「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 78 79 次へ＞- This rail joint structure is constituted by arranging the rail at a proper interval between the mutual rails, by patterning a fan-shaped inclined face over the tip of oblique cutting from the substantially center tip of a contact width surface with the wheel, by patterning a joint surface of the tip in the longitudinal direction of a travel surface of the rail and the rail, in the oblique cutting having mutually a large angle.
レールとレールの走行面長手方向先端の継ぎ手面を、相互に大きい角度の斜め切断に型成して、更に車輪との接触幅面のほぼセンター先端より斜め切断の先端にかけ扇型状傾斜面を型成して、該レールを相互間に適切な間隔を設けてレールの継ぎ手構造を構成し、車輪がレールの走行面の継ぎ手を通過時に扇型状傾斜面の適切な透き間で衝撃を避けて車輪が次のレールに自然に乗移り、滑らかに通過するように構成されてている。 - 特許庁 - The forgery preventing foil has ≤20 μm total thickness, contains at least one patterning optical isotropic layer having two or more regions each having different birefringent property, wherein all of the regions in one layer is formed from the same composition.
総厚が２０μｍ以下の偽造防止箔であって、複屈折性が異なる領域を二つ以上含むパターニング光学異方性層を少なくとも一層含み、同一層内における前記領域は全て、互いに同一の組成物から形成されている、偽造防止箔。 - 特許庁 - An electron beam resist layer 21 is formed on a base material 11, and patterning processings such as pattern drawing and development of the electron beam resist layer 21 are carried out by using an electron beam exposure device to form an initial resist pattern 22 in a lattice shape at a prescribed position on the base material 11.
基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。 - 特許庁 - The method of patterning the organic metal film includes a step of forming the organic metal film 3 on a first base 21, a step of pressing a pressed region 310 set at part of the organic metal film 3 with an indenter 4 along the film thickness, and a step of etching the organic metal film 3.
第１の基材２１上に有機金属膜３を形成する工程と、有機金属膜３の一部に設定した加圧領域３１０を圧子４により膜厚方向に加圧する工程と、有機金属膜３にエッチング処理を施す工程とを有する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the microcoil comprises the steps of forming a catalytic metal layer 3 on a part to be formed with the wiring 5 on a substrate layer 2 made of epoxy resin, and patterning the epoxy resin containing a photoreactive curing agent to form a form 6, on a part in which the layer 3 does not exist.
エポキシ樹脂の下地層２の上の配線５が形成される予定の部分に触媒金属層３を形成し、光反応性硬化剤を含有するエポキシ樹脂をパターニングして触媒金属層３が存しない部分に型枠６を形成する。 - 特許庁 - By combining CMP of high flatness in which patterning for making the area of an SiO_2 film uniform is unnecessary, and regulating the trench width and film thickness of an alignment pattern part for alignment of a semiconductor mask, the number of times of exposure processing is reduced to one.
ＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングが不要な高平坦性のＣＭＰと組み合わせることと、半導体マスクの位置合わせ用アライメントパターン部の溝幅と絶縁膜の膜厚を規定することで、露光工程の回数を１回に低減する。 - 特許庁 - The step between the position detecting groove 50 in which the insulator 51 is formed in this manner and other regions in the semiconductor substrate 1 is used to align the substrate with a mask for patterning for forming a conducting film or the like, after the isolation area is formed.
このような態様にて絶縁物５１が形成された位置検出溝５０と半導体基板１の他の領域との段差は、前記素子分離領域形成後、導電膜等の形成に際し基板とパターニングのためのマスクとの位置合せに用いられる。 - 特許庁 - To provide a patterning substrate for cell culture to be used for making cells adhere onto a base in a high-precision pattern fashion to culture the cells, and to provide a cell culturing substrate onto which cells are made to adhere in a high-precision pattern fashion.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - To eliminate a complication of preparing a patterning substrate when conventionally different species of cells coexisting in vivo tissue are cocultured, a culture in which cells are in a patterned state is examined so as to develop a cell function closer to that of organism.
従来、生体組織において共存する異種の細胞を共培養する場合、より生体に近い細胞の機能を発現させるために細胞をパターニングした状態での培養が検討されているが、そのパターニング基材の作製の煩雑さを解消することにある。 - 特許庁 - To provide a surge protective circuit and a surge absorbing element of an electronic equipment wherein energy of a surge voltage form commercial power source line is attenuated by being converted into heat, the remaining surge voltage is discharged by a pattern gap, and mounting can be carried out easily by patterning a resistor and the gap integrally with other circuit components on a printed circuit board.
