「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 78 79 次へ＞- To provide a cold cathode and its manufacturing method that enable to control the orientation of a field emission electron source capable of decreasing the operating drive voltage and the degree of vacuum of operation and to build up a cold cathode structure having a large-area wherein patterning in a desired shape can be made.
動作駆動電圧、動作真空度が低減可能な電界放出電子源を配向制御することができ、所望の形状にパターニングできる大面積冷陰極構造の構築を可能にする冷陰極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A bonding pad electrode 20, that is connected to the wiring layer 14 via the connection hole 16a by patterning while depositing a conductive material such as Al alloy, is deposited on the upper surface of the substrate, and a connection layer 20A for connecting the electrode 20 to the electrode 18 are formed.
基板上面にＡｌ合金等の導電材を堆積してパターニングすることにより接続孔１６ａを介して配線層１４につながるボンディングパッド電極２０と、この電極２０を電極１８に接続する接続層２０Ａとを形成する。 - 特許庁 - This method for producing the micro-patterning culture substrate 2 includes coating the cell culture substrate 2 with the water-soluble photocurable polymer 3, and then irradiating the water-soluble photo-curable polymer 3 with light via a master pattern 4 and patterningthe water-soluble photo-curable polymer 3 on the cell culture substrate 2.
細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３を塗布し、水溶性光硬化性ポリマー３へマスクパターン４を介して光照射して細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３をパターニングすることで作成される。 - 特許庁 - Because the frame is made of aluminum or a stainless alloy, the mesh is made of a synthetic resin or the stainless alloy and the thin plate is made of the synthetic resin or a metal, excellent water resistance, or the like, is attained even in the case an ink or a coating material for patterning is a water base.
枠がアルミニウム、ステンレス合金であること、メッシュが合成樹脂又はステンレス合金であること、薄板が合成樹脂又は金属であることにより、模様付け用のインク又は塗料が水性の場合において、耐水性などに優れたものとなる。 - 特許庁 - A halftone/shading layer 2 consisting of a zirconium oxide film having the same film thickness as the film thickness of shading regions is formed by reactive sputtering, etc., on a transparent substrate 1 and is subjected to a patterning treatment by dry etching, etc., by which the shading regions 2a and a translucent layer 2c is formed.
透明基板１上に遮光領域膜厚と同じ膜厚を有する酸化ジルコニウム膜からなるハーフトーン兼遮光層２を反応性スパッタ等で形成し、ドライエッチング等にてパターニング処理して遮光領域２ａ及び半透明層２ｃを形成する。 - 特許庁 - A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.
本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁 - To provide frame plating method for forming a plated film by using a mold formed with a patterning of resist, which can easily and surely prevent falling down of a resist frame with a high aspect-ratio to form a desired plated film.
本発明は、レジストをパターニングして形成した型を用いてめっき膜を形成するフレームめっき方法に関し、高アスペクト比のレジストフレームの倒れを容易に確実に防止して所望のめっき膜を形成できるフレームめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - After the surface of a wire 3 on a wiring board 1 is changed into roughened surface 4 by chemical etching or the like, a solder resist 6 is coated for patterning on the surface of the wiring board 1, then the solder resist 6 having an opening 7 is cured in an inert gas atmosphere.
化学エッチング法等により配線基板１の配線部３の表面を粗面４とし、その配線基板１の表面上にソルダーレジスト６をパターニングした後、得られた開口部７を有するソルダーレジスト６を窒素等の不活性ガス雰囲気中でキュアする。 - 特許庁 - A halftone material film 11 and a resist film 21 are formed on a transparent substrate 1 consisting of synthetic quartz or the like and the resist film 21 is subjected to a series of patterning procedures such as patternwise exposure and development to form a resist pattern 21a on the halftone material film 11.
合成石英等からなる透明基板１上に、ハーフトーン材料膜１１及びレジスト膜２１を形成し、レジスト膜２１をパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、ハーフトーン材料膜１１上にレジストパターン２１ａを形成する。 - 特許庁 - The method includes coarsely patterning at least one thin-film material (720-740) on a flexible substrate (710) and forming a plurality of thin-film elements on the flexible substrate (710) with a automatic-aligning imprint lithography (SAIL) process.
