の膜厚を均一に保ちながら、画素のパターニングが精度良くできる蒸着装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic light emitting display device capable of reducing a number of steps of a patterning process utilizing a mask and suppressing an increase in resistance due to non-uniform doping in a capacitor, and a method for manufacturing the organic light emitting display device.
マスクを利用したパターニング工程段階を減らし、キャパシタの不均一ドーピングによる抵抗増加を抑制可能な有機発光表示装置とその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To enable coating of a decorative board substrate constituted of a pattern in which the starting part starts at a different position for each piece of the decorative board substrate in a decorative board to which patterning is carried out by repeating a predetermined pattern.
所定のパターンを繰り返して模様付けを行う化粧板に於いて、１枚毎に先頭部が異なる位置で始まるパターンで構成される化粧板基材の塗装を可能にすること。 - 特許庁 - A patterning sapphire substrate 1 in which the surface of a sapphire substrate 2 is covered with a mask 3 of a specific pattern is characterized in that the mask 3 is arranged in the shape of dots.
サファイヤ基板２の表面が所定パターンのマスク３で覆われているパターニングサファイヤ基板１において、前記マスク３がドット状に配置されていることを特徴とするパターンニングサファイヤ基板１である。 - 特許庁 - To surely remove polymers and particles adhered to a rear face without peeling off patterning applied to a surface, and to surely remove particles adhered to respective faces with pressing force corresponding to the respective faces.
表面に施されたパターニングを剥がすことなく、裏面に付着したポリマーやパーティクルを確実に除去し、それぞれの面に応じた押圧力でそれぞれの面に付着したパーティクルを確実に除去する。 - 特許庁 - Thereafter, by laminating IZO thereon and patterning it, there are formed each picture-element electrode, each auxiliary gate pad, and each auxiliary data pad which are connected electrically and respectively with each drain electrode, each gate pad, and each data pad.
その後にＩＺＯを積層しパターニングすることにより、ドレーン電極、ゲートパッド及びデータパッドと各々電気的に連結される画素電極、補助ゲートパッド及び補助データパッドを形成する。 - 特許庁 - To provide a copper foil for printed wiring board, and its producing method, exhibiting excellent stripping strength without increasing the surface roughness in order to deal with fine patterning of circuit wiring and high function of a basic material.
本発明は、回路配線の微細化及び基材の高機能化に対応するため、表面粗さを上げることなく、引きはがし強さに優れるプリント配線板用銅箔とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A mask 30 composed of a plurality of patterning-opening region 31 and a frame region 32 is made to adhere to a substrate 20 by using a magnet 10 so as to deposit a light emitting layer of an organic light emitting element.
基板２０に対して、複数のパターニング開口領域３１とフレーム領域３２から構成されたマスク３０をマグネット１０を用いて密着させて、有機発光素子の発光層を蒸着する。 - 特許庁 - The method for patterning the molding plate comprises the steps of first sandwiching under pressure the extrusion molded molding plate 1 between rolls 2 and 3, forming protruding positions 6 by recess positions 7 on the upper surface, and forming the recess positions 7 by the protruding parts 3a on the lower surface.
押出成形された成形板１は、まずロール２，３によって狭圧され、その上面に凹部２ａによって凸所６が形成され、下面には凸部３ａによって凹所７が形成される。 - 特許庁 - According to constitution of the method, the patterning is performed for every thin film of plural quantities, by which the thin films can be thickened irrespective of a ratio of a width to a depth (an aspect ratio) of a final throughhole pattern.
本発明の構成によれば、複数の薄膜毎にパターン形成を行うため、最終的な貫通孔パターンの幅と深さの比（アスペクト比）によらず、薄膜の厚膜化を行うことが出来る。 - 特許庁 - A wafer-forming a filter is made into individual pieces, these pieces are mounted on a circuit substrate having a phase matching circuit, and forms a clad layer 14, thereby enabling a patterning process of the clad layer 14 to be reduced.