電子機器のサージ保護回路内に設けた、サージ吸収素子を抵抗とパターンギャップで構成しコノサージ吸収素子をプリント基板の他の回路の能動素子や受動素子と一緒に形成し、組み立て工数を減少させてコストダウンを計る。 - 特許庁 - Electrodes and the resistive body are formed by patterning by utilizing the adhesion of an exfoliated film comprising a photosensitive adhesive film so as to exfoliate and remove a conductive resin layer and a resistive layer.
感光性粘着フィルムからなる剥離フィルムの粘着性を利用して、導電性樹脂層および抵抗体層を剥離、除去することによって、均一な膜厚の電極および抵抗体をパターニング形成することにより、前記課題を解決することができた。 - 特許庁 - Patterning is performed on the transparent conductive film by laser using a transparent electrode film constituted by addition (co)polymer of cyclic olefin in which copolymerization ratio of norbornene and ethylene is 80:20 to 90:10 and melt volume rate is 0.8 to 2.0 cm^3/10 minutes as a substrate.
ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が８０：２０〜９０：１０、メルトボリュームレートが０．８〜２．０ｃｍ^３／１０分である環状オレフィンの付加（共）重合体よりなる透明電極フィルムを基板として用いて、透明導電膜がレーザーによりパターニングされる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor element in which adverse effects due to damage occurring during polishing or dry etching in a manufacturing process are eliminated, and a problem of difficulty in patterning by wet etching is solved, consequently reliability is improved.
製造工程における研磨またはドライエッチングの際に発生したダメージによる悪影響を解消すると共に、ウェットエッチングによるパターニングが難しいという問題を解決することができ、信頼性を向上させることができる半導体素子を提供する。 - 特許庁 - A substrate 1 with a speaker is provided with a multilayer printed wiring board part 3 formed by laminating a plurality of thermoplastic films to which patterning is applied, and a speaker 4, a communication means 5 and a drive control means 6 are buried within the multilayer printed wiring board part 3.
スピーカ付基板１は、パターニングが施された熱可塑性フィルムを複数積層して形成される多層プリント配線基板部３を備え、この多層プリント配線基板部３の内部にスピーカ４、通信手段５、駆動制御手段６を埋設した構成である。 - 特許庁 - After patterning a wiring pattern 2 and a connection terminal 3 with positive type photosensitive resist 6 on an insulating substrate 1, the photosensitive resist 6 on the wiring pattern 2a covering the connection terminal 3 part and solder resist 4 is removed selectively thus forming the solder resist 4.
絶縁基板１上にポジ型の感光性レジスト６で配線パターン２と接続端子３をパターニングした後、接続端子３部およびソルダーレジスト４を被覆する配線パターン２ａ上の感光性レジスト６を選択的に除去した後、ソルダーレジスト４を形成する。 - 特許庁 - To provide a film manufacturing method in which a bank can be formed by a simpler process without requiring a patterning process by a printing method or a lithography and minuteness of the patterns and reduction of the material usage can be achieved.
本発明の目的は、印刷法またはフォトリソグラフィによるパターニング工程を要せずに、より簡単なプロセスでバンクを形成することができ、これによりパターンの微細化および材料使用量の低減化を図ることができる膜製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pixel electrode and its formation method by which the very fine patterning of the pixel electrode is attained and the change of characteristics and the degradation of transmissivity due to the influence of gas and moisture is prevented, and to provide an optoelectronic device and electronic apparatus provided with the pixel electrode.
画素電極についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、画素電極とその形成方法、およびこの画素電極を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁 - The patterns 8 for process monitor are formed by ion milling processing with the same stage as the stage for previously forming the film having an ion milling rate higher than that of the MR elements 6 to a film thickness thicker than the film thickness of the MR elements 6 and patterning the MR elements 6.
加工モニタ用パターン８は、磁気抵抗効果素子６よりもイオンミリングレートが大きな膜を磁気抵抗効果素子６の膜厚よりも厚く形成しておき、磁気抵抗効果素子６をパターン化する工程と同じ工程でイオンミリング処理によってパターン形成する。 - 特許庁 - Patterning to a photoresist layer formed on a crystal substrate is performed on a front side and a rear side in respectively different steps and further, before developing a photoresist layer on one side, a photoresist layer formed on another side is covered with a protecting film which is immune to a developer.
