「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 55 56 57 58 59 60 61 62 63 .... 78 79 次へ＞- In the patterning of the double-layer plate, a marking for positioning is formed at the outer-periphery edge of a substrate, a through-hole 19 is drilled, conductor bump 17, 17, and so on are printed onto the wiring pattern of the double-layer plate, and double-layer plates 18 and 28 with bumps are obtained.
２層板をパターニングする際に、基板外周縁に位置決め用マーキングを形成し、貫通孔１９を穿孔し、２層板の配線パターン上に導体バンプ１７，１７，…を印刷し、バンプ付２層板１８，２８を得る。 - 特許庁 - After patterning is carried out so that the dielectric film 12 and the oxide film 13 have the same pattern, the oxide film 13 is selectively etched starting from the dielectric film 12 and the oxide film 13 is formed to a pattern whose width is smaller than that of the dielectric film 12.
絶縁膜１２及び酸化膜１３が同じパターンとなるように、パターニングした後に、酸化膜１３を絶縁膜１２から選択的にエッチングし、酸化膜１３を絶縁膜１２よりも小さな幅のパターンに形成する。 - 特許庁 - Next, the conductor layers 2, 3, the thin film conductor layer 6 and the conductor layer 7 are processed by patterning, and wiring layers 2a, 7a and lands for grating-like outside connection 3a, 7a are formed to obtain the film carrier 10.
次に、導体層２、導体層３、薄膜導体層６及び導体層７をパターニング処理し、配線層２ａ及び７ａと格子状の外部接続用ランド３ａ及び７ｂを形成して、本発明のフィルムキャリア１０を得る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an image display device using energy of laser beams or the like as a heat source of transcription, capable of easily inspecting precision of patterning after transcribing a phosphor ink film on the inner surface of a panel, before baking.
レーザビームなどのエネルギビームを転写熱源として用い、蛍光体インク膜をパネルの内面に転写した後であって、焼成する前に、容易にパターニングの精度などの検査が可能な画像表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The shadow mask 100 on which a fluorescent pattern 103 is formed by patterning a fluorescent coating material prepared by incorporating fluorescent agent or luminous agent is produced on the side of a large hole opening mask 16a of the shadow mask.
シャドウマスクの大孔開口マスク１６ａ側の大孔開口マスク１６ａ側に蛍光剤或いは蓄光剤を調合した蛍光体塗料をパターニング処理して蛍光体パターン１０３が形成されたシャドウマスク１００を作製する。 - 特許庁 - Further, the image forming support apparatus refers to the Description of the TIFF format (200), separates a high image quality image from other images (characters and line drawings or the like) (202 to 208) and applies patterning to only the high image quality image and provides an output of the result to a CTP apparatus (210).
また、ＴＩＦＦフォーマットのＤｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎを参照して（２００）、高画質画像イメージとその他の（文字や線画等）イメージを分離して（２０２〜２０８）、高画質画像イメージのみを面付けしてＣＴＰ装置へ出力する（２１０）。 - 特許庁 - This matter has such a merit that the thickness of the second conductor layer is kept the same as before formation of the via hole even after formation of the via hole 17a, and a fine wiring layer in high density can be made during patterning of the second conductor layer.
このことは、バイアホール１７ａ形成後も第２導体層の厚みはバイアホール形成前の厚みが維持され、第２導体層をパターニング処理する際、微細な高密度の配線層を形成できるという利点を有する。 - 特許庁 - The transparent conductive film 1 includes the conductive surface 5 on the upper surface of the transparent conductive layer 4 and the insulated surface 6 on the upper surface of the insulating color difference adjusting layer 3 that are formed by patterning the transparent conductive layer 4.
透明導電性フィルム１は、透明導電層４をパターニングすることにより形成されている透明導電層４の上面の導電面５と絶縁色差調整層３の上面の絶縁面６と、を具備している。 - 特許庁 - To provide a mask for conductive film patterning, by which the process can be shortened, appearance defects such as flaw, blot and spark mark can be prevented, productivity can be greatly improved, and accordingly, usability in the subsequent process and durability during use can be improved remarkably.
