「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 51 52 53 54 55 56 57 58 59 .... 78 79 次へ＞- The spot grid is attained by using a patterning device 204 which turns the patterned beam on a micro lens array 240 in which a spot is formed by Fourier transform of the beam patterned in the substrate.
これは、基板でパターン形成されたビームのフーリエ変換されたスポットを形成するマイクロレンズ・アレイ２４０上に、パターン形成されたビームを向けるパターン形成デバイス２０４を使用することによって達成される。 - 特許庁 - An increase in the number of processes required for manufacturing a second gate electrode is reduced by forming a gate electrode to be provided at the upper part of an oxide semiconductor layer simultaneously when patterning the oxide semiconductor takes place.
酸化物半導体層の上方に設けるゲート電極を形成するとき、酸化物半導体層のパターニングと同時に形成することで、第２のゲート電極の作製に要するプロセス数の増加を削減する。 - 特許庁 - The mask patterns of the photomask used in patterning wiring patterns by the photolithography process step are subjected to correction of the mask patterns by dividing the photomask to ≥2 regions and determining correction parameters by each of the respective regions.
フォトリソグラフィ工程により配線パターンをパターニングする際に使用するフォトマスクのマスクパターンについては、フォトマスクを２以上の領域に分割し、各領域毎に補正パラメータを求めてマスクパターンの補正を行う。 - 特許庁 - Scanning part of a laser beam is determined such that at least part obtained by patterning can be crystallized and then the semiconductor film is crystallized partially by projecting the beam spot to the scanned part.
そして、少なくともパターニングすることで得られる部分を結晶化することができるようにレーザー光の走査部分を定め、該走査部分にビームスポットがあたるようにし、半導体膜を部分的に結晶化する。 - 特許庁 - To ensure the high accuracy of patterning a solar battery substrate and largely improve conversion efficiency of a solar battery element even in machining a wavy solar battery substrate or a curved substrate.
「うねり」のある太陽電池基板、または曲面状の太陽電池基板を加工する場合であっても、高い精度でパターン加工することができ、太陽電池素子の変換効率を大きく向上させることができる。 - 特許庁 - The resin composition for producing the artificial marble is obtained by blending a thermosetting resin, a filler, a patterning material, an inner releasing agent, a curing agent or the like, and in the composition, melamine cyanurate is added and blended.
熱硬化性樹脂と、充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合した人造大理石製造用の樹脂組成物であって、この樹脂組成物中にメラミンシアヌレートを添加配合する。 - 特許庁 - Then, after thermal processing is performed as required, resist coating, patterning, etching and the like are performed, a dopant dispersion region 10 is formed by ion implantation or the like to form the semiconductor device of MOS structure.
その後、必要に応じて熱処理を施した後、レジスト塗布、パターニング、エッチング等を行い、さらにイオン注入等によって不純物拡散領域１０を形成し、ＭＯＳ構造の半導体装置を形成する。 - 特許庁 - To suppress sufficiently the bleedout of an impurity of a cyclic dimethylsiloxane oligomer from the thin protection layer which is obtained by film-forming a photosensitive siloxane polyimide resin composition on a printed wiring board and by patterning and curing.
感光性シロキサンポリイミド樹脂組成物をプリント配線板上に成膜し、パターニングし、硬化させて得た薄い保護層から、不純物である環状ジメチルシロキサンオリゴマーがブリードアウトすることを十分に抑制できるようにする。 - 特許庁 - At this moment, the planarization process is performed until the top electrode of the capacitor is exposed, then a conduction film for plate electrode is formed and a plate line directly contacting to the upper electrode is formed by patterning.
この際、平坦化工程はキャパシタ上部電極が露出される時まで実施され、その後、プレート電極用導電膜を形成し、パターニングして上部電極に直接接触するプレートラインを形成する。 - 特許庁 - Thin film dielectric layers 6 are arranged on top of parts of ground patterns 5 of a coplanar waveguide by selectively performing patterning and plural island metal patterns 7 are arranged on the thin film dielectric layers 6 at fixed intervals.