水晶基板に形成したフォトレジスト層へのパターニングを表面側と裏面側をそれぞれ別の工程で行い、更に一方の面のフォトレジスト層を現像する前に、他方の面に形成されたフォトレジスト層を現像液に耐性のある保護膜で覆う。 - 特許庁 - In this semiconductor device, a defect detecting conductor wiring 1 is formed on the topmost layer 3a in multilayer wiring structure, and then conductor wirings 10, 11, 12 are formed on the topmost layer 3a in multilayer wiring structure or the second layer 3b at a minimum design interval capable of adjacently patterning.
多層配線構造の最上層３ａに欠陥検出用導体配線１を形成し、それに隣接してパターニング可能な最小設計間隔で多層配線構造の最上層３ａ又は２層目３ｂに導体配線を１０、１１、１２を形成する。 - 特許庁 - The method accomplishes patterning of a micron order and uniaxial orientation of a one dimensional conjugated oligomer simultaneously and comprises adding at least a surface active agent to the solution of an oligomer molecule having a π-conjugated system developed in the direction of the longitudinal axis of the molecule and impressing a magnetic field on the solution.
一次元共役系オリゴマーのパターニングと一軸配向を同時に実現する方法であって、分子長軸方向に発達したπ共役系をもつオリゴマー分子の溶液に、少なくとも表面活性剤を添加し、磁場を印加することとする。 - 特許庁 - Primary conductive film patterns 56a symmetrical to each other form secondary conductive film patterns 66 on the primary conductive film patterns 56a formed on the active region 51, and then form the secondary conductive film patterns 66 and primary conductive film patterns 56a by sequencial patterning.
互いに対称である第１導電膜パターン５６ａは、活性領域５１上に形成された第１導電膜パターン５６ａ上に第２導電膜６６を形成し、第２導電膜６６と第１導電膜パターン５６ａを順次にパターニングして形成する。 - 特許庁 - A thin-film capacitor wherein a metal oxide of perovskite crystal structure is used as a dielectric layer is formed on a first substrate, which is then transferred on a second substrate where an electronic circuit is formed, for patterning and electric connection of the thin-film capacitor.
ペロブスカイト結晶構造を有する金属酸化物を誘電体層とする薄膜コンデンサを第１の基板上に形成し、その後、電子回路が形成された第２の基板上に転写した後、上記薄膜コンデンサのパターニング、電気的な接続を行う。 - 特許庁 - An organic EL panel 100 is prepared by patterning organic EL elements optimum for respective monochromatic colors of three primary colors RGB into stripes, and beams 107 of monochromatic colors RGB from the panel 100 are adjusted by a liquid crystal panel 108 to obtain output beams 110 of monochromatic colors RGB.
３原色ＲＧＢそれぞれの単色に最適な有機ＥＬ素子をストライプ状にパターン化した有機ＥＬパネル１００からの各単色ＲＧＢ光１０７を液晶パネル１０８で調光して各単色ＲＧＢ出力光１１０とする。 - 特許庁 - The intersecting point array is manufactured in a roll-to-roll environment utilizing a plastic web in accordance with an improved embossing lithographic technique which provides required high precision and high throughput and conquests the normal limit of the conventional patterning technique.
交点アレイは、必要とされる高精細度および高スループットを提供し、さらに従来技術のパターニング技法の通常の制限を克服する、改善されたエンボス加工リソグラフィ技法に従って、プラスチックウェブを利用するロール・ツー・ロール環境において製造される。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a color-filter substrate which reduces deflection of a photomask by a simple method and forms a plurality of color filters by performing patterning processes, such as pattern exposure and developing, by using the photomask that is fixed and held in a mask holder.
フォトマスクのたわみを簡易な方法で減少させ、マスクホルダーに固定保持さしたフォトマスクを用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A surface channel layer 5, a gate oxide film 6, a gate electrode 7, etc. are sequentially formed, thereafter they are patterned by dry etching, and contact holes for connecting the n+ type source regions 4 to a source electrode are formed simultaneously with the patterning of the gate electrode 7.
さらに、表面チャネル層５、ゲート酸化膜６、ゲート電極７等を順に形成したのち、これらをドライエッチングによってパターニングし、ゲート電極７のパターニングと同時にｎ+型ソース領域４とソース電極との接続を行うためのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - The method for reducing impurities comprises reducing impurities in an organic polymer resin through one of the following processes after patterning and curing an organic polymer resin on a substrate and vaporizing a part of the organic polymer resin by a chemical reaction.
基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、下記（１）〜（３）のいずれかの処理を行うことによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法である。 - 特許庁 - When the pixel electrodes are formed, the first transparent conductive film 151 is formed on a substrate 101 with a TFT and patterning and etching are performed to the first transparent conductive film 151 so that only parts corresponding to the color R and the color G remain.
