「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 49 50 51 52 53 54 55 56 57 .... 78 79 次へ＞- To provide an optical semiconductor device and a method of manufacturing the optical semiconductor device making it possible to precisely carry out a patterning in a manufacturing process of the optical semiconductor device having a light emitting device portion and a functional portion.
発光素子部と機能部とを有してなる光半導体素子の製造工程において、精密にパターニングすることを可能にする光半導体素子の製造方法および光半導体素子の提供を目的とする。 - 特許庁 - After patterning the resist 32 of an etching mask by applying a resist 30 around a substrate 10, the thickness of the substrate 10 is reduced by etching the rear surface 10b of the substrate 10 except the outer peripheral section of the surface 10b.
基板１０の周囲にレジスト３０を塗布してエッチング用マスクのレジスト３２をパターニングし、基板１０の裏面１０ｂであって、裏面１０ｂの外周部以外の部分をエッチングして基板１０の厚みを減ずる。 - 特許庁 - To provide a method of growing and patterning nanowire stably at high temperature using a new material that can overcome a problem of instability of conventional lift off material at high temperature.
従来のリフトオフ材料が持っている高温での不安定性の問題を克服することができる新規材料を利用して、高温で安定してナノワイヤを成長及びパターニングすることができる方法を提供する。 - 特許庁 - First and second halftone phase shifting masks 10, 20 having light transmitting parts 12, 22 for holes corresponding to the above holes of the respective groups are used to expose one resist film twice for patterning.
そして、各組に属するホールと対応するホール用透光部１２及び２２を有する第１及び第２のハーフトーン型位相シフトマスク１０及び２０を用いて同一のレジスト膜に対してパターン露光を２回行なう。 - 特許庁 - A pixel electrode 4 is constructed by patterning a belt shaped specified part 4a so as to be positioned in the vicinity of an intersection 13 of a data bus line 1 and an auxiliary capacitor bus line 6 where short-circuitting/disconnection defects are anticipated.
画素電極４は、短絡・断線の欠陥発生が想定されるデータバスライン１と補助容量バスライン６との交差部位１３の近傍に位置するように、帯状の特定部位４ａがパターニングされてなる。 - 特許庁 - The patterning system comprises arrays of at least two components which are structured to be illuminated by a corresponding part of the beams and are individually controllable, with each array forming patterns in the corresponding part of the beams.
パターン形成システムは、ビームの当該の部分によって照明されるように構成された少なくとも２つの個別に制御可能な要素のアレイを備え、各アレイが、ビームの当該の部分にパターン形成する。 - 特許庁 - A substrate can be exposed in the process windows by using a patterning means having a pattern corrected in accordance with the determined optical proximity correction rules and by using the radiation source having the intensity distribution of the radiation source.
前記決定した光学的近接補正規則に従って修正したパターンを有するパターニング手段と前記線源強度分布の線源を使って前記プロセスウインドウ内で基板を露出することもできる。 - 特許庁 - To provide a method for patterning, which is adaptable to problems associated with productivity and quality in arranging protrusions for controlling an alignment direction and columnar or rib shaped spacers defining liquid crystal layer thickness in a liquid crystal display.
液晶ディスプレイにおける、配向方向制御用突起や液晶層厚さを規定する柱状またはリブ状のスペーサを配設する際の生産性や品質の問題に対応できるパターンニング方法を提供する。 - 特許庁 - The masking layer can be obtained by conducting a conditioning process for more than five hours under a processing condition of the temperature being 30°C or more and the relative humidity being 90% or more after having pasted the dry film resist as a patterning mask.
このようなマスク層は、ドライフィルムレジストをパターニングマスクとして貼りつけた後、温度が３０℃以上、相対湿度が９０％以上の処理条件で５時間以上コンディショニング処理を行なうことで得られる。 - 特許庁 - On an interlayer insulating film 109 serving as a patterning layer, a predetermined range is removed to have an etching region for exposing at least a part of the upper clad layer 106 or a second conductive semiconductor region 108.
