「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 46 47 48 49 50 51 52 53 54 .... 78 79 次へ＞- When the conductive film 36 or the ferroelectric film 32 is subjected to patterning through lithography, exposure incident light is never reflected in various directions, so that a desired pattern can be formed as designed.
フォトリソグラフィーにより導電膜３６や強誘電体膜３２をパターニングする際に、露光入射光が色々な方向に反射することなく、設計通りの所望のパターンを形成することができる。 - 特許庁 - The organic EL element is formed by performing patterning by an optical etching method, so that the organic EL display device is manufactured inexpensively with high accuracy compared with a case wherein coating is carried selectively by different colors using vapor-deposition masks.
光エッチング法によりパターニングを行って有機ＥＬ素子を形成するため、蒸着マスクを用いて塗り分けを行う場合に比べ、低コストかつ高精度に有機ＥＬ表示装置を製造できる。 - 特許庁 - To provide a support structure for supporting a patterning device and/or table, and an improved material for a substrate table for holding a substrate in a lithographic apparatus, and also to provide a method of manufacturing the same.
リソグラフィ装置において、パターニングデバイス及び／又はテーブルを支持する支持構造、並びに、基板を保持する基板テーブルの改良型材料、及び、それらを製造する方法を提供すること。 - 特許庁 - In this case, a method is employed which performs the electric inspection on the respective substrates 400 after cutting and dividing the multiple patterning substrate 500 into the respective substrates 400 (after performing the cutting process).
この場合、多面付け基板５００を切断して各基板４００に分割した後（切断処理を実行した後）に各基板４００に対する電気的検査を実行する方法を採用することができる。 - 特許庁 - Reference air temperature differences are stored in a reference air temperature difference database 133 in association with dates, and weather pattern information obtained by patterning general weather conditions is stored in a weather pattern database 134.
基準気温差データベース１３３には、日付に対応付けて基準気温差が記憶されており、天気パターンデータベース１３４には、天気概況をパターン化した天気パターン情報が記憶されている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method reducing variations in line widths of first and second resist patterns between substrates and in a substrate surface when forming minute resist patterns by double patterning.
ダブルパターニングにより微細なレジストパターンを形成する際に、基板間及び基板面内での１回目及び２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provided a patterning method and a pattern generation program which can generate a wiring pattern of a conductive film which can solve the problems of spreading of diffraction image, disconnection, and visibility of wiring.
回折像の広がり、断線、配線視認性の問題を解消することができる導電性フイルムの配線パターンを生成することができるパターン生成方法及びパターン生成プログラムを提供する。 - 特許庁 - To form a pattern while applying distortion correction to each thin film, and accurately overlay these patters in a photomask having the pattern for transfer by patterning a plurality of thin films.
複数の薄膜をそれぞれパターニングして成る転写用パターンを備えたフォトマスクにおいて、各薄膜に対してそれぞれ歪み補正を施しつつパターンを形成し、これらのパターンを正確に重ね合わせる。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film superior in transparent electrode patterning property (etching property), pen sliding durability and environmental stability when used as an electrode film for a touch panel.
タッチパネル等に使用される電極フィルム等として使用する際、透明電極のパターニング性（エッチング性）、ペン摺動耐久性、環境安定性に優れた透明導電性フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a resin composition for optical waveguide formation which can be made by a roll to roll method and has both flexibility and patterning resolution of an uncured layer, and an optical waveguide using the same.
ロール・トゥ・ロール方式で作製可能であり、未硬化層のフレキシビリティとパターニング解像性を両立する、光導波路形成用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film capable of improving adhesion in a copper wiring patterning process and stably maintaining the resistance of the transparent conductive film, in a flexible touch panel.
可撓性を有するタッチパネルにおいて、銅配線のパターニング工程においての付着性を向上させると共に、透明導電膜の抵抗が安定に保持されることができる透明導電膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a conductive film in which short circuit due to deposition of plating particles can be prevented when a conductive film is patterned by plating, and to provide a process for manufacturing a droplet ejection head.
メッキによる導電膜パターンの形成時に、メッキ粒子の析出に起因するショートを防止した、導電膜パターンの形成方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method that allows the reduction in tact time for pattern-forming, allows pattern layers and dielectric layers to be fired together, and is capable of reducing the total cost of pattern-forming.
パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a vapor deposition apparatus capable of executing the patterning of pixels with excellent accuracy while keeping the uniform film thickness of a large substrate when forming a thin film for an organic light emitting apparatus or the like through the mask vapor deposition.