コプラナ・ウェーブガイドのグラウンドパターン５の一部の上部に薄膜誘電体層６を選択的にパターニングして配置し、この薄膜誘電体層６の上に島状メタルパターン７を一定間隔で複数個配置する。 - 特許庁 - To provide a highly reliable wiring board whose opening shape is proper in patterning of solder resist of the wiring board having a plurality of conductor circuits in a resin insulating layer, and to provide a manufacturing method of the wiring board for improving productivity by a reel-to-reel method.
樹脂絶縁層に複数の導体回路を有する配線基板のソルダーレジストのパターニングにおいて、開口形状が良好であり、かつ信頼性の高い配線基板を提供するところにある。 - 特許庁 - To provide a simple processing method for patterning a chopstick, having excellent designability due to a synergistic effect of a combined pattern using a plurality of tubular films to which a pattern is applied and a pattern layer being a base.
模様が施された複数のチューブ状フィルムと下地である模様層とを使った組み合わせ模様による相乗効果により、優れた意匠性を有する箸の簡単な模様付け加工方法を提供する。 - 特許庁 - The illumination system comprises a field defining element arranged to define an illuminating field in the plane of the patterning device or in a plane conjugate to it, the field being off-axis with respect to the optical axis of the illuminating system.
この照明システムがこのパターニング装置の平面にまたはそれと共役な平面に、この照明システムの光軸に関して軸外れである照明フィールドを形成するように構成したフィールド形成素子を含む。 - 特許庁 - Since a material, having a low adhesive property to particles, is used for forming the protective film 6 the adhesion of the particles to, particularly, the opening 5 of the mask pattern can be suppressed and the accuracy of the patterning can be improved.
保護膜６の材料としてパーティクルとの密着性の低い材料を用いることにより、特にマスクパターンの開孔５へのパーティクルの付着を抑えることができ、パターニング精度を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide an image display device manufactured by multiple patterning which can prevent infiltration of moisture, oxygen, etc. into a thin-film transistor (TFT) layer from a cut surface, and to provide a manufacturing method of the image display device.
多面取りで製造される画像表示装置の切断面からの水分や酸素等のＴＦＴ層への侵入を防止することが可能な画像表示装置及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁 - To enable a conventional vessel, which does not have vacuum adaptation to be used for a conveying vessel conveyed by accommodating a patterning means (mask or the like), which should be replaced in lithographic projection equipment, used in vacuum environment so that it is not contaminated with particles.
リソグラフィ投影装置で交換すべき、真空環境で使うパターニング手段（マスク等）を入れて粒子汚染されないように運ぶ搬送容器に従来の真空適合性のない容器を使えるようにすること。 - 特許庁 - To provide a new pattern forming method that can reduce the number of steps in a double patterning method, and to provide a material for forming a metal oxide film suitably used for the pattern forming method, and a use method of the material.
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、該パターン形成方法に好適に用いられる金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法を提供する。 - 特許庁 - Then, the substrates 14A, 14B are removed with an etching liquid, and patterning of the laminate 60 is executed, in a state where the laminate 60 is held by a Si single-crystal substrate 14C prepared differently.
そして、Ｓｉ単結晶基板１４Ａ，１４Ｂをエッチング液によって除去し、別途用意したＳｉ単結晶基板１４Ｃによって積層体６０が保持された状態で、積層体６０のパターニングをおこなう。 - 特許庁 - To provide a method for forming a microparticle-adsorbed pattern whereby functional microparticles can be tightly adsorbed on an arbitrarily selected region irrespectively of its area, and a functional patterning material having a wide scope of application can be obtained.
面積に係わらず、選択的な任意の領域に機能性微粒子を強固に吸着させることができ、応用範囲の広い機能性パターン材料を得られる微粒子吸着パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The probes to be used for detecting an objective substance of test are trapped on fine particles 3 in advance, and the fine particles 3 are fixed in every section 2 formed in a lattice state on a substrate 1 by using a surface-chemical patterning method.
検査対象物質の検出に用いるプローブを予め微粒子３に捕捉し，微粒子を基板１の上に表面化学的なパターニング方法を用いて格子状に形成される各区画２に固定する。 - 特許庁 - The abnormality inhibiting film is formed on the silicon surface, an abnormal-growth inhibiting film as the abnormality inhibiting film is further removed, as required; and a treatment, such as a patterning to the silicon film and formation of an insulating oxide film is conducted.