フィルタを形成したウェハを個片化し、位相整合回路を有する回路基板に実装し、クラッド層１４を形成するので、クラッド層１４のパターニング工程を削減することができる。 - 特許庁 - In this regard, patterning is performed such that the end 6a of the resist mask 6 abutting on a region for forming an N^+ type diffusion region 2 is located at a position separated by 0.3 μm from the STI end 3a, for example.
このとき、レジストマスク６のＮ^+型拡散領域２の形成予定領域に接する端部６ａがＳＴＩ端部３ａから例えば０．３μｍ離れたところに位置するようにパターニングを行う。 - 特許庁 - To provide a device for organic layer deposition, which is suitable for mass production of large substrates and allows highly fine patterning, and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the organic layer deposition device.
大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a soft mold and a manufacturing method therefor which prevent that resin becomes hydrophobic since area is reduced in surfaces of a PDMS (polydimethylsiloxane) mold where organic substances are transferred, and to provide a patterning method using the manufacturing method.
ＰＤＭＳモールドの表面において有機物が転移される表面積を低減して、樹脂が疏水性となるのを防止できる、ソフトモールド及びその製造方法並びにパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - The method and apparatus for fabricating the flat panel display element include patterning a thin film of the flat panel display element by utilizing a soft mold formed with a repulsion layer having high repulsive force to an etch-resist on the surface.
本発明の平板表示素子の製造方法及び装置は、エッチレジストとの反発力が大きい反発層が表面に形成されたソフトモールドを利用して平板表示素子の薄膜をパターニングする。 - 特許庁 - While the black matrix demonstrates superior bonding strength to the base plate without experiencing the annealing process, this is superior in the mechanical characteristics, while it prevents the occurrence of internal stress and enables a fine patterning of 1 μm or smaller.
そしてアニーリング工程を経なくても基板に対する優れた接着力を示し、内部応力を発生させなくて機械的特性に優れるだけでなく１μｍ以下の微細パタニングが可能である。 - 特許庁 - Then a metal wiring film 7 is formed on the seed film 5 exposing with an opening 6a of the patterning film 6 inbetween, by the electric plating using the same kind of metal as that for the seed film 5, as shown in diagram (f).
そして、図１(f) に示すように、シード膜５と同種の金属を用いた電気メッキにより、パターニング膜６の開口６ａを介して露出したシード膜５上に金属配線膜７を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a micro-structure body by combining a plurality of micro-structure layers, which easily removes residual substances generated in patterning.
複数の微細な構造層を組み合わせて微細構造体を製造する方法において、パターニングの際に発生した残渣を容易に除去可能な製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - By taking intensity measurements, using the detector 14, for different rotational orientations of the polarization changing element 10, information on the state of polarization of the radiation at the position of the patterning device can be obtained.
検出器１４を使用して、偏光変化素子１０の互いに異なる回転向きに対し強度測定を行うことにより、パターン形成機器位置の放射偏光状態の情報を得ることができる。 - 特許庁 - After having formed the metal wirings by patterning the laminated layer 105 for wiring, a third interlayer insulating film is formed on the metal wirings so that there is the gap between the metal wirings.
配線用積層膜１０５をパターニングして金属配線を形成した後、該金属配線の上に第３の層間絶縁膜を、金属配線同士の間に空隙が存在するように形成する。 - 特許庁 - With the photosensitive film 47 as a mask, patterning is performed so as to allow the first metallic layer 43 to have the width W1 through the use of an anisotropic etching method, and then, the gate electrode with the lamination structure is formed ((c) in Fig.5).
次に、感光膜４７をマスクとして第１金属層４３を異方性エッチング方法で幅（Ｗ１）を持つようにパターニングして積層構造のゲート電極を形成する（図５（ｃ））。 - 特許庁 - At the time of the patterning, a mask pattern is set in such a manner that the edge part of the 1st metallic film 120 retreats by prescribed dimensions from the part held by a cramp 210 on the peripheral part of the substrate 100.