パターニング層としての層間絶縁膜１０９は、その所定範囲を除去して上部クラッド層１０６又は第２導電型半導体領域１０８の少なくとも一部を露出させるエッチング領域を有する。 - 特許庁 - The manufacturing method for BiCMOS forms a gate in a CMOS region by patterning a conductive layer for the gate while forming a conductive layer pattern that defines an aperture for opening an active region in a bipolar transistor region.
ゲート用導電層をパターニングしてＣＭＯＳ領域にゲートを形成すると同時にバイポーラトランジスタ領域の活性領域をオープンする開口部を定義する導電層パターンを形成するＢｉＣＭＯＳ製造方法。 - 特許庁 - A columnar spacer 31 and a shading pattern SP are formed by applying a black resin on the whole surface of the substrate, patterning, and treating at a high temperature to melt and hardening while shrinking the volume.
柱状スペーサ３１及び遮光パターンＳＰは、基板全面に塗布された黒色樹脂をパターニングし、高温処理することによって黒色樹脂をメルトさせ、体積収縮しながら硬化させることによって形成される。 - 特許庁 - The aluminum layer 11 is covered with a Ti film 12 and a TiO_2 film 13 formed by oxidizing the surface of the Ti film 12 as an anti-reflection layer to improve the precision of the wiring patterning made by using a photography technology.
アルミニウム層１１上には、フォトリソグラフィ技術を用いる配線パターニング精度向上のため反射防止層として、Ｔｉ膜１２及びその表面を酸化して得られたＴｉＯ_2膜１３が被覆されている。 - 特許庁 - A plurality of material films constituting TFTs are formed by stacking on an insulating-film coated substrate, and subsequently a resist mask having a plurality of regions of mutually different film thicknesses is formed by patterning on the uppermost layer of the material films.
ＴＦＴを構成する材料膜を絶縁膜基板上に積層して成膜してから、膜厚が互いに異なる複数の領域を有するレジストマスクを上記材料膜の最上層にパターニングして形成する。 - 特許庁 - To surely remove a polymer and particles adhering to a back surface without peeling off patterning applied to a surface, and to surely remove particles adhering to the respective surfaces by pressing force adapted to the respective surfaces.
表面に施されたパターニングを剥がすことなく、裏面に付着したポリマーやパーティクルを確実に除去したり、それぞれの面に応じた押圧力でそれぞれの面に付着したパーティクルを確実に除去したりすること。 - 特許庁 - The printed circuit board 1 has a ground insulating layer 10, a circuit pattern 21 formed by patterning a conductor layer 20 laminated on the ground insulating layer 10, and a coating insulating layer 30 covering the circuit pattern 21.
プリント配線板１は、下地絶縁層１０と、下地絶縁層１０に積層された導体層２０をパターニングして形成された回路パターン２１と、回路パターン２１を被覆する被覆絶縁層３０とを有する。 - 特許庁 - To provide a polymerizable fluoromonomer and a fluoropolymer for a resist suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure, a resist material and a method of pattern formation using the same.
液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Since the gate insulating film and the semiconductor film are simultaneously machined into an element shape after the heating process, the expansion and contraction of a glass substrate does not exert influence on the alignment deviation in patterning.
加熱処理後にゲート絶縁膜と半導体膜を同時に素子形状に加工するため、加熱時のガラス基板の膨張、収縮がパターニングのアライメントずれに影響を及ぼさないことを特徴としている。 - 特許庁 - To provide a method of preventing resist poisoning and the damage of a low-k dielectric insulating material or at least a method of minimizing the damages in a patterning approach of dual damascene structure using the via first of a semiconductor device.
半導体素子のビアファーストを用いたデュアル・ダマシン構造のパターニングの方法において、レジスト汚染と低ｋ誘電体絶縁材料の損傷を避けるか、少なくとも最小にする方法を提供する。 - 特許庁 - After removing the silicon oxide film 9, a low resistance portion 15 constituting a resistance element 17 and a gate electrode 19 are formed from the low-resistance poly silicon film 11 by patterning the poly silicon films 7a, 7b, 11 (f).