工程を短かくでき、キズ、滲み、スパーク跡などの外観欠点がなく、生産性が著しく優れ、したがって後工程での使い易さや、使用時の耐久性を著しく改良した導電膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.
露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁 - The data manipulation device generates a control signal comprising spot exposure intensities to be generated by the patterning device, based on a direct algebraic least-squares fit of the spot exposure intensities to the frequency-clipped target dose pattern.
データ操作装置は、周波数クリッピング目標線量パターンへのスポット露光強度の直接代数的最小二乗当てはめに基づいて、パターン形成装置により生成されるスポット露光強度を含む制御信号を発生する。 - 特許庁 - By using the material subjected to spin-on processing to the hard mask, a process can be executed by using a single tool, and usage of a single curing step is enhance, which is not normally used in a patterning process of the conventional technique, in which a CVD hard mask is used.
ハード・マスクにスピンオンされた材料を使用すると、プロセスが単一のツールで実施でき、ＣＶＤハード・マスクが使用される従来技術のパターニング・プロセスで通常使用されない単一の硬化ステップの使用が可能になる。 - 特許庁 - Then, etching is performed in three steps: (1) patterning of the ITO film along the resist pattern 8, (2) formation of the lower layer contact hole 41 by an etching liquid such as buffered hydrofluoric acid, and (3) removal of an "eaves-like part" 6a of the ITO film.
そして、（１）レジストパターン８に沿ったＩＴＯ膜のパターニング、（２）バッファードフッ酸等のエッチング液による下層コンタクトホール４１の作成、及び（３）ＩＴＯ膜の「ひさし状部分」６ａの除去という３段階のエッチングを行う。 - 特許庁 - To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.
パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device capable of modulating the radiation beam, a substrate table constructed to support a substrate, and a projection system configured to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システム、放射線ビームを変調するパターニングデバイス、基板を支持する基板テーブル、および変調した放射線ビームを基板の目標部分に投影する投影システムを有する。 - 特許庁 - To provide a resin composition, an adhesive film and a resin varnish which are excellent in the precision in the registering for the application of a resin composition when applied on a substrate and besides which is improved in the resolution in a patterning treatment in the photolithographic technique.
基板上に適用したときに、樹脂組成物の適用のための位置合わせ精度に優れる上に、フォトリソグラフィ技術におけるパターニング処理の解像度を向上させる樹脂組成物、接着フィルム及び樹脂ワニスを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element which carries out patterning of an organic EL layer by using a photolithography method, and which is superior in light-emitting characteristics and life characteristics.
本発明は、フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、発光特性および寿命特性に優れる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin film pattern having a narrow pattern, which is independent of the kind of a resist film and an optical limit of an exposure apparatus or the like, and thus to further provide a method for making a thin film patterning narrower.
レジスト膜の種類や露光器などの光学的限界によらず、狭小なパターンを有する薄膜パターンを作製する方法を提供し、もって薄膜パターニングを狭小化する方法を提供することをも目的とする。 - 特許庁 - To provide a deposition method and display material in a display material manufacturing process which realize accurate deposition of thin films of different characteristics by patterning on the same substrate and flat and uniform coating of liquid materials.
特性の異なる薄膜を同一基板上に精度よくパターニング成膜することと、液体材料を平坦かつ均一に塗布させることを可能とする表示体製造プロセスにおける成膜方法および表示体を提供すること。 - 特許庁 - To provide an intermediate layer material composition for a three- layer resist process soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free of a problem in trailing shape and line edge roughness in patterning of an upper layer resist and to provide a pattern forming method using the composition.