このパターニングに際して、基板１００の周縁部のクランプ２１０で保持される部分から第１金属膜１２０のエッジ部が所定寸法後退するようにマスクパターンを設定する。 - 特許庁 - To provide a filter of a color conversion system capable of simplifying manufacturing processes and simultaneously patterning of high fineness and improving the efficiency of color conversion concerning respective primary colors and a display.
製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とし、各原色に関する色変換の効率を向上させることが可能な色変換方式のフィルタ、およびディスプレイの提供。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal cell for color display having a retardation layer with a patterning structure that gives an ideal retardation value even in a single layer, and to provide a liquid crystal display device using the liquid crystal cell.
一層でも理想的なレターデーション値を付与するパターニング構造の位相差層を備えるカラー表示用の液晶セルを提供し、該液晶セルを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - Protein including a metal is patterned on a semiconductor substrate as a result of including steps for patterning a charged material, and adsorbing protein including a metal to the charged material.
電荷を帯びた材料をパターニングし、電荷を帯びた材料に、金属内包タンパク質を吸着させる工程を含むことにより、結果的に金属内包タンパク質を半導体基板にパターニングするものである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an image sensor capable of performing fine patterning while enhancing a fill factor even if roughness or uniformity is not improved by a CMP or WET process.
本発明は、フィルファクターを高めながら、ＣＭＰやＷＥＴ工程による粗さやユニフォーミティの改善を施さなくても、微細パターニングすることができるイメージセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an arrangement of an alignment mark that has improved compatibility with extreme dipolar illumination settings and also with less extreme settings to be used in the other patterning step during lithography processing.
極端ダイポール照明設定と、またリソグラフィ処理中の他のパターニングステップ中に使用することができるあまり極端でない設定と、改善された互換性を有するアライメントマークの構造。 - 特許庁 - The substrate for patterning comprises the substrate material and the cell culture patterning layer that is formed on the substrate, at least has photocatalytic action and the cell adhesion-inhibitory action to inhibit the cell adhesion, further includes a cell adhesion inhibitor that decomposes or modifies the cells by the action of the photocatalyst activated by energy radiation.
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒および、細胞と接着することを阻害する細胞接着阻害性を有しかつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される細胞接着阻害材料を含有する細胞培養パターニング用層とを有することを特徴とするパターニング用基板を提供する。 - 特許庁 - This application provides this method for manufacturing a plasma display panel characterized by comprising steps of: forming a barrier rib material on a lower plate, on which address electrodes and a dielectric are provided; forming a black top material comprising a photosensitive material on the barrier rib material; patterning the black top material to form the black tops; and patterning the barrier rib material using the black tops to form the barrier ribs.
アドレス電極と誘電体が備えられた下板上に隔壁材料を形成する段階と、前記隔壁材料上に、感光性材料を含むブラックトップ材料を形成する段階と、前記ブラックトップ材料をパターニングしブラックトップを形成する段階と、前記ブラックトップを用いて前記隔壁材料をパターニングする段階とを備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Further, said semiconductor device is manufactured in the steps of: forming a conductive film and a dielectric film in order; forming a laminated film different conductive films in shape of at least 2 layers or more crystal particles; forming the upper electrode 4 by patterning the laminated film; and forming the capacity insulating film 3 and the lower electrode 2 by patterning the dielectric films and the conductive films in order.
また、基板１上に導電膜と誘電体膜を順次形成し、少なくとも２層以上の結晶粒形状の異なる導電膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを順次成膜して積層膜を形成し、この積層膜をパターニングして上部電極４を形成し、誘電体膜と導電膜を順次パターニングして容量絶縁膜３及び下部電極２を形成して上記半導体装置を製造する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device having metal wires formed on an upper layer wire by RIE using tungsten as a contact burying material in which tungsten can be prevented from being etched by chemical due to the misalignment of a pattern at the time of patterning the upper layer interconnect, no inclusion margin is required at the time of patterning the upper layer interconnect, and the reduction of a pattern size is facilitated.