シリコン表面に異常抑制膜を形成した上で、必要に応じて、異常抑制膜としての例えば異常成長抑制膜を除去して、シリコン膜へのパターニングや絶縁酸化膜形成等の処理を行う。 - 特許庁 - To provide a thin-film patterning method for obtaining narrower isolated trench width, without having to depend on the formation technique of a resist pattern, manufacturing method of a thin-film device, and to provide a manufacturing method of a thin-film magnetic head.
レジストパターンの形成技術に依存することなく、より狭い孤立トレンチ幅を得ることができる薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor chip package substrate includes a core layer 30, an electrically conductive structure 32 installed on the surface of the core layer, and an insulating layer 34 that coats the electrically conductive structure and has at least one patterning opening 36.
半導体チップパッケージ基板は、コア層３０と、コア層表面上に設置される導電構造３２、及び、導電構造上を被覆し、少なくとも一つのパターン化開口３６を有する絶縁層３４と、からなる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin film transistor where it is not necessary to execute a plurality of photo-lithograph processes, and it realizes increase in the margin of patterning in a process for forming the gate electrode of a linewidth area whose microfabrication is progressed.
微細化が進んだ線幅領域のゲート電極の形成工程において、複数回のフォトリソグラフ工程が不要であり、パターニングのマージンを拡大できる薄膜トランジスタの作製方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a display device, which attains a high yield with a simple process, a liquid crystal display device and a method for patterning a metal film, with which corrosive reduction of a base transparent conductive film is prevented.
簡易な工程により、高歩留りを実現する表示装置の製造方法、液晶表示装置並びに下地の透明導電膜の腐食還元を防止することができる金属膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - In a substrate forming method, a layer of a radiation sensitive material is arranged on a substrate surface, and is exposed by a patterning device (a lithography device) having a calibration pattern including a first set of pattern features and a second set of pattern features.
基板形成方法は放射感応性材料の層を基板表面に設け、第一セットのパターンフィーチャ及び第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンをもつパターンニングデバイス（リソグラフィ装置）により露光する。 - 特許庁 - An opening part 3 is provided along the diagonal direction of the mask 1 on the outside of the patterning part 2 of the mask 1, and tensile force is applied in the diagonal direction, in addition to the longitudinal direction and the lateral direction, to fix the mask to the fixed frame 4.
マスク１のパターニング部２の外側に、マスク１の対角方向に沿って開口部３を設け、縦方向、横方向に加えて対角方向にも張力をかけて固定枠４にマスク１を固定する。 - 特許庁 - This method has a process of forming an insulating layer on a base on which bumps for interlayer connection are formed, a process of sandwiching the base with stainless plates to thermocompression-bond a copper foil onto the insulating layer, and a process of patterning the copper foil.
層間接続のためのバンプが形成された基材上に絶縁層を形成する工程と、ステンレス板で挟み込み絶縁層上に銅箔を熱圧着する工程と、銅箔をパターニングする工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a patterning method capable of accurately processing a processing object layer even when the processing object layer is formed by containing a material unsuitable for a wet process or a material having a large amount of etching shift.
被加工層がウエットプロセスに適さない材料、またはエッチングシフト量の多い材料を含んで構成されている場合であっても、高精度に被加工層を加工することを可能とするパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - Then, surface treatment for modifying the lyophobic property against the conductive paste 12 into lyophilic property is applied to a predetermined region 18 of the substrate surface 10a along the pattern forming elements 14 of the patterning member 16.
次に、基板表面１０ａの所定領域１８に、パターニング部材１６のパターン形成要素１４に沿って、導電性ペースト１２に対する疎液性を親液性に改質する表面処理を施す。 - 特許庁 - A method of using photoresist-type material, not only as a usual patterning material but also as an insulator interposed between magnetic layers or conductive layers and/or a planar material and including the formation of a multilayered element, is provided.