有機発光装置などの薄膜をマスク蒸着で形成するにあたって、大判の膜厚を均一に保ちながら、画素のパターニングが精度良くできる蒸着装置を提供する。 - 特許庁 - The connecting pad parts are divided into outside regions 13, 20 positioned on the outside of the board 2 and inside regions 14, 21 positioned on the slightly inside than the outside regions, for patterning.
前記接続パッド部は、基板２上の外側に位置する外側領域１３，２０と、前記外側領域よりも若干内側に位置する内側領域１４，２１にそれぞれ区画してパターニングされる。 - 特許庁 - According to constitution of the method, the patterning is performed for every thin film of plural quantities, by which the thin films can be thickened irrespective of a ratio of a width to a depth (an aspect ratio) of a final throughhole pattern.
本発明の構成によれば、複数の薄膜毎にパターン形成を行うため、最終的な貫通孔パターンの幅と深さの比（アスペクト比）によらず、薄膜の厚膜化を行うことが出来る。 - 特許庁 - Patterning is applied to at least one layer of an organic electroluminescent layer by using a photo-lithography method in this manufacturing method of the electroluminescent element.
上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - These display devices 5 differ in the positioning direction by an integral multiple of 90 degrees, and patterning by exposure is carried out by turning the same photomask by an integral multiple of 90 degrees.
これらの表示装置は基板上で９０度の整数倍だけ位置取りの方向が異なり、同一のフォトマスクを９０度の整数倍だけ回転させて露光することによりパターニングを行う。 - 特許庁 - The method also comprises the steps of forming a second polysilicon film 154A to become a second transfer electrode 156 on the film 154, and forming a second transfer electrode 156 by patterning the film 156A.
そして、この層間絶縁膜１５４の上に第２転送電極１５６となる第２ポリシリコン膜１５６Ａを成膜し、これをパターニングすることにより、第２転送電極１５６を形成する。 - 特許庁 - In this way, the step for patterning the gate 7c of the peripheral transistor 50 and a step for forming the contact hole 12 in the select gate transistor 40 can be performed concurrently, and the manufacturing operation can be simplified.
これにより、周辺トランジスタ５０のゲート７ｃをパターニングする工程と、セレクトゲートトランジスタ４０におけるコンタクトホール１２を形成する工程とを兼用でき、製造工程の簡略化が図れる。 - 特許庁 - The functional liquid-drawing-in protrusion Ip is formed together with the insulation membrane I by patterning a silica membrane without installing an exclusive layer, a composing material for that layer, or a manufacturing process.
機能液引込み突起Ｉｐは、専用のレイヤ及びそのレイヤの構成材料、製造工程を設けることなく二酸化ケイ素膜をパターニングすることによって絶縁膜Ｉと共に形成される。 - 特許庁 - A sacrificial film is formed on a floating gate film formed on a semiconductor substrate and patterning is performed thereon, so that a sacrificial film pattern is formed which has an opening exposing a part of the floating gate film.
半導体基板上に形成されたフローティングゲート膜上に犠牲膜を形成しパターニングして前記フローティングゲート膜の一部を露出させる開口部を有する犠牲膜パターンを形成する。 - 特許庁 - A patterning device for the mask etc., used for a photolithographic apparatus includes a blank layer, a layer of patterned opaque materials existing on the surface of the blank layer and a pellicle of perfluoropolyether (PFPE) liquid covering the surface.
フォトリソグラフィ装置に使用するマスクなどのパターニング・デバイスは、素材層と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクルとを含む。 - 特許庁 - Next, the second organic film 105 is etched away using the second resist masks 109 as the masks for patterning the second organic film 105 as well as removing the first and second resist patterns 107, 109.
第２の有機膜１０５に対して第２のレジストマスク１０９をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜１０５をパターン化すると共に第１及び第２のレジストパターン１０７、１０９を除去する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium in which reactivity between a magnetic layer and reactive plasma or ions during the formation of a magnetic recording pattern is enhanced and the blur of an image in the patterning is hardly generated.
磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a transparent conductive film by which an excessive photo lithography step can be eliminated, high productivity be realized, and a high-quality multilayer thin film be also realized.
余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現することができる透明導電膜のパターニング方法を提供することを目的とする - 特許庁 - This SMC containing an unsaturated polyester resin, a reinforcing fiber, a cross-linking agent and a curing agent is provided by containing a banded reinforcing fibers by a banding agent, for patterning.