コンタクト埋め込み材としてタングステンを用い、その上層配線にRIEを用いて加工するメタル配線をもつ半導体装置の製造に際して、上層配線のパターニングの際にパターンの合わせずれに起因してタングステンが薬液でエッチングされてしまうことを防止でき、上層配線のパターニングの際に包含余裕をとる必要がなくなり、パターンサイズの縮小が容易になる半導体装置を提供する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the liquid jet head includes a step of laminating a first metal layer 191 enhancing adhesion and a second metal layer 192 serving as wiring on one surface of a channel formation substrate 10 where a piezoelectric actuator is formed, a step for patterning the second metal layer 192 by wet etching, and a step for patterning the first metal layer 191 by dry etching.
圧電アクチュエーターが一方面に形成された流路形成基板１０の当該一方面に密着を向上する第１の金属層１９１と、配線となる第２の金属層１９２とを積層する工程と、前記第２の金属層１９２をウェットエッチングによりパターニングする工程と、前記第１の金属層１９１をドライエッチングによりパターニングする工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a patterning method of an organic semiconductor layer which can be applied to general organic semiconductor layers or photoresist without using a special protective material such as parylene and can minimize deterioration in performance of the organic semiconductor layer due to patterning, and further to provide a method of manufacturing an organic semiconductor device, an organic semiconductor pattern formed based on that method and an organic semiconductor device, and a display device.
パリレンなどの特殊な保護材料を用いず、一般的な有機半導体層やフォトレジストに適用でき、パターニングによる有機半導体層の性能低下を抑制できる、有機半導体層のパターニング方法及び有機半導体装置の製造方法を提供し、更にこの方法に基づいて作製された有機半導体パターン及び有機半導体装置、並びに表示装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a color filter substrate by which patterning processes such as pattern exposure and development are performed to form alignment controlling protrusions by using an exposure mask having a pattern exposure region where transmittance is changed stepwise in an alignment controlling protrusion forming step for forming the alignment controlling protrusions by performing the patterning processes such as pattern exposure and development to a transparent photosensitive resin layer.
透明感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成する配向制御突起形成工程において、段階的に透過率が変化するパターン露光領域を有する露光マスクを用いて、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In a method for forming a pattern of a film, a patterning region is formed by applying a triazine compound on a substrate and then irradiating a desired region in the substrate, where the triazine compound is applied, with ultraviolet rays, and a film of an inorganic nanoparticle is formed in the desired region by immersing the substrate in an inorganic nanoparticle dispersion so that the inorganic nanoparticle is bonded to the patterning region.
基板にトリアジン系化合物を付着させ、前記トリアジン系化合物を付着させた前記基板の所望領域に紫外線を照射することでパターニング領域を形成し、前記基板を無機ナノ粒子分散液に浸漬して前記パターニング領域に無機ナノ粒子を接着させることにより、所望領域に無機ナノ粒子の皮膜を形成することを特徴とする皮膜のパターン形成方法。 - 特許庁 - The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.
同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第１のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第２のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁 - An inserted electrode layer on a piezoelectric material plate 12 is formed and patterning the result is conducted repetitively, and the inserted electrode layer is inserted to a boundary face of the piezoelectric material plates so as to form a laminator consisting of layers of a prescribed number.
圧電材料板１２の上に介挿電極層を形成し、パターニングする操作を繰り返し行ない、圧電材料板の界面に介挿電極層が介挿され、所定の段数に積層された積層体を形成する。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which metal elements composing an anti-diffusion layer are prevented from diffusing into other layer by forming a more compact anti-diffusion layer exhibiting good adhesiveness, and to provide an electronic device and an electronic apparatus.
より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、薄膜トランジスタ、及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a TFT array substrate in which a process is simplified by directly exposing and patterning a protective film without using a photoresist, and the unit price of the process is reduced, and also to provide its manufacturing method.
フォトレジストを用いることなく保護膜を直接露光及びパターニングすることによって工程を簡素化し工程単価を節減することができるＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which metal elements composing an anti-diffusion layer are prevented from diffusing into other layer by forming a more compact anti-diffusion layer exhibiting good adhesiveness, and to provide an electronic device and an electronic apparatus.
