「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 53 54 55 56 57 58 59 60 61 .... 78 79 次へ＞- To provide an Ag alloy film for electronic parts which combinedly has low electric resistance, heat resistance, corrosion resistance, and adhesion and patterning properties for a substrate, and to provide a sputtering target for forming the Ag alloy film for electronic parts.
低い電気抵抗と耐熱性、耐食性、そして基板への密着性およびパタニング性を兼ね備えた電子部品用Ａｇ合金膜とその電子部品用Ａｇ合金膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁 - The thickness of a ruthenium film or an osmium film is enough in the degree of one by ten compared with a case wherein a silicon oxide film is employed as the etching mask of platinum or iridium while the aspect ratio of a patterning mask on platinum becomes a low value in the range of 1-2.
白金やイリジウムのエッチングマスクにシリコン酸化膜を採用する場合に比べて、ルテニウム膜やオスミウム膜の膜厚はその１０分の１程度で済み、白金上のパターニングマスクのアスペクト比が１〜２程度の低い値となる。 - 特許庁 - The waffle structure and patterning provide the conventional advantage, such as the high clearness and high throughput of embossing and lifting-off technique, and conquers the conventional restriction that the maximum size is limited in the embossing and lifting-off technique.
このワッフル構造、パターニングは、エンボス加工およびリフトオフ技法の高鮮明度および高スループットという従来からの利点を提供し、エンボスおよびリフトオフ技法について最大サイズが制限されるという従来からの制約を克服する。 - 特許庁 - The force actuator device comprises an actuator for at least partially compensating the information or risk of sliding due to acceleration of the supporting object in the movement direction, and further for exerting a force upon the patterning device via the movable part.
力アクチュエータデバイスは、移動方向における支持体の加速による滑りの情報または危険性を少なくとも部分的に補償するために、さらに可動部分を介してパターニングデバイス上に力を及ぼすためのアクチュエータを含む。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an optical element materializing a liquid crystal phase region which applies a desired phase difference in a retardation control layer, with high resolution, and to provide an optical element having high patterning quality obtained by the method.
位相差制御層において所望の位相差を付与する液晶相領域を高解像度で実現することのできる光学素子を製造する方法、およびこれにより得られる高いパターニング品質の光学素子を提供する - 特許庁 - The communication basic library has a telegram conversion pattern obtained by patterning processes at the caller side terminal with time and the response side terminal with respect to the communication of a telegram, the number of the telegram conversion pattern, and a command identifier.
通信基本ライブラリは、電文の通信に関する呼出側の端末及び応答側の端末の時間経過に伴う処理をパターン化した電文交換パターン、当該電文交換パターンの番号及びコマンド識別子有している。 - 特許庁 - In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.
パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁 - When a user takes a predetermined motion while the camera part of the mobile communication terminal equipment is active, the mobile communication terminal equipment recognizes the motion of the user, and performs a predetermined action according to a motion pattern by patterning the motion.
移動通信端末機のカメラ部をアクティブにした状態において、ユーザーが所定のモーションを取ると、移動通信端末機は、ユーザーのモーションを認識し、そのモーションをパターン化してモーションパターンに応じる所定の動作を行う。 - 特許庁 - This connector 1 has wiring parts 11 composed by transferring a wiring part-use metal thin film formed on a transferring plate through a metal film together with the metal film by means of thermocompression bonding, and electrodes 12, 21 formed by patterning a metal film.
コネクターは、転写板に金属膜を介して形成された配線部用金属薄層が金属膜と共に熱圧着により転写されて形成された配線部と、金属膜がパターニングされて形成された電極とを有する。 - 特許庁 - Phosphorus ions are implanted to a first conductive film formed on the diffusion layer on a substrate, and a damaged layer is formed on the surface part, and then patterning is performed with a resist film formed thereon as a mask, thereby forming a first conductive film 9B.