有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A method of manufacturing the multilayer wiring board has a process of forming an insulating layer 5 on a base on which bumps 4 for interlayer connection are formed, a process of sandwiching the base with stainless plates 22 and thermocompression-bonding the copper foil 3 onto the insulating layer 5, and a process of patterning the copper foil 3.
層間接続のためのバンプが形成された基材上に絶縁層を形成する工程と、ステンレス板で挟み込み絶縁層上に銅箔を熱圧着する工程と、銅箔をパターニングする工程とを有する。 - 特許庁 - In this pattern forming method, a first mask pattern 320A is formed in a first region A by patterning a dual mask layer on a substrate 300, and a second mask pattern 320B which is wider than the first mask pattern 320A is formed in a second region B.
基板３００上のデュアルマスク層をパターニングして第１領域Ａには第１マスクパターン３２０Ａを形成し、第２領域Ｂには第１マスクパターン３２０Ａより幅広である第２マスクパターン３２０Ｂを形成する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a device, having a ferromagnetic tunnel junction element with improved characteristics by properly patterning constituent layers of a multilayered film having a first and a second ferromagnetic layer and a tunnel insulation layer interposed between these ferromagnetic layers.
第１および第２の強磁性体層ならびにこれらに挟まれたトンネル絶縁層を有する多層膜の構成層を良好にパターニングして、特性の改善された強磁性トンネル接合素子を有する装置を製造する。 - 特許庁 - An Al wiring is obtained by subjecting a multi-filmed Al layer made up of an Al film 2a of pure Al and an AlOx film 2b formed on the film 2a and made of Al containing oxygen elements to a photolithograpical patterning process.
純粋なＡｌによって構成されるＡｌ膜２ａと、その上層に積層された酸素元素を含むＡｌによって構成されるＡｌＯ_x 膜２ｂとからなる多層Ａｌ層３をフォトリソグラフィーによってパターニングし、Ａｌ配線を得る。 - 特許庁 - A first α-Si film is formed on the surface of a quartz substrate 11 for patterning, and then a second α-Si film is formed over it, which is crystalized in a thermal process with Ni as a catalyst for form a CGS film 16.
石英基板１１表面に第１のα−Ｓｉ膜を形成してパターニングした後、その上に第２のα−Ｓｉ膜を形成し、Ｎｉを触媒として熱処理によって結晶化して、ＣＧＳ膜１６を形成する。 - 特許庁 - Thus, the incident light reaches a first photoelectric conversion layer without resorting to the second photoelectric conversion layer while a surface area is increased by patterning the second photoelectric conversion layer, resulting in higher conversion efficiency.
これによって、第１光電変換層においては第２光電変換層を介さずに入射光が到達でき、さらに、第２光電変換層のパターニングにより表面積を増加させることが出来るので、高い変換効率を実現出来る。 - 特許庁 - The plurality of the holes 6a are arrayed on a substantially straight line along the tape width, and are disposed downward under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at the copper wiring pattern layer forming time from the copper layer 1 or are disposed in the lower vicinity region.
穴６ａは、テープ幅に沿った略直線上に複数配列し、銅層１からの銅配線パターン層形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁 - A first mask 31 is then arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 33 and 34 match the cut 22, and lithographic patterning is carried out on the front surface 21a of the glass substrate 21 according to a first mask pattern 32.
次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display panel whose manufacturing stages are simplified by performing patterning without a photolithography stage and whose manufacturing cost is reducible, and also provide a manufacturing method thereof.
本発明の目的は、フォトリソグラフィー工程を実施することなく、パターニングを行うことにより製造工程を単純化すると共に製造費用を節減し得る液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - The 1st connection point P1 is formed closer to the side of the stub 17 than the 2nd connection point P2 and a patch 14 is formed on the top surface of the dielectric resonator 11 by patterning a metal conductor in a specified shape.