より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、電子デバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - To improve accuracy in printing position of an alignment film (patterning) and to improve uniformity in the thickness thereof in a liquid crystal display device in which the alignment film is printed by an alignment film printing system which is noncontact with respect to a substrate.
基板に対して非接触な配向膜印刷方式によって配向膜を印刷する液晶表示装置における、配向膜の印刷位置（パターニング）精度を良くし、さらにその膜厚の均一性を向上させる。 - 特許庁 - To provide a spatial light modulator including an array of elements which are independently controlled, which is used as a patterning means for a lithographic projection device and has a high data transmission speed necessary for address designation of pixels and a compact configuration.
リソグラフィ投影装置にパターニング手段として使える、個々に制御可能な素子のアレイを含む光空間変調器を画素のアドレス指定に要するデータ転送速度が速く、コンパクトな構成で提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a transparent electrically conductive tin oxide film by which a high definition transparent electrically conductive tin oxide film can easily be formed in a state free of pinholes and microcracks without requiring a great capital investment.
大きな設備投資を必要とせず、容易に高精細の透明導電性酸化スズ膜をピンホールやマイクロクラッが生じない状態で形成できる透明導電性酸化スズ膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - After patterning on a rib material layer 12 formed on a substratell, a blast mask ink that permeates into the rib material layer 12 and its blast rate of permeated portion 13 is designed to be around 0-0.8 times the rib material layer is applied.
基板１１上に形成したリブ材料層１２の上にパターニングした後、リブ材料層１２に浸透し、その浸透部分１３のブラストレートがリブ材料層の０〜０．８倍の範囲となるブラストマスクインキを使用する。 - 特許庁 - This liquid crystal display device is provided with many columnar spacer projections 11 which are uniform in projection sizes and distributions by coating application of a resin and patterning on a single and smooth dye accepting layer 12 formed on a transparent insulating substrate 10.
透明絶縁基板１０上に形成された単一の平滑な染料受容層１２の上に、樹脂の塗布及びパターニングによって、突出寸法及び分布の均一な多数の柱状スペーサ突起１１を設ける。 - 特許庁 - This double patterning system provides a means for forming a hard mask feature with a feature interval less than a minimum interval with which the hard mask can be printed according to a single exposure, by of a single hard mask etching process.
この二重パターニングシステムは、単一露光に基づいてハードマスクにプリント可能な最小間隔よりも小さいフィーチャ間隔で、１回のハードマスクエッチング工程においてハードマスクフィーチャを形成する手段を提供する。 - 特許庁 - To reduce subtrenches at the time of fine patterning by applying a sine wave bias subjected to amplitude modulation by a saw-tooth wave to a sample setting electrode.
処理試料設置電極にバイアスを印加をするドライエッチング方法及び装置において、微細パターン形成時に発生するサブトレンチを低減もしくは無くする改良されたドライエッチング方法及びドライエッチング装置を実現すること。 - 特許庁 - The clamp is constructed so that the temperature control unit is isolated from the support by a flexible connector to assure that the vibration, contraction and expansion of the temperature control unit do not affect the patterning device and/or the substrate.
クランプは、温度制御部分の振動、収縮及び膨張がパターニングデバイス及び／又は基板に影響しないように、可撓性コネクタで支持部分から温度制御部分を機械的に隔離するように構築される。 - 特許庁 - An auxiliary capacitor CSC is composed of an active layer 42 of a TFT, a silicon thin film 43 as a common layer, an auxiliary capacitance line formed by patterning a 1st metallic layer 46 laminated across a gate insulating film 44.
ＴＦＴの能動層４２と共通層であるシリコン薄膜４３とゲート絶縁膜４４を介して積層された第１金属層４６をパターン化した補助容量ラインとにより補助容量ＣＳＣを構成する。 - 特許庁 - To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.
ＬＬＥによるダブルパターニングの２回目の現像処理において、２回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、１回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁
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