本発明の方法は、可撓性基板（710）上で少なくとも１つの薄膜材料（720〜740）を粗くパターン形成すること、及び自動位置合わせインプリントリソグラフ（SAIL）工程を利用して、可撓性基板（710）上に複数の薄膜素子を形成することからなることを特徴とする。 - 特許庁 - A plurality of supply terminals 28, used for supplying power to a semiconductor element 3, are formed by patterning an output side electrode layer S2, and the supply terminals 28 are connected to the power supply layer 25 by a via 26 for capacitors.
半導体素子３への電源供給に用いる複数の電源供給端子２８を出力側電極層Ｓ２をパターニングすることにより形成するとともに、これらの電源供給端子２８をキャパシタ用ビア２６によって電源層２５と接続する。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of the cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - A fine particle string 14 formed of fine particles 13 of a nano meter size is deposited, whereby in manufacturing the nano device, a solution containing the fine particles 13 is brought into contact with the substrate 11 in which a patterning layer 12 with a predetermined film thickness is partially formed.
ナノメータサイズの微粒子１３からなる微粒子列１４を堆積させることにより、ナノデバイスの作製する際に、所定の膜厚で構成されるパターニング層１２が部分的に形成されてなる基板１１に対して微粒子１３を含む溶液を接触させる。 - 特許庁 - To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.
ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁 - The process of forming the bank B has a process of forming a plurality of layers B1, B2 made of an inorganic material, a process of patterning these plurality of layers B1, B2 by using an organic mask R and a process of removing the organic mask R.
本発明においては、バンクＢの形成工程は、無機質の材料からなる層Ｂ１，Ｂ２を複数層形成する工程と、これら複数の層Ｂ１，Ｂ２を有機マスクＲを用いてパターニングする工程と、有機マスクＲを除去する工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a method for fixing a particulate substance such as a cell to a line-like pattern by patterning a membrane containing a functional substance having affinity for the particulate substance onto the surface of a solid phase carrier and making the particulate substance absorbed on the surface of solid phase carrier.
まず粒子状物質に親和性を有する機能性物質を含む膜を固相担体表面にパターニングし、これに粒子状物質を吸着させることによって、細胞等の粒子状物質をライン状のパターンに固定化する方法を提供すること。 - 特許庁 - To decrease patterning defects by preventing the drying and crystallizing of a processing liquid when separating and removing the processing liquid sticking to a substrate by an air knife and preventing the increase of the concentration of the cyclically used processing liquid by the waste gas of a processing chamber.
基板に付着した処理液をエアナイフで分離除去する際に処理液が乾燥して結晶化するのを防止するとともに、処理室の排気によって循環使用している処理液の濃度が上昇するのを防止し、パターニング不良を低減する。 - 特許庁 - To provide a method of measuring non-labeledly an interaction between the biomaterial and a sugar chain concurrently and all-inclusively at real time, using a micro amount of the biomaterial, and of screening and patterning the biomaterial, from the view point of specificity to the sugar chain.
微量の生体関連物質を用いて、生体関連物質と、糖鎖との相互作用を同時に非標識で、網羅的にリアルタイムで測定し、糖鎖に対する特異性の観点から生体関連物質をスクリーニングする方法やパターニングをする方法を提供する。 - 特許庁 - An interlayer insulating film 17 is formed on the whole surface of a result object on which the gate pattern is formed, and contact holes exposing a gate electrode 9g of the MOS transistor and a specified region of a resistor pattern 9r are formed by patterning the interlayer insulating film 17.
ゲートパターンが形成された結果物の全面に層間絶縁膜１７を形成し、層間絶縁膜１７をパタニングしてＭＯＳトランジスタのゲート電極９ｇ及び抵抗体パターン９ｒの所定領域を露出させるコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - The electric field with the mist focusing effect is generated by the modes of forming an electrode face by a recess (25) such as inverse tapered shape outside of the delivery port (12) and of applying different voltage to each electrode by patterning the electrode in the outside of the delivery port (12).
吐出口（１２）の外側に逆テーパ形状などの凹部（２５）による電極面を形成する態様や、吐出口（１２）の外側に電極をパターニングし、各電極に異なる電圧を印加する態様によってミスト集束効果のある電界を発生させる。 - 特許庁 - An insulating film 104, an amorphous semiconductor film 105 for channel formation, an n-type semiconductor film 106 formed as source and drain regions, and a conductive film 107 formed as source wiring and drain electrode are stacked (Fig. (A)), and then subjected to patterning operation with an identical photomask (Fig. (B)).