フォトレジスト型材料が、従来のパターニング材料としてだけではなく、磁気層間または導電層間の絶縁および／またはプレーナ化材料としても使用される、多層素子の形成を含む方法が提供される。 - 特許庁 - After having formed a first insulating film 101 consisting of an inorganic low dielectric constant film on a silicon substrate 100, by patterning the first insulating film 101, the first insulating film 101 remains in the first region.
シリコン基板１００の上に無機の低誘電率膜からなる第１の絶縁膜１０１を形成した後、第１の絶縁膜１０１をパターニングして、第１の絶縁膜１０１を第１の領域に残存させる。 - 特許庁 - To form a nano-structure layer through a mask comprising a block copolymer finely patterned in a temperature atmosphere lower than the glass transition temperature of a workpiece, and to contribute to the fine patterning technique field.
加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて微細パターン化されたブロック共重合体から成るマスクを介してナノ構造層を形成することができ、微細パターン化技術分野に貢献する。 - 特許庁 - The optical system is configured to direct EUV light from an inspection area of an EUV patterning device onto the array of sensors, whereby the analog data are used to determine defects or to compensate for anomalies found on the EUV mask.
光学システムは、ＥＵＶパターニングデバイスの検査エリアからのＥＵＶ光をセンサのアレイに誘導し、アナログデータはＥＵＶマスク上で発見される欠陥を判定し、または異常を補償するために使用される。 - 特許庁 - Then, patterning is applied to the first conductive silicon film 30 with dry etching based on a resist mask R1 to form a horizontal CCD-CCD transfer electrode 12 having an inclined side face 12a (Fig.2(b)).
次いで、第１の導電性シリコン膜３０をレジストマスクＲ１に基づいたドライエッチングによりパターニングすることにより、傾斜した側面１２ａを有する水平ＣＣＤ間転送電極１２を形成する（図２（ｂ））。 - 特許庁 - Also, a bit line 15 provided on the top electrode 17 has the etching surface 15c formed by patterning, and an etching surface 15c of the bit line 15 contacts the film formation initiating surface 17a of the top electrode 17.
また、上部電極１７に接続されたビット線１５は、パターニングにより形成されたエッチング面１５ｃを有しており、ビット線１５のエッチング面１５ｃと、上部電極１７の成膜開始面１７ａとが接している。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a color filter using a negative type photosensitive composition containing colorants for the color filter, the method for manufacturing the color filter realizing satisfactory patterning and having high hardenability resulting in reduced change in film thickness and dispersion.
カラーフィルター用の着色剤を含有するネガ型感光組成物を用いた、パターニングが良好で、かつ高い硬化性により膜厚変化や分光変化を低減したカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A reducing agent 54 is discharged for patterning by the ink jet method in a groove between partitions 50a and 50b of a glass substrate 50 formed by sandblasting method, that is, a desired region where an electrode is formed (Fig.d).
サンドブラスト法等により形成されたガラス基板５０の隔壁５０ａ，５０ａ間の溝内、すなわち電極を形成すべき所望の領域に、インクジェット法で還元剤５４を吐出してパターニングする（図１（ｄ））。 - 特許庁 - To provide a resin which is suitable for applications such as a color filter, a black matrix or a spacer and excellent in dispersion stability of an inorganic substance, and provides a flexible and tough cured film, and with which superior patterning properties are obtained, and to provide a resin composition.
カラーフィルター、ブラックマトリクス、スペーサー等の用途に適し、無機物の分散安定性に優れ、硬化膜が柔軟かつ強靭であり、優れたパターニング特性が得られる樹脂及び樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - As shown in Fig. (c), a patterning film 15 having an opening 15a facing opposite a region is formed, where a metal wiring 12 is to be formed on a silicon wafer 11 in which a barrier metal 13 and a seed film 14 are stacked.
図１(c) に示すように、バリアメタル膜１３およびシード膜１４が積層されたシリコン基板１１上に、金属配線１２を形成すべき領域に対向した開口１５ａを有するパターニング膜１５を形成する。 - 特許庁 - The patterning of a phosphor is carried out on a glass substrate instead of a slit for detecting the rays of light from a reference pattern on a mask, and visible lights emitted by the phosphor are measured by a photo-diode through the glass substrate.