基板上の拡散層上に形成した第１導電膜にリンイオンを注入して、その表面部にダメージ層を形成した後、その上に形成したレジスト膜をマスクにしてパターニングして第１導電膜９Ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide a display, in which even when pitch between wiring are made small by high definition, the prescribed area of a terminal connected to an IC driver can be secured, patterning of wiring can be performed, and improvement in short margin is aimed at.
高精細化によって配線間のピッチが小さくなった場合であっても、ＩＣドライバと接続する端子の所定の面積が確保でき、配線のパターニングを可能とし、ショートマージンの向上を図った表示装置の提供。 - 特許庁 - To provide an NiCu alloy target material for a Cu electrode protective film which can suppress deterioration in the electrical characteristics caused by electrolytic corrosion and atomic diffusion of a Cu electrode, and can achieve patterning with high precision by wet etching.
Ｃｕ電極の電解腐食や原子拡散による電気的特性の劣化を抑制することができ、ウェットエッチングにより高精度のパターニングが可能なＣｕ電極保護膜用ＮｉＣｕ合金ターゲット材を提供すること。 - 特許庁 - To provide a technology of preparing a mentoring scenario and automatically performing appropriate mentoring to each participant by collecting, classifying and arranging the mentoring of a mentor in a system for patterning the mentorship of e-learning as a scenario and performing automatic mentoring.
eラーニングの指導をシナリオとしてパターン化し自動指導を行うシステムにおいて、指導者のメンタリングを収集し分類整理することで、メンタリングシナリオを作成し、自動的に個々の受講者に適切なメンタリングを行う技術の提供。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for preventing the deformation of a pattern in an STI region patterning process concerning a nonvolatile semiconductor integrated circuit device with a configuration where a plurality of transistor cells having a common gate are arranged like an array.
共通ゲートを有する複数のトランジスタセルをアレー状に配置する構成を持つ不揮発性半導体集積回路装置において、ＳＴＩ領域のパターニング工程でのパターンの変形を防ぐ製造方法を提供する。 - 特許庁 - A mask blank 10 is produced by forming a thin film 2 for patterning, comprising a material containing at least one of metal and silicon, on a light-transmitting substrate 1 by a sputtering method using a sputtering film-forming device.
透光性基板１上に金属及びケイ素のうち少なくともいずれかを含有する材料からなるパターン形成用薄膜２をスパッタ成膜装置を用いてスパッタリング法で形成することによりマスクブランク１０を製造する。 - 特許庁 - A plate-like member 3 is stuck on a support base board 1 via an adhesive layer 2, and plural cross-sectional pattern members 31, 32 and 33 are collectively formed by performing patterning up to penetrating through the plate-like member 3 by using a photolithography method.
支持基板１上に接着層２を介して板状部材３を貼り付け、フォトリソグラフィー法を用いて板状部材３を貫通するまでパターニングして複数の断面パターン部材３１，３２，３３を一括して形成する。 - 特許庁 - The data manipulation device generates a control signal comprising spot exposure intensities to be generated by the patterning device, based on a direct algebraic least-squares fit of the spot exposure intensities to the frequency-clipped target dose pattern.
データ操作装置は、周波数クリッピング目標線量パターンへのスポット露光強度の直接代数的最小二乗当てはめに基づいて、パターン形成装置により生成されるスポット露光強度を含む制御信号を発生する。 - 特許庁 - An interlayer insulating film 3, a contact part 2, an counter- silicon diffused conductive layer 4, and a lower electrode layer 5 of Ru film are formed on a silicon substrate 1, and a hard mask layer 7 of SiO2, that is subjected to patterning, is formed on it using a photoresist 8.
シリコン基板１上に、層間絶縁膜３、コンタクト部２、対シリコン拡散導電層４、Ｒｕ膜の下部電極層５を形成し、この上に、フォトレジスト８を用いてパターンニングしたＳｉＯ_2 のハードマスク層７を形成する。 - 特許庁 - The transparent conductive film 1 includes the conductive surface 5 on the upper surface of the transparent conductive layer 4 and the insulated surface 6 on the upper surface of the insulating color difference adjusting layer 3 that are formed by patterning the transparent conductive layer 4.