不飽和ポリエステル樹脂と補強繊維、並びに架橋性剤と硬化剤を含有するシートモールディングコンパウンド（ＳＭＣ）において、結束剤により結束された補強繊維を含有させて柄付けされているものとする。 - 特許庁 - When a patterned thin film is formed using a photoresist method; one surface of the thin film 200 before the patterning is treated by a treating solution 300 containing lactate, and then a photoresist mask is formed.
フォトレジスト法を用いてパターン化された薄膜を形成するに当たり、パターン化前の薄膜２００の一面を、乳酸エステルを含有する処理液３００で処理し、その後に、フォトレジストマスクを形成する。 - 特許庁 - Next, an ITO film in an amorphous state at normal temperatures is stacked on the gate insulating film and a data line and a drain electrode are formed by patterning in a wet etching process that utilizes a photosensitive film pattern.
次に、ゲート絶縁膜上に常温で非晶質状態のＩＴＯ膜を積層して感光膜パターンを利用した湿式エッチング工程でパターニングして、データ線及びドレイン電極を形成する。 - 特許庁 - To provide a method of producing a cured film excellent in patterning property of a contact hole, ITO sputter resistance, and heat resistance transparency, which can be produced at high and stable sensitivity, with slit coating.
高感度で安定した感度で製造でき、コンタクトホールのパターニング性能やＩＴＯスパッタ耐性、耐熱透明性に優れる硬化膜を、スリットコートで製造する製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A vapor deposition substance 115 released from a vapor deposition source 110 is passed through a vapor deposition source nozzle part 120 and a patterning slit sheet 150 to be vapor-deposited on a substrate 400 at a desired pattern.
蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過させて基板４００に所望のパターンで蒸着させる。 - 特許庁 - To provide a curable composition which exhibits excellent patterning property in photo-lithography and a membrane obtained from which provides a cured product with good insulation properties, heatproof and lightproof properties, and a cured product.
フォトリソグラフィーにおいて優れたパターニング性を示し、かつ得られた膜は優れた絶縁性と耐熱耐光性を有する硬化物を与える硬化性組成物および硬化物を提供すること。 - 特許庁 - To suppress the occurrence of vibrations or other disturbances which may act on a projection system of a lithographic apparatus (also referred to as a projection lens) by movements of a substrate stage, a patterning device stage (for example, a mask stage), a cooling device etc.
基板ステージ、パターニングデバイスステージ（例えばマスクステージ）、冷却デバイス等の移動により、リソグラフィ装置の投影系（投影レンズとも呼ばれる）に作用する振動または他の外乱の発生を抑制する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film having high transmissivity in a visible light region while suppressing a difference in visibility between a conductive face and an insulating face when patterning a transparent conductive layer.
可視光領域において高透過率を有し、透明導電層をパターニングしても、導電面と絶縁面で視認性の差を抑制することが出来る透明導電性フィルムを提供すること。 - 特許庁 - The reflection plate is manufactured by patterning the photosensitive resin 5 applied on one surface of a substrate 4 by a photomask, thereby forming plural recessed parts 8 which are made of the photosensitive resin and are isolated.
基板４の一方の面に塗布した光感光性樹脂５をホトマスク６によってパターニングし、光感光性樹脂でできた離隔した複数の凹部８を形成して反射板を製造するようにした。 - 特許庁 - To provide a reactive compound having high flame resistance, capable of light patterning, excellent in photo sensitivity, whose cured film sufficiently satisfies development performance, curability, adhesion, PCT resistance, flexibility, and the like.
高い難燃性を有しており、光パターニング可能であり、光感度に優れ、その硬化膜は、現像性、硬化性、密着性、ＰＣＴ耐性、柔軟性等も十分に満足する反応性化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a soft mold and a manufacturing method therefor which prevent that resin becomes hydrophobic since area is reduced in surfaces of a PDMS (polydimethylsiloxane) mold where organic substances are transferred, and to provide a patterning method using the manufacturing method.
ＰＤＭＳモールドの表面において有機物が転移される表面積を低減して、樹脂が疏水性となるのを防止できる、ソフトモールド及びその製造方法並びにパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - The method and apparatus for fabricating the flat panel display element include patterning a thin film of the flat panel display element by utilizing a soft mold formed with a repulsion layer having high repulsive force to an etch-resist on the surface.