絶縁膜１０４、チャネルが形成される非晶質半導体膜１０５、ソース、ドレイン領域となるｎ型の半導体膜１０６及びソース配線及びドレイン電極となる導電膜１０７を積層し（図（Ａ））、同一のフォトマスクにてパターニングする（図（Ｂ））。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method in which a polymer EL element of high quality can be manufactured by improving the accuracy and by improving adhesiveness with a transcribed board 7 in patterning and transcription of an ink layer 2 using a relief reversed off-set method.
凸版反転オフセット法を用いたインク層２のパターニングおよび転写において、その正確性を向上させ、かつ、被転写基板７との密着性を向上させることにより、高品質の高分子ＥＬ素子を製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a film deposition device or film deposition system by which highly accurate substrate alignment for accurate patterning can be applied to a large-sized substrate especially having a side having a length exceeding 1 m without depending on a pressure state of an inner part of a vacuum chamber.
本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element, capable of surely carrying out patterning of a coating of a display function material on a blanket, and surely forming and transferring a pixel pattern formed on the blanket to a transfer substrate, with the use of a letterpress reverse printing method.
凸版反転印刷法により、ブランケット上の表示機能性材料の塗膜のパターンニング、ブランケット上に形成された画素パターンを基材への転写基板に画素パターンを確実に形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法提供する。 - 特許庁 - The fixed pins 3 are disposed at positions, as viewed in a flat plane, which overlap on an outer peripheral edge L1 located outside the effective area of the large-sized substrate placed on the substrate placing stage, and are also disposed at positions which overlap on a cut scheduled line L2 where the large-sized substrate is subjected to two-face patterning.
この固定ピン３の平面視での位置は、この基板載置ステージに載置される大型基板の有効エリア外となる外周縁Ｌ１に重なる位置に配置され、また大型基板を２面取りする裁断予定線Ｌ２に重なる位置にも配置されている。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescence display device for improving the characteristics of an element by patterning a multilayer organic film by a heat transfer system, optimizing thickness for each of R, G, and B pixels, and using a B emission layer as a common layer, and to provide a method for manufacturing the organic electroluminescence display device.
多層の有機膜を熱転写方式によりパターニングし、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素ごとに厚さを最適化させ、Ｂ発光層を共通層として用い、素子の特性を向上させられる有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁 - The electrolytic copper foil for fine patterning is produced by cold rolling an original electrolytic copper foil, exposing crystal grains having grain size of not larger than 2 μm over the entire surface, and not smaller than 2% for manufacturing degree, thereby smoothing the foil surface.
ファインパターン用電解銅箔であって、平均粒径２μm以下の結晶粒が全面に渡り表出している電解銅箔の未処理銅箔を原箔とし、２％以上の加工度の冷間圧延加工を行い該箔表面を平滑化したことを特徴とする。 - 特許庁 - A thermally crosslinked positive photosensitive material layer (first positive photosensitive material layer) and a second positive photosensitive material layer are formed on a substrate and then the second positive photosensitive material layer is patterned followed by patterning of the first positive photosensitive material layer.
基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層（第１のポジ型感光材料層）と第２のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第２のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第１のポジ型感光性材料層にパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturable when a method for patterning a semiconductor layer by a difference in level of a barrier plate pattern is applied to manufacturing of a bottom-gate/top-contact type organic TFT where a source electrode and a drain electrode are formed by using a printing method.
隔壁パターンの段差によって半導体層をパターニングする方法を、印刷法を用いてソース電極およびドレイン電極を形成するボトムゲート・トップコンタクト型の有機ＴＦＴの作製に適用して作製可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of removing laser processing residues and an apparatus for removing laser processing residues with improved burr removal efficiency by bringing burrs generated by laser processing in a patterning step into contact with the tip end parts of brushes of cleaning rolls without fault and thus reliably removing the burrs.
パターニング工程においてレーザ加工によって発生するバリとクリーニングロールのブラシ先端部との接触を洩れなく行い、バリを確実に除去し得て、バリ除去率を向上したレーザ加工残渣の除去方法およびレーザ加工残渣の除去装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a film carrier tape that reduces the full-etching warping or curling of a conductive layer which becomes one of the warping indexes of the conductive layer at the time of patterning the conductive layer by widening the selection width for the chemical structure of a polyimide film, and also to provide a method of manufacturing the tape.
ポリイミドフィルムにおける化学構造の選択の幅を広げ、導電層にパターニングを行った際の、反りの指標の一つとなる導電層フルエッチング時のそりやカールを低減させることができるフィルムキャリアテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, after a surface channel layer 5, a gate oxide film 6, a gate electrode 7, etc., are formed in order, these are patterned by dry etching a contact hole for connecting the region 4 and a source electrode is formed simultaneously with patterning of the electrode 7.