透明導電性フィルム１は、透明導電層４をパターニングすることにより形成されている透明導電層４の上面の導電面５と絶縁色差調整層３の上面の絶縁面６と、を具備している。 - 特許庁 - To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.
露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron emission element which, while maintaining such an effect as lowering of a threshold voltage due to a patterning of a carbon group material and an electric field strength, has a high mechanical strength and stability, and provide its manufacturing method.
炭素系材料をパターニングすることによる闘電圧の低下や電界強度の増加といった効果を維持しつつ、機械的強度が高い、安定した電子放出素子及びその製法を提供することを解決課題とする。 - 特許庁 - The plurality of the holes 6a are arrayed on a substantially straight line along the tape width, and are disposed downward under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at the copper wiring pattern layer forming time from the copper layer 1 or are disposed in the lower vicinity region.
穴６ａは、テープ幅に沿った略直線上に複数配列し、銅層１からの銅配線パターン層形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁 - This matter has such a merit that the thickness of the second conductor layer is kept the same as before formation of the via hole even after formation of the via hole 17a, and a fine wiring layer in high density can be made during patterning of the second conductor layer.
このことは、バイアホール１７ａ形成後も第２導体層の厚みはバイアホール形成前の厚みが維持され、第２導体層をパターニング処理する際、微細な高密度の配線層を形成できるという利点を有する。 - 特許庁 - A first mask 31 is then arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 33 and 34 match the cut 22, and lithographic patterning is carried out on the front surface 21a of the glass substrate 21 according to a first mask pattern 32.
次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁 - Furthermore, since a plurality of the island-shaped patterns can be formed at the same time of wiring, the relief structure can be formed without especially increasing patterning processes only for forming the relief structure in a manufacturing process.
さらに、複数の島状のパターンは、配線と同時に形成することができるので製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method for forming an optical waveguide which includes a core having various shapes such as a branch by only a simple step of irradiation with light or the like while eliminating a step of patterning a core by development.
現像によるコア部のパターニング工程を含まずに、光の照射等の簡易な工程のみによって、分岐状等の種々の形状を有するコア部を含む光導波路を形成することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.
本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Subsequently, a non-magnetic layer 8 and a lower magnetic pole 9 are selectively formed by polishing the entire body by a CMP method until at least the frame pattern 50 is exposed and patterning the precursory non- magnetic layer and the precursory lower magnetic pole layer.
続いて、ＣＭＰ法によって少なくともフレームパターン５０が露出するまで全体を研磨し、前駆非磁性層および前駆下部磁極層をパターニングすることにより、非磁性層８および下部磁極９を選択的に形成する。 - 特許庁 - The anti-falsifying medium obtained by laminating a plurality of layers on the support 11 contains an undercoat layer 13 and at least one optically anisotropic patterning layer 12 containing two or more areas having birefringences different from one another.
支持体１１上に複数の層を積層してなる偽造防止媒体であって、下塗り層１３と、複屈折性が異なる領域を二つ以上含む少なくとも一層のパターニング光学異方性層１２とを含む偽造防止媒体。 - 特許庁 - The method of forming a planar CMOS transistor divides the step of forming the gate layer into a first step of patterning a resist layer with a first portion of the gate layer pattern and then etching the polysilicon with the pattern of the gates.
プレーナＣＭＯＳトランジスタを形成する方法は、ゲート層を形成する工程を、ゲート層パターンの第一の部分でレジスト層をパターン形成し、次にゲートのパターンで多結晶シリコンをエッチングする第一の工程に分割する。 - 特許庁 - A detection system for detecting particle contamination in a lithographic apparatus includes an illumination system that directs a radiation beam onto a section of a surface of a patterning device to generate at least first and second components of patterned radiation.
リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。 - 特許庁 - After forming a gate insulating film 12a on a semiconductor substrate 10, a gate electrode 14a, and an interlayer insulating film 16a are formed by depositing a polysilicon layer, thermal oxidation, etching the shoulder of an oxide film, and patterning a gate.
半導体基板１０の表面にゲート絶縁膜１２ａを形成した後、ポリシリコン層の堆積、熱酸化、酸化膜の肩部エッチング、ゲートパターニングの処理によりゲート電極層１４ａ及び層間絶縁膜１６ａを形成する。 - 特許庁 - In forming an oxidized film on the surface of the Al film and patterning an ITO film, the erosion of the Al film is prevented and the Al oxidized film/the ITO film exhibit the function as antireflection films in the pixel electrodes 66.
また、Ａｌ膜の表面に酸化膜を形成しておき、ＩＴＯ膜をパターニングする際、Ａｌ膜が侵されるのを防止し、かつ、画素電極６６では、Ａｌ酸化膜／ＩＴＯ膜が反射防止膜としての機能を発揮させる。 - 特許庁 - By continuously patterning the second composite nano-crystalline layer 6, the semiconductor layer 3b, and the conductive layer 12a, a pattern of a drift part 6, a polycrystalline silicon layer 3, and an lower electrode 12 is formed.
次に、第２の複合ナノ結晶層６ａおよび半導体層３ｂおよび導電性層１２ａを連続的にパターニングすることでドリフト部６および多結晶シリコン層３および下部電極１２をパターン形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁 - And then, a third impurity injection mask consisting of the gate electrode is formed by patterning the mask 35 again, and the n-type impurity is injected in low concentration with the third impurity injection mask used as a mask.
次に、第２の不純物注入マスク３５を再度パターニングしてゲート電極からなる第３の不純物注入マスクを形成し、この第３の不純物注入マスクをマスクとしてｎ型不純物を低濃度に注入する。 - 特許庁 - The patch body 2 is a circular cloth made of the blended yarn of cotton and polyester, knitted by circular knitting like a knitted fabric of the socks as a mending object, and fits patterning on a bowl-like solid shape of the tiptoe part of the socks.
パッチ体２は、補修対象である靴下の編地と同じ丸編みにより編成された綿とポリエステルの混紡糸からなる円形の布であり、靴下のつま先部分の椀状の立体形状に倣ってフィットする。 - 特許庁 - For patterning the transparent conductive film 2 formed on the transparent base material 1, visibility of pattern shape of the transparent conductive film 2 due to the difference of the refractive indices of the transparent conductive film 2 and the transparent base material 1 can be lowered.
透明基材１の表面に形成した透明導電膜２をパターニングするにあたって、透明導電膜２と透明基材１の屈折率の差による、透明導電膜２のパターン形状の視認性を低くすることができる。 - 特許庁 - To solve such a problem that when a transparent film is exposed, high-definition patterning cannot be performed since resist is exposed as exposure light becomes reflected light which locally varies in intensity owing to presence of electrode wiring, the groove of an exposure stage, etc., as a base.
透明膜を露光する際に、下地となる電極配線や露光ステージの溝等の存在により露光の光が局所的に強度が変動する反射光となってレジストを露光するため、高精細なパターニングができない。 - 特許庁 - In this way, etching of the silicon substrate 21 progresses in a direction parallel to the silicon oxide film 22 from the side surface of each of the through holes 23 and the through holes 23 communicate with each other, thereby patterning the silicon substrate 21 into a desired shape.
これにより、各貫通孔２３の側面からシリコン酸化膜２２と平行な方向にシリコン基板２１のエッチングが進行し、各貫通孔２３間が連通することにより、シリコン基板２１が所望の形状にパターニングされる。 - 特許庁 - To provide a laminate for forming a wiring substrate in which electric resistance is made low, patterning performance and moisture/heat resistance are made superior, to provide a method to form the wiring substrate by etching the laminate and to provide the wiring substrate.