第２の接続点Ｐ２よりも第１の接続点Ｐ１の方がスタブ１７側に形成されており、誘電体共振器１１の上面には、金属導体を所定形状にパターニングしたパッチ１４が形成されている。 - 特許庁 - In a joint step, metal plates 21A serving as a lead frame 21, a double-side metal attached laminate body 40 having patterning metal foils 25B, and metal plates 33A serving as spacers 33 are joined through metal layers formed by soldering.
接合工程では、リードフレーム２１となる金属板２１Ａと、パターン化金属箔２５Ｂを有する両面金属張積層体４０と、スペーサー３３となる金属板３３Ａとを、ろう接により形成した金属層を介して接合する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor integrated circuit capable of attempting both for reducing an effect that a coupling capacitance between interconnections buried in parallel such as a bus line, etc., affects to a voltage transition of these interconnections and for fine patterning of the circuit.
バス配線等、平行に敷設される配線間のカップリング容量がそれら配線の電位遷移に及ぼす影響の低減と回路の微細化との好適な両立を図ることのできる半導体集積回路を提供する。 - 特許庁 - The lithography system drives two programmable patterning means 11 and 12, using a control signal from a computer 10, in order to pattern two different beams 13 and 14 being projected to two substrates 19 and 20.
このリソグラフィ装置は、二つの基板１９、２０上に投影するための二つの別々の投影ビーム１３、１４をパターン化するためにコンピュータ１０からの制御信号を使って二つのプログラム可能パターニング手段１１、１２を駆動する。 - 特許庁 - In this display panel, after the patterning of a tantalum film which is formed on a dielectric substrate 1 is processed and the electrode wiring 2 of the first layer being the lowermost layer of input lead wirings 21 is formed, an SiNx film is formed as a gate insulating film 3.
絶縁性基板１上に成膜したタンタル薄膜をパターニング処理して、入力リード配線２１の最下層である第１層の電極配線２を形成した後、ゲート絶縁膜３としてＳｉＮｘ膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for removing a resist for sufficiently suppressing damage of an insulating film consisting of a low dielectric constant material when removing a residual resist from a base substance to be treated after patterning in an etching process.
エッチング工程においてパターニング後の被処理基体から残留レジストを除去するに際し、低誘電率材料からなる絶縁膜のダメージを十分に抑制することが可能なレジストの除去方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.
被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a forming method of an etching mask capable of improving uniformity of CD of a pattern in double patterning, and forming an etching mask having uniform and excellent CD, and to provide a control program and a program storage medium.
ダブルパターニングにおけるパターンのＣＤの均一性を向上させることができ、ＣＤが均一で良好なエッチングマスクを形成することのできるエッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure method and an exposure device, capable of locally optimizing such factors as incident angle, polarizing direction, and exposure amount, according to places in a sample when patterning the solid sample having a rough on its surface.
表面に凹凸のある立体サンプルにパターニングを行うに際して、サンプル内の場所に応じて部分的に、入射角度、偏光方向、露光量などの条件の最適化が可能な露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - A hole-making step, a titanium layer-copper layer forming step, a chemical copper plating step, a dry film forming step, a patterning step, a copper circuit forming step, a peeling step, a nickel plating step, a gold plating step and a titanium layer-copper layer removing step are successively performed.
穿孔ステップと、チタン層・銅層形成ステップと、化学銅メッキステップと、ドライフィルム形成ステップと、パターニングステップと、銅回路形成ステップと、剥離ステップと、ニッケルメッキステップと、金メッキステップと、チタン層・銅層除去ステップと、順次行う。 - 特許庁 - A control system for a mask table (patterning means) and substrate tables predicts the instantaneous position error in the substrate table, and feeds the position error to a control loop of the mask table for adding to the mask table set point as force to be operated on the mask table.
マスク・テーブル（パターン形成手段）および基板テーブルの制御システムは瞬時の基板テーブルの位置誤差を予測し、それをマスク・テーブルの制御ループに送り、マスク・テーブル設定値にマスク・テーブルに作用する力として加える。 - 特許庁 - An SiO_2 film and a photoresist film are then formed sequentially on the seed layer (S3, S4), an opening is formed by patterning the photoresist film and the SiO_2 film (S5, S6), and a Cu film and a mask Al film are laminated in the opening (S7, S8).