画素電極の形成の際、まずＴＦＴ付き基板１０１上に第１の透明導電膜１５１が形成され、Ｒ色およびＧ色に対応する部分のみが残るよう第１の透明導電膜１５１にパターニングおよびエッチングが施される。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a dielectric thin film device for solving a problem due to a residual stress actualized when the patterning of a dielectric thin film is performed by using conventional photo-lithography technology, and a problem due to a micro-fine residue.
従来のフォトリソグラフィー技術を用いて誘電体薄膜のパターニングを行った場合に顕在化する残留応力に起因する問題および微小残渣に起因する問題を解消することができる誘電体薄膜デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the TAB tape for semiconductor device, the inner lead 6 and a wiring pattern 5 are formed by patterning a conductor foil 11 by a wet-etching process using an etchant to which an inhibitor constituted of an organic compound or an inorganic compound is added.
本発明の半導体装置用ＴＡＢテープでは、インナーリード６および配線パターン５が、有機化合物または無機化合物からなるインヒビタを添加したエッチャントを用いたウェットエッチングプロセスによって導体箔１１をパターン加工することにより形成されている。 - 特許庁 - To provide an electrostatic capacitance-type input device in which a first electrode, a second electrode, an inter-layer insulating film, a relay electrode, and peripheral wiring can be formed by three times in total of patterning formation and a method for manufacturing the capacitance-type input device.
計３回のパターニング形成によって、第１電極、第２電極、層間絶縁膜、中継電極、および周辺配線を形成することのできる静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for producing a zinc oxide based transparent conductive film forming material, capable of being used for a target for forming a transparent conductive film which has weather resistance while maintaining conductivity sufficient for practical use, and has an appropriate etching rate in patterning.
実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for preparing a photosensitive paste capable of achieving good patterning and capable of forming high reflectance partition walls that contribute toward enhancing luminance and color purity, and to provide a member for plasma display manufactured by using the photosensitive paste and a plasma display.
良好なパターニングが可能であり、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い隔壁の形成が可能な感光性ペーストの製造方法およびその感光性ペーストを用いて作製されたプラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの提供。 - 特許庁 - This can prevent disconnection from being caused by a battery action via a developer in the video signal line, the drain electrode 104, the source electrode 105, and the like, in the case where ITO has a pinhole or the like in patterning the ITO.
これによって、ＩＴＯをパターニングするときに、ＩＴＯにピンホール等が存在する場合に現像液を介した電池作用によって、映像信号線、ドレイン電極１０４、ソース電極１０５等が侵されて断線を引き起こすことを防止することが出来る。 - 特許庁 - A first electrode and a second electrode separated from each other are formed on a substrate and after stacking a silicon layer in which amorphous silicon and polycrystalline silicon exist mixedly by the sputtering method or the chemical vapor deposition method, a semiconductor is formed by patterning the silicon film.
基板上に互いに分離されている第１及び第２電極を形成し、非晶質と多結晶シリコンとが混在するシリコン膜をスパッタリング法または化学気相蒸着法で積層した後、前記シリコン膜をパターニングして半導体を形成する。 - 特許庁 - In an etching process in which an active layer 1a of the semiconductor device is formed on by patterning a polysilicon layer after depositing the polysilicon layers on the insulating substrate 10, front surface of the substrate 10 exposed by removing the polysilicon layer is also slightly etched.
絶縁性の基板１０にポリシリコン層を堆積した後、当該ポリシリコン層をパターニングして半導体装置の能動層１ａに形成するエッチング工程において、当該ポリシリコン層の除去により露出した基板１０の表面も若干エッチングする。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device in which there is no limit with respect to film thickness, and reducing the gate electrode thickness is extremely easy and conductive types are differentiated by only one-time patterning, when a deposited polycrystalline silicon film is doped.
膜厚に対する制限がなくゲート電極の厚さを低減することが極めて容易であり、且つ堆積する多結晶シリコン膜にドーピングを行う際に導電型を作り分けるためのパターニングを１回で済ます半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a lower layer film by which the film reduction of a resist pattern in the upper layer is suppressed and a pattern having sidewalls perpendicular to the film and a good square cross-sectional form can be formed with high resolution and high dimensional accuracy.
下層膜をパターニングする方法において、その上層のレジストパターンの膜減りを抑制するとともに、垂直な側壁を有し、断面が矩形の良好な形状を有するパターンを高い解像度、かつ高い寸法精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive laminated structure capable of forming a fine pattern conveniently by applying a low cost method of high material use efficiency, e.g. printing method, and including a higher mobility semiconductor layer having a high value added function other than patterning.