シリコン酸化膜９を除去した後、ポリシリコン膜７ａ，７ｂ，１１をパターニングして、低抵抗ポリシリコン膜１１から、抵抗素子１７を構成する低抵抗部１５と、ゲート電極１９を形成する（ｆ）。 - 特許庁 - A process of manufacture of an organic EL display device simultaneously performs patterning of a cathode 4 and transferring of a light emitting layer 5 by a transferring method using a laser beam, simplifies the process and improves display performance.
有機ＥＬ表示装置の製造方法において、レーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性能の向上を実現した。 - 特許庁 - Since the alignment marks can be easily identified in contact with a resin for patterning in an imprint process, the alignment between the template and the substrate for imprint can be easily achieved and an imprint process for a large area is enabled.
これにより、インプリント工程時にパターン用レジンとのコンタクト識別が容易であるので、テンプレートとインプリント用基板との間の整列を容易に合わせることができ、大面積のインプリント工程が可能である。 - 特許庁 - The oscillator filter comprises: a silicon substrate 40; an oscillator 41, which is provided by patterning a polycrystalline silicon layer which is deposited on the oscillator 41, in a rectangular pattern; an input terminal electrode 42; and an output terminal electrode 43.
振動子フィルタは、シリコン基板４０と、この上に堆積された多結晶シリコン層を矩形パターンに形成して得られた振動子４１と入力端子電極４２及び出力端子電極４３とを有する。 - 特許庁 - To provide a new method and an instrument used therefor, performing comparatively easily a processing for patterning a physiologically active substance or a functional organic material such as a protein on a substrate, while keeping activity thereof.
タンパク質等の生理活性物質又は機能性有機材料を、それらの活性を保持したまま基板上にパターニングできる処理操作が比較的容易である新規な方法及びそれに用いる器具を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electromechanical conversion element capable of performing selective patterning in a simplified process, the electromechanical conversion element manufactured by the method, and a droplet discharging head and a droplet discharging device.
本発明は、簡素化した工程で選択的にパターン化可能な電気機械変換素子の製造方法、該製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrochromic display device, capable of suppressing movement of a charge held in an electrochromic layer to an adjacent pattern via a display electrode, by only patterning of one electrode, and to provide a method of manufacturing the same.
一方の電極のパターンニングだけで、エレクトロクロミック層に保持されていた電荷が表示電極を介して隣のパターンに移動することを抑制可能なエレクトロクロミック表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL display which can simultaneously perform a formation of a hole injection layer and an addition of liquid-repellent on a barrier, thereby forming an organic EL element with high patterning accuracy.
正孔注入層の形成と隔壁上における撥液性の付与とを同時に行うことができ、高いパターニング精度で有機ＥＬ素子を形成することができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus comprises: a radiation source for generating a radiation beam; a support structure for supporting a patterning device; a substrate table for supporting a substrate; and a projection system for projecting a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁 - To provide a thin-film patterning method for obtaining narrower isolated trench width, without having to depend on the formation technique of a resist pattern, manufacturing method of a thin-film device, and to provide a manufacturing method of a thin-film magnetic head.
レジストパターンの形成技術に依存することなく、より狭い孤立トレンチ幅を得ることができる薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an EUV exposure mask etc. in which an absorption film material is specified so as to have a big absorption function in conjunction with excellent microscopic patterning property in order to reduce the projection effect in the EUV exposure.
ＥＵＶ露光における射影効果を低減するために、大きな吸収機能を持ち、併せて優れた微細なパターニング性を持つよう、吸収膜材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク等を提供すること。 - 特許庁 - The probes to be used for detecting an objective substance of test are trapped on fine particles 3 in advance, and the fine particles 3 are fixed in every section 2 formed in a lattice state on a substrate 1 by using a surface-chemical patterning method.