シード層の上にＳｉＯ_２膜及びフォトレジスト膜を順次形成し（Ｓ３、Ｓ４）、フォトレジスト膜、ＳｉＯ_２膜をパターニングして開口を形成し（Ｓ５，Ｓ６）、開口内にＣｕ膜及びマスクＡｌ膜を積層する（Ｓ７、Ｓ８）。 - 特許庁 - In a preferred embodiment, the method includes patterning a substrate to identify a plurality of cavity areas to be etched on the substrate and filling at least one of the cavity areas with a distinctive filler material.
好適な態様において、本方法は、基板をパターニングして基板にエッチングされる複数のくぼみ領域を識別し、少なくとも１つのくぼみ領域を弁別的充填材料２０３，２０５，２０６，２０７で充填する工程を含む。 - 特許庁 - In a process for performing the active patterning with respect to the Si layer 13, leg parts 13a are left in the groove h1 by allowing the Si layer 13 to be supported on the Si substrate 1 as it is even after the formation of the cavity part 25.
Ｓｉ層１３に対してアクティブのパターニングを行う工程では、空洞部２５を形成した後もＳｉ層１３がＳｉ基板１上でそのまま支えられるようにその脚部１３ａを溝ｈ１内に残しておく。 - 特許庁 - A lens forming base plate 148 where the microlenses 506 and 507 are formed is formed, and a resist layer 43 for patterning a light shielding film composed of photosensitive material is formed on one side 103 in the thickness direction of the base plate 148.
マイクロレンズ５０６，５０７が形成されるレンズ形成基板１４８を形成し、そのレンズ形成基板１４８の厚み方向他方側１０３に感光性材料からなる遮光膜パターニング用レジスト層４３を形成する。 - 特許庁 - Furthermore, in fabricating the semitransmissive liquid crystal display, the fabricating method includes a step for forming a projecting and recessing structure without especially increasing the number of patterning steps only for the purpose of forming the projecting and recessing structure in the manufacturing process.
さらに半透過型の液晶表示装置を作製するにあたり、その製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.
本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electro-optic device by which a shape in a corner portion of a device pattern can be reliably controlled upon forming a plurality of device patterns of a specified shape by patterning a film formed on a substrate for the electro-optic device.
電気光学装置用基板に形成された膜をパターニングして所定形状の複数のデバイスパターンを形成する際、デバイスパターンの角部分の形状を確実に制御することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an ink jet recorder, patterning arrangement and painting device which makes it enable to certainly make the speed of a drive frequency in the discharge of about 1 pl or less higher even in case the diameter of the discharge port is 30 μm or larger.
吐出口径が３０μｍの場合やこれよりも大きい吐出口の場合にも１ｐｌ程度以下の吐出における駆動周波数の高速化が確実に実現できるインクジェット記録装置、パターニング装置および塗装装置を提供すること。 - 特許庁 - In the rubber blanket used for fine line patterning, the surface rubber of the rubber blanket has arithmetical mean roughness of a value of 0.05×Ra(p) to 4.5×Ra(p) with respect to arithmetic mean roughness Ra(p) of the surface of the printing body.
細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケットである。 - 特許庁 - The contact part of the encoder switch is formed by patterning with the electroconductive resin composition by a screen printing and an electroconductive particle of the electroconductive resin composition is an electric conductor obtained by forming a silver-coated film on the surface of a carbon bead and silver powder.
エンコーダスイッチの接点部分を、導電性樹脂組成物をスクリーン印刷法によりパターニングすることにより形成し、導電性樹脂組成物の導電性粒子を、カーボンビーズの表面に銀被膜がコーティングされた導体粉及び銀粉とした。 - 特許庁
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