マスク上の基準パターンからの光を検出するためのスリットの代わりに、ガラス基板上に蛍光体をパターニングし、蛍光体が発光する可視光を、ガラス基板を通してフォトダイオードで測定する。 - 特許庁 - In a process to make a patterning of a transparent electrode 12 on a transparent substrate 11, an alignment mark 13 used for positioning of a shadow mask 14 and the transparent substrate 11 on the transparent substrate 11 is formed of an identical material as the transparent electrode 12.
透明基板11上に透明電極12をパターニングする工程において、透明基板11にシャドーマスク14と透明基板11との位置決めに使用するアライメントマーク13を透明電極12と同一の材料で形成する。 - 特許庁 - A seal patterning device 11 applies a frame-shaped first seal material on a first substrate W1 and a liquid crystal dropping device 12 drops liquid crystal on the first substrate W1 and inside the frame-shaped first seal material.
シールパターニング装置１１は第１の基板Ｗ１上に枠状の第１シール材を塗布し、液晶滴下装置１２は第１の基板Ｗ１上であって枠状の第１シール材の内側に液晶を滴下する。 - 特許庁 - To provide an aligner which can control a patterning dimension of a layered substrate having a plurality of layers formed on a substrate by exposure to be within a specified range, and to provide a method for manufacturing a layered substrate.
基板上に複数の層が露光処理によって形成されてなる積層基板のパターニング寸法を、所定の範囲内に調整できる露光装置、および、上記積層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A TiN film 4, a W film 3, and a SiN film 2, which has different etching characteristic from that of an interlayer insulating film 9 covering the W film 3 to which patterning has been performed, are sequentially deposited on a semiconductor wafer.
半導体ウエハ上にＴｉＮ膜４、Ｗ膜３、および、パターニングされた後のＷ膜３を覆う層間絶縁膜９のエッチング特性と異なるエッチング特性を有するＳｉＮ膜２を順次積層する。 - 特許庁 - To provide a reflectively backed photosensitive element which reduces small defects, enhances production yield in patterning process and in subsequent process of the reflectively backed photosensitive resin layer, and improves reliability of parts.
微小欠陥を低減させ、反射下地感光性樹脂層のパターニング工程やその後工程での製造歩留りを向上させ、部品の信頼性を向上することができる反射下地感光性エレメントを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a film pattern on a substrate in which a thin film of fine and thin line can be formed conveniently while preventing or suppressing aggregation of patterning material particles.
基板上に膜パターンを形成するに際し、薄膜で、微細且つ細線な膜を簡便に形成することが可能で、パターン形成用の材料粒子の凝集を防止ないし抑制することが可能な方法を提供する。 - 特許庁 - The laminated patterns 3 of the eaves structure are obtd. by executing patterning by the process of preventing the contact of the substrate surface with the water or the aq. soln. after successively depositing a lower layer resist 2 and an upper layer resist 4 on the substrate 1 having the large ruggedness.
凹凸の大きい基板１に下層レジスト２、上層レジスト４を順次成膜した後、基板表面が水あるいは水溶液に接触しないプロセスによりパターニングして庇構造の積層パターン３を得る。 - 特許庁 - The light-shielding film 3 is made of a material, having conductivity of such a degree that charge-up phenomenon is not induced when patterning the resist film 4 by electron beam drawing, and the film is formed to cover the exposed portion 5 and the phase shift film 2.
遮光膜３は、レジスト膜４を電子線描画しパターニングする際にチャージアップしない程度に導電性を有する材料であり、露出部５及び位相シフト膜２を覆うように形成されている。 - 特許庁 - In order to provide the gas sensor having a gas channel formed in a space between the silicon substrate 2 and a glass substrate 1, the upper surface of the substrate 2 is etched, an insulating layer 5 is formed, and the electrode 4 is provided by electrode-patterning.
シリコン基板２とガラス基板１との間の空間にガス流路を形成しガスセンサを設けるために、シリコン基板２上面をエッチングして絶縁層５を形成し、電極パターニングによって電極４を設ける。 - 特許庁
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