低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ耐湿性・耐熱性の高い配線付き基体形成用の積層体、該積層体をエッチングして配線付き基体を形成する方法および得られた配線付き基板の提供。 - 特許庁 - The second transparent conductive film 152 is then formed on the substrate 101 with the TFT and patterning and etching are performed to the second transparent conductive film 152 so that parts corresponding to the color R and the color B remain.
次に、ＴＦＴ付き基板１０１上に第２の透明導電膜１５２が形成され、Ｒ色およびＢ色に対応する部分のみが残るよう第２の透明導電膜１５２にパターニングおよびエッチングが施される。 - 特許庁 - A pulse-like solid-state laser 13 of a small pulse width emitting infrared radiation is used for patterning the front-side electrode 3 made of zinc oxide and formed on a transparent electrically-insulating substrate 2 in manufacturing a photovoltaic module.
光起電モジュールの製造時に透明な電気絶縁性の基板２上に成膜された酸化亜鉛製の前側電極層３をパターン加工するために、赤外放射を発する短いパルス幅のパルス状固体レーザ１３が使用される。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.
樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To improve corrosion resistance of Al or an Al alloy without complicating a process for patterning a semiconductor layer and a layered metal film comprising a high melting point metal film and a low resistance metal film made of Al or an Al alloy.
半導体層及び高融点金属膜とＡｌまたはＡｌ合金からなる低抵抗金属膜との積層金属膜をパターン形成するに当たり、工程を複雑化することなく、ＡｌまたはＡｌ合金の耐腐食性を改善する。 - 特許庁 - To obtain a photosensitive polyimide precursor composition having good suitability to patterning, giving a cured film excellent in adhesion to a sealing resin and producible in a short producing step without carrying out the reprecipitation of a polymer and to obtain a method for producing the composition.
良好なパターン加工性を有し、硬化膜の封止樹脂との密着性に優れ、ポリマーの再沈を経由せずに、短い製造工程で製造可能な感光性ポリイミド前駆体組成物およびその製造方法を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a resin which is a thermocurable or radiation-curable functional epoxy resin having high level heat resistance, electrical properties and optical properties and low shrinkage when being cured, and excellent in dispersibility and patterning property.
熱硬化性あるいは放射線硬化性の機能性エポキシ樹脂であって、高いレベルでの耐熱性および電気特性、光学特性を有し、硬化時の収縮率が低く、分散性、パターニング性に優れた樹脂を提供する。 - 特許庁 - By using patterning sections corresponding to thin-film transistors and by using a mask corresponding to an aligning key in the amorphous silicon crystallizing process, only necessary parts are crystallized and a decrease is achieved in process time.
本発明では薄膜トランジスタに対応するパターン部とアラインキーに対応するマスクを利用して非晶質シリコンを結晶化することによって、必要な部分だけを結晶化できて工程時間を短縮させることができる。 - 特許庁 - To provide a mask for patterning an electro-conductive film, which prevents an occurrence of a display failure in a liquid crystal display in a low cost and superior productivity, by inhibiting an occurrence of a scratch on a substrate and preventing an exfoliation of a protection film.
低コストで生産性の優れた、基板へのキズの発生を抑制し、保護膜の剥離を防止することで、液晶表示装置の表示不良発生を防止することができる導電膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display panel whose manufacturing stages are simplified by performing patterning without a photolithography stage and whose manufacturing cost is reducible, and also provide a manufacturing method thereof.
本発明の目的は、フォトリソグラフィー工程を実施することなく、パターニングを行うことにより製造工程を単純化すると共に製造費用を節減し得る液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - The 1st connection point P1 is formed closer to the side of the stub 17 than the 2nd connection point P2 and a patch 14 is formed on the top surface of the dielectric resonator 11 by patterning a metal conductor in a specified shape.
第２の接続点Ｐ２よりも第１の接続点Ｐ１の方がスタブ１７側に形成されており、誘電体共振器１１の上面には、金属導体を所定形状にパターニングしたパッチ１４が形成されている。 - 特許庁
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