検査対象物質の検出に用いるプローブを予め微粒子３に捕捉し，微粒子を基板１の上に表面化学的なパターニング方法を用いて格子状に形成される各区画２に固定する。 - 特許庁 - The abnormality inhibiting film is formed on the silicon surface, an abnormal-growth inhibiting film as the abnormality inhibiting film is further removed, as required; and a treatment, such as a patterning to the silicon film and formation of an insulating oxide film is conducted.
シリコン表面に異常抑制膜を形成した上で、必要に応じて、異常抑制膜としての例えば異常成長抑制膜を除去して、シリコン膜へのパターニングや絶縁酸化膜形成等の処理を行う。 - 特許庁 - After the lower layer wiring 13 is subjected to patterning to a first interlayer insulating film 12 on a semiconductor substrate 11, an etching stop layer 14, a second interlayer insulating film 15, and a reflection preventing film 16 are successively built up.
半導体基板１１上の第１の層間絶縁膜１２に下層配線１３をパターニングした後、エッチング停止層１４及び第２の層間絶縁膜１５及び反射防止膜１６を順次堆積する。 - 特許庁 - Further, a protective film or the like needs not be formed by performing patterning newly for forming the defective region, thus resulting in manufacturing advantages in which only a process for applying electron rays is necessary without increasing the number of processes.
さらに、欠陥領域を形成するために新にパターニングし保護膜等を形成する必要がないため、工程を増やすことなく、電子線照射の工程のみで対応が可能という製造上の利点もある。 - 特許庁 - To provide the subject dyed product comprising both polyester- polyamide-based fibers, excellent in laundry fastness and enabling heterocolor effects such as iridescent tone, reversible tone or patterning to be evidently represented, and to provide a method for producing such a dyed product.
洗濯堅牢度に優れ、玉虫調、リバーシブル、柄だしなどの異色効果が明瞭に表現できるポリアミド系繊維とポリエステル系繊維からなる交編織繊維染色物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor chip package substrate includes a core layer 30, an electrically conductive structure 32 installed on the surface of the core layer, and an insulating layer 34 that coats the electrically conductive structure and has at least one patterning opening 36.
半導体チップパッケージ基板は、コア層３０と、コア層表面上に設置される導電構造３２、及び、導電構造上を被覆し、少なくとも一つのパターン化開口３６を有する絶縁層３４と、からなる。 - 特許庁 - To provide a laminate for forming a substrate with wiring having a low resistance, excellent patterning performance and high resistance properties to the ozone generated as a result of cleaning by irradiation with UV rays, the substrate with wiring and a method of forming the same.
低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ、紫外線照射による洗浄などで発生するオゾンに対して耐性の高い、配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法の提供。 - 特許庁 - The bismuth-based lead-free glass is used as a light patterning glass material which is patterned by light irradiation and has a light absorption coefficient of 300-3,000 cm^-1 at the wavelength of 365 nm.
光照射によりパターニングされる光パターニングガラス材料に用いられ、３６５ｎｍの波長の光に対する吸収係数が３００〜３０００ｃｍ^-1であることを特徴とするビスマス系無鉛ガラスを提供する。 - 特許庁 - In addition, a diffraction grating which is made of aluminum layer and has a plurality of fine slits formed thereon by patterning is disposed on the reflection type LCD 300 as a polarizing plate 41 which can be formed as thin as possible.
さらに、反射型ＬＣＤ３００には、極力薄く形成可能な偏光板４１として、アルミニウム層からなり複数の微細なスリットがパターニングにより形成された回折格子が配置されている。 - 特許庁 - In this case, when patterning of the wiring layer is applied in the external layer, laser treatment is adopted to partly remove a conductive film in the external layer and an insulating material so as to expose the confirmation hole 14 to the outside.