本発明の平板表示素子の製造方法及び装置は、エッチレジストとの反発力が大きい反発層が表面に形成されたソフトモールドを利用して平板表示素子の薄膜をパターニングする。 - 特許庁 - A wafer-forming a filter is made into individual pieces, these pieces are mounted on a circuit substrate having a phase matching circuit, and forms a clad layer 14, thereby enabling a patterning process of the clad layer 14 to be reduced.
フィルタを形成したウェハを個片化し、位相整合回路を有する回路基板に実装し、クラッド層１４を形成するので、クラッド層１４のパターニング工程を削減することができる。 - 特許庁 - In this regard, patterning is performed such that the end 6a of the resist mask 6 abutting on a region for forming an N^+ type diffusion region 2 is located at a position separated by 0.3 μm from the STI end 3a, for example.
このとき、レジストマスク６のＮ^+型拡散領域２の形成予定領域に接する端部６ａがＳＴＩ端部３ａから例えば０．３μｍ離れたところに位置するようにパターニングを行う。 - 特許庁 - To provide a device for organic layer deposition, which is suitable for mass production of large substrates and allows highly fine patterning, and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the organic layer deposition device.
大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A multilayer wiring structure 13 is formed in a surface 57A of a metallic plate 57 which is a supporting plate when the multilayer wiring structure 13 is formed, and a slot antenna 60 is formed by patterning the metallic plate 57.
多層配線構造体１３を形成するときの支持板となる金属板５７の面５７Ａに多層配線構造体１３を形成し、金属板５７をパターニングしてスロットアンテナ６０を形成した。 - 特許庁 - Hereby, since patterning of the Au film 26 is not performed even if the Au film 26 is removed for insulation between electrodes, addition of a process line of photolithography exclusive for Au is not required.
このため、電極間における絶縁のために、Ａｕ膜２６を除去したとしても、Ａｕ膜２６をパターニングするものではないため、Ａｕ専用のフォトリソグラフィの工程ラインを追加する必要がない。 - 特許庁 - The method of manufacturing a thin film transistor forms an oxide semiconductor thin film 6 by patterning and then heating a precursor thin film 6' formed by the application of a precursor solution.
前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜６’をパターニングした後、加熱することにより酸化物半導体の薄膜６を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁 - To provide a patterning method of a film that simplifies the manufacturing process of an electron discharge element, can inexpensively manufacture an image forming apparatus having excellent display quality for a long term, and is made of carbon fibers.
電子放出素子の作製プロセスを簡易化するとともに、長期に渡り表示品位に優れた画像形成装置を安価に製造し得るカーボンファイバーからなる膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition capable of forming a high resolution pattern without an additional heating process, a method of patterning a thin film using the same, and a method of manufacturing a liquid crystal display panel using the same.
別途の加熱工程を経ずに高解像度のパターンを形成できるフォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法、及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A light absorbing layer 2 and a resist film 3 are formed in this order on the inner surface of a glass panel 1, and after patterning the resist film 3, the black matrix 7 is formed by applying etching to the light absorbing layer 2.
ガラスパネル１の内面に、光吸収層２とレジスト膜３とをこの順に形成し、レジスト膜３をパターニングした後、光吸収層２をエッチングしてブラックマトリックス７を形成する。 - 特許庁 - To pattern a transparent conductive thin film laminated product comprising a transparent, high-refraction factor thin film layer and a transparent metal thin film layer by a fine patterning dry etching method.
透明高屈折率薄膜層と透明金属薄膜層からなる透明導電性薄膜積層体を反応ガスを用いたドライエッチング手法により、微細なパターニドライエッチング法を用いてパターニングする。 - 特許庁 - To prevent wrinkles from being formed on the rear surface of a part becoming a product later at the time of press molding for patterning the surface of a green sheet formed into a hollow state by the extrusion of a cement material.
セメント材料の押出により中空状に形成されたグリーンシートの表面に模様付けをするプレス成形時に、後に製品となる部分の裏面にしわが発生するのを防止する。 - 特許庁 - To provide lamination equipment for improving a lamination property and patterning in a laser thermal transfer process by improving a method for fixing a donor substrate and a substrate inside a thermal transfer device.
熱転写装置内においてドナー基板と基板の固定方法を改善することによって、ラミネーション特性及びレーザ熱転写工程のパターニングを改善させることができるラミネーション装備を提供する。 - 特許庁
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