さらに、表面チャネル層５、ゲート酸化膜６、ゲート電極７等を順に形成したのち、これらをドライエッチングによってパターニングし、ゲート電極７のパターニングと同時にｎ^+型ソース領域４とソース電極との接続を行うためのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method with a high yield suppressing a defect at a multi-layered connection position in manufacturing a multi-layer POP structure semiconductor device by multi-layering the semiconductor device in the state of a multiple patterning wiring substrate package, and thereafter cutting it by collective cutting.
多数個取り配線基板実装パッケージの状態で多層化し、その後、一括切断による個片化をおこなって多層ＰＯＰ構造半導体装置を製造するとき、多層化接続個所での欠陥を抑止した、高歩留りでの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the analog capacitive element added to a DRAM cell part, a lower electrode 5 is formed with a gate electrode 4, the side wall insulating film 9 of a connection hole with a capacity insulating film 10 and an upper electrode 12 with a bit line by common materials/patterning.
ＤＲＡＭセル部に対して、付け加わるアナログ容量素子を、下部電極５はゲート電極４と、接続孔の側壁絶縁膜９は容量絶縁膜１０と、上部電極１２はビット線と、それぞれ共通の材料・パターニングにより作製する構造とする。 - 特許庁 - After formation of a thick resin film 5 and an upper layer contact hole 51 that penetrates the film, formation of a lower layer contact hole 41 that penetrates a gate insulation film 15 and patterning of an ITO film for the purpose of forming a transparent pixel electrode are performed all together, under one resist pattern 8.
厚型樹脂膜５及びこれを貫く上層コンタクトホール５１の形成後に、一つのレジストパターン８の下で、ゲート絶縁膜１５を貫く下層コンタクトホール４１の作成と、透明画素電極形成のためのＩＴＯ膜のパターニングとを一括して行う。 - 特許庁 - To provide a method capable of manufacturing elements with high yield by carrying out patterning simply and in high precision on a flexible board, and to provide a manufacturing method of a display device capable of displaying in high definition while having flexibility by using the same.
可撓性基板上に簡単且つ高精度にパターニングを行って高い歩留りで素子を製造することができる方法、及びそれにより可撓性を有するとともに高精細な表示を行うことができる表示装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - The method of this invention for manufacturing a display device, in which at least a first electrode film (11), a light emitting film (13) and a second electrode film (14) are formed on a substrate (10), and has a feature of patterning at least any of the films by means of laser etching.
本発明の表示装置の製造方法は、基板上(10)に少なくとも第１の電極膜(11)、発光膜(13)及び第２の電極膜(14)を形成してなる表示装置の製造方法において、少なくともいずれかの膜をレーザエッチングによってパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁 - In this production method of the integrated circuit, the step parts in the integrated circuit are reduced by providing a step for sticking a first conductive material layer 14 on a first inductive material layer 12 and a step for forming a first conductive pattern 15 by patterning the first conductive material layer 14.
第一の導電材料層１４を第一の誘電材料層１２の上に付着するステップと、第一の導電材料層１４をパターン化して第一の導電性パターン１５を形成するステップとを備える、集積回路中の段部を少なくする、集積回路の製造方法である。 - 特許庁 - The manufacturing method of the RF power detecting device comprises a step of forming the sensor section for detecting power of the RF signal in the lower substrate; a step of patterning the signal transmission line on the upper substrate; and a step of bonding the upper substrate and lower substrate to each other.
本発明によるＲＦパワー検出装置の製造方法は、下部基板にＲＦ信号パワーを検出するためのセンサ部を形成する段階と、上部基板に信号伝送線をパターニングする段階と、前記上部基板と下部基板とを結合する段階とを含む。 - 特許庁 - The coating method consists of a solid coating process for thinly coating one surface with a paint having a transparent feeling, a patterning process for forcibly spraying a high viscosity paint not diluted with a thinner from a spray gun to apply irregular patterns wherein fine lines and spots are mixed and a finish process for applying a clear paint to bake the same.