更に本形態では、外層の配線層のパターニング等を行う際に、レーザー加工により、外層の導電膜および絶縁材料を部分的に除去して確認孔１４を外部に露出させている。 - 特許庁 - To provide a substrate for a vertical magnetic recording medium being superior in flatness, patterning accuracy, and mechanical strength, and its manufacturing method, and a vertical magnetic recording medium using the substrate and its manufacturing method.
平坦性、パターニング精度および機械的強度に優れた垂直磁気記録媒体用基板およびその製造方法、並びに、その基板を用いた垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a patterning process without causing a deformation of a resist pattern and an increase in LWR (line width roughness) in forming a silicon oxide film on a photoresist pattern, in a sidewall spacer method.
側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The lithography equipment comprises a vacuum housing for providing a vacuum environment for a supporting portion or a substrate table structured such that a patterning apparatus is supported, a projection system, or its arbitrary combination.
リソグラフィ装置は、パターン化機器を支持するように構築された支持部又は基板テーブル或いは投影システム若しくはそれらの任意の組合せに真空環境を提供するための真空ハウジングを備えている。 - 特許庁 - To provide a deposited mask that allows high-accuracy patterning, and has a thin precise pattern mask, and its manufacturing method, and to provide organic electroluminescent equipment with a high numerical aperture by using the deposited mask.
高精度のパターニングが可能な、薄い精密パターンマスクを有する蒸着マスクとその製造方法を提供すること、その蒸着マスクを使用することで開口率の高い有機電界発光装置を提供すること。 - 特許庁 - After that, the carrier tape is separated from the circuit pattern, the solder resist 22 is also formed at the external terminal formation side of the circuit pattern for patterning, and the external connection terminal formation region on the other surface of the circuit pattern is exposed.
その後、キャリアテープを回路パターンから剥離し、回路パターンの外部端子形成側にもソルダレジスト（２２）を形成しパターニングを行って、回路パターンの他面の外部接続端子形成領域を露出させる。 - 特許庁 - When patterning a microlens material by means of photo-lithography, the microlens material is exposed (defocused) while shifting a focal position of exposure just by an arbitrary distance, so that after development, the microlens material obtains a pattern shape and a curvature radius as desired.
マイクロレンズ材をフォトリソグラフィー技術によりパターニングする際、露光の焦点位置を任意の距離だけずらして露光する（デフォーカス）ことにより、現像後、マイクロレンズ材に所望のパターン形状と曲率半径を得る。 - 特許庁 - The method and the equipment for lithography comprises an illumination system which supplies a beam of radiation, a patterning device which patterns the beam, and a projecting system which projects the patterned beam on the target of the substrate.
リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム、ビームにパターン形成するパターン形成デバイス、及び、パターン形成されたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムを含む。 - 特許庁 - As a result, the fine patterning in a few μm or the like is made possible, and a plurality of CNT emitter regions can be formed in a single pixel and a uniformity of electron emission can be improved.
このような構成により、数μｍ程度の微細パターニングが可能であり、１つのピクセル内に複数のＣＮＴエミッタ領域を形成することができるので、電子放出の均一度を向上させることができる。 - 特許庁 - Therefore, an expensive circuit board, which was necessary in a conventional apparatus, is not necessary, and a process for patterning the wiring pattern and a process for connecting the external terminals to the wiring pattern are not necessary when the apparatus is manufactured.
したがって、従来装置で必要とされた高価な回路基板が不要であり、しかも、装置を製造する際に、配線パターンをパターニングする工程、および、外部端子を配線パターンに接続する工程が不要である。 - 特許庁 - To prevent the leakage of abrasives from a slit opening through which a supply piping system for the abrasives passes during sandblast machining for patterning ribs of a plasma display panel, without giving ill effect to a substrate being machined.
プラズマディスプレイパネルのリブをパターニングするサンドブラスト加工時に、加工中の基板に悪影響を与えることなく、研削材の供給配管系が通るスリット状開口部からの研削材漏れを防止できるようにする。 - 特許庁
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