印刷法のような低コストかつ材料使用効率の高い方法が適用でき、簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有し、より高移動度の半導体層を有する積層構造体を廉価に提供する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning ceramic substrate which effectively prevents a ceramic base substrate from being divided carelessly at ends of split grooves as a starting point, and which can accurately and surely place electronic elements at respective sections partitioned by the split grooves.
セラミック母基板が分割溝の端部を起点にして不用意に分割されることを有効に防止し、それにより分割溝で区分された各区画に電子素子を正確、かつ確実に搭載することが可能な多数個取りセラミック基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a semiconductor memory device and a manufacture thereof capable of finely patterning a polycrystalline silicon film without a portion not being left, and of easily preventing dielectric strength between an erasable electrode and a floating gate electrode.
多結晶シリコン膜が部分的に残ることのない微細化を進めることができ、消去ゲート電極及びフローティングゲート電極間における耐圧劣化を容易に抑制することが可能な半導体記憶装置と、半導体記憶装置の製造方法とを提供する。 - 特許庁 - During scanning, the overall homogeneity of the illumination may be improved by smearing out the inhomogeneities like this in such a way that additional movement is applied to a substrate table of the apparatus and a patterning device selected optionally in a direction at an angle with the scanning movement.
走査中、装置の基板テーブル及び任意選択でパターン形成装置に、走査移動に対しある角度を持った方向に追加の移動を付与することによって、このような不均質部分がぼかされ、照明の全体的な不均質性を改善することができる。 - 特許庁 - A carrier for culturing the cell has a finely processed surface obtained by peeling an ion beam irradiated layer of a highly polymeric material surface formed by patterning ion beams on the surface of the highly polymeric material containing carbon as a constituent element and irradiating the surface therewith.
炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームをパターン化し照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる微細加工表面を有する細胞培養用担体。 - 特許庁 - In the multiple patterning substrate 1, a plurality of substrate regions 2a to 2o to be taken out as substrates are formed, wherein a heating body 6 is provided for the substrate regions 2a to 2o and gaps 3 are formed at peripheral sides of the substrate regions 2a to 2o except for one side.
基板として取り出されるべき基板領域２ａ〜２ｏが複数形成された多数個取り基板１であって、基板領域２ａ〜２ｏには発熱体６が設けられており、基板領域２ａ〜２ｏの一辺を除く周囲の辺には空隙３が形成されている。 - 特許庁 - And also, since the male terminal side member 4 and the female terminal side members 2, 3 are formed with the use of a patterning process and a plating process of resist, a fine connector capable of corresponding to further downsizing of a portable equipment or the like, or wiring connection at an IC level can be obtained.
また、雄端子側部材４と雌端子側部材２、３とをレジストのパターニング工程とめっき工程とを用いて作成したので、携帯機器などの更なる小型化やＩＣレベルでの配線接続に対応可能な微細なコネクタを得ることができる。 - 特許庁 - The method involves a step of being required for using first and second etch mask layers, that are constructed of materials such that the second mask (formed over the first mask) can act as a mask during the patterning of the first mask (bottom mask).
この方法では第１および第２のエッチングマスク層を使用することが必要であり、これらの層は、第１のマスク（下層マスク）のパターン化の際に第２のマスク（第１のマスクの上に形成される）がマスクとしての役割を果たすことができるような材料で構成される。 - 特許庁 - To provide a method for producing a mask blank, to which a high-level quality about defects is required, by reducing the number of high oxide defects in a size of 60 nm or more and less than 150 nm, the defect containing more oxygen than in the surrounding area in a thin film for patterning.
パターン形成用薄膜中のその周囲よりも多く酸素を含有する６０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満の大きさの高酸化物欠陥数を低減させ、高いレベルの欠陥品質を要求されるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition used for patterning due to double exposure, suitably used for a liquid immersion exposure process, such as water, without requiring separate formation of an upper layer film, and which os suitably used for forming a first resist layer.
二重露光によるパターンニングに用いられ、上層膜を別途形成する必要がなく、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられることが可能であり、第一のレジスト層を形成するために好適に用いられる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a reticle for a stepper which can arrange convex portions more uniformly on a substrate which laminates semiconductor layers, and to provide a manufacturing method for a patterning substrate, a manufacturing method for a semiconductor multilayer substrate, and a manufacturing method for a semiconductor light-emitting element, using the reticle.
半導体層を積層する基板上に凸部をより一様に配置しうるステッパー用レチクル、そのレチクルを用いた、パターン加工基板の製造方法、半導体積層基板の製造方法および半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
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