透明感のある塗料を一面に薄く塗るベタ塗り工程と、シンナーで希釈しない高粘度の塗料をスプレーガンから強制的に吹き付けて、細かな線と点が混ざった不規則な模様をのせる模様付け工程と、クリアを塗って焼き付ける仕上げ工程とから成る。 - 特許庁 - At the coating starting part, the timing of paste discharge and the timing of starting relative movement of a die head 12 and a substrate 11 are controlled so as to eliminate a region where the coating film thickness is unstable and carry out patterning while stably keeping a prescribed coating film thickness uniform from the coating starting point.
塗布始端部においては、液送ポンプ１４のペースト吐出とダイヘッド１２と基材１１の相対移動開始のタイミングを制御することにより、塗布膜厚の不安定領域をなくし、塗布開始位置より所定の塗布膜厚を安定して均一にパターニングする。 - 特許庁 - To provide a thermosetting resin composition which can be forming a highly flat cured film on a substrate, even on a substrate with low surface flatness, and be suitably used for manufacturing a protective film of a color filter which is highly transparent and enables good patterning of a wiring electrode.
表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性が高く、配線電極のパターニング特性が良好なカラーフィルタの保護膜を製造するために好適に用いられる熱硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The polyamic acid achieves thick film formation and high resolution patterning because of its low molecular weight, and since the ethynyl or ethynylene group becomes a reactive crosslinking portion and causes three-dimensional crosslinking in heat imidation, the strength of the resulting film can be enhanced.
このポリアミド酸は、低分子量であるため、皮膜を厚膜で形成して、高解像度でのパターン化を実現することができ、また、加熱イミド化時には、エチニル基またはエチニレン基が反応性の架橋部位となって３次元架橋するので、得られる皮膜の強度を向上させることができる。 - 特許庁 - The resin composition is prepared by compounding a thermosetting resin with additives such as a filler, a patterning material, an internal mold release agent, a curing agent, etc., and is poured into a casting mold to be molded and hardened, giving an artificial marble molding.
熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合して得られる樹脂組成物で、これを注型用金型に注入して成形硬化させることにより人造大理石成形品を製造するのに用いる人造大理石製造用の樹脂組成物である。 - 特許庁 - In the method of manufacturing a thin film transistor, a thin film having a three-layer (first metal layer 38/ITO layer 40/second metal layer 42) structure is used simultaneously as a source electrode, a drain electrode and a pixel electrode to thereby omit the via forming step and the patterning for forming the pixel electrodes.
薄膜トランジスターの製造方法において、３層（第１金属層３８/ＩＴＯ層４０/第２金属層４２）構造の薄膜を、ソース電極とドレイン電極、および画素電極として同時に使用することにより、ビアホール形成工程と、画素電極形成のためのパターンニングを省略する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board of which patterning accuracy is never lowered and which hardly causes pattern defects even if a pattern pitch becomes very small, and which allows the reduction in size of manufacturing facilities relatively easily and can make the lead time relatively short.
フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁 - The method includes growing a nitride semiconductor layer on a GaN substrate having a non-polar or semi-polar crystal plane, the upper surface of which has a predetermined angle of intersection with respect to the c plane, patterning the nitride semiconductor layer, and forming light emitting cells separated from one another.
この方法は、上部表面がｃ面に対して一定の交差角をなす非極性または半極性の結晶面を有するＧａＮ基板上に窒化物半導体層を成長させ、前記窒化物半導体層をパターニングし、互いに分離された発光セルを形成することを含む。 - 特許庁 - To provide a donor film allowing the patterning of an organic LED layer by a transfer method by preventing a problem that a transfer layer is transferred to a substrate even in a part not irradiated with laser or a part without radiating heat thereof, in a transfer process.
転写工程において、レーザーを照射していない部分または熱を放射していない部分でも、転写層が基板に転写されてしまうといった問題を防止し、転写法による有機ＬＥＤ層のパターン化が可能となるドナーフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element having an organic layer and a pattern-like insulating layer formed between electrodes, wherein patterning of the insulating layer is easy, and there is no risk of exerting a bad influence on the organic layer when forming the insulating layer.
電極の間に有機物層とパターン状絶縁層とが形成されている有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - One of the anode and cathode of a chip-shaped solid electrolytic capacitor with an electrode substrate as an electrode or both of them are configured of two independent conductive boards, and a fuse element for connecting the both independent conductive boards is formed by patterning.
電極基板を電極としたチップ状固体電解コンデンサの陽極と陰極のうちどちらか一方、または両方がそれぞれ二つの独立した導電板からなり、独立した両導電板を接続するためのヒューズ素子をパターニングすることにより形成させることを特徴とする。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
