「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 66 67 68 69 70 71 72 73 74 .... 78 79 次へ＞- The drain electrode 127 and the source electrode 128 of the TLPM 100, the drain electrode 227 and the source electrode 228 of the NMOS 200 and the drain electrode 327 and the source electrode 328 of the PMOS 300 are formed by patterning the same metal wiring layer.
また、ＴＬＰＭ１００のドレイン電極１２７およびソース電極１２８、ＮＭＯＳ２００のドレイン電極２２７およびソース電極２２８、ならびにＰＭＯＳ３００のドレイン電極３２７およびソース電極３２８を同一のメタル配線層のパターニングにより形成する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁 - Then, when etching is started by using oxygen plasma etching in the vertical direction, the thin film 38 of a silicon oxide by oxygen plasma is formed on the surface of the patterned resist layer 37, and the cutting of a groove 47 and patterning in the resin layers 35, 36 is performed by using the silicon oxide layer 38 as a mask.
その後、垂直方向に酸素プラズマエッチングを用いてエッチングを開始すると、パターニングされたレジスト層３７は表面に酸素プラズマにより酸化シリコンの薄膜３８を作り、この酸化シリコン層３８をマスクとして、樹脂層３５および３６に溝４７を掘り、パターニングする。 - 特許庁 - To provide a lid material by which patterning of parts needing adherence and parts not needing the adherence can be freely carried out without causing the complication of operation and which exhibits stable adhesiveness and easy peelability to a bottom material, a method for manufacturing the lid material, and a method for easily peeling the lid material.
粘着性の必要な部分と不要な部分とのパターニングを作業の煩雑化等を招くことなく自在に行うことができ、しかも、底材に対して安定した接着性と易剥離性とを示す蓋材、該蓋材の製造方法、及び該蓋材の易剥離方法を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, a partial cover plating layer 20 is formed in the opening 30a of the first resist 30 and after removing the first resist 30, the partial cover plating layer 20 is covered entirely and a second resist 32 for patterning the through hole plating layer 16 is formed.
続いて、第１レジスト３０の開口部３０ａに部分カバーめっき層２０を形成し、第１レジスト３０を除去した後に、部分カバーめっき層２０の全体を被覆すると共に、スルーホールめっき層１６をパターン化するためのパターンを備えた第２レジスト３２をそれぞれ形成する。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the probe needle having the beam and a contact disposed at the tip of the beam, an Si wafer 20 is prepared, a seed layer 21 is formed on the Si wafer 20, and a groove having a desired shape of the beam is formed on the layer by patterning a photo resist 23.
梁と、梁の先端部に設けられるコンタクタとを有するプローブ針の製造方法は、Ｓｉウエハ２０を準備し、Ｓｉウエハ２０の上に、シード層２１を形成し、その上にフォトレジスト２３をパターニングすることにより、梁の所望の形状を有する溝を形成する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board capable of preventing a mother board from accidentally cracking and reducing probability of burrs occurring on a wiring board when splitting, and to provide a package for storing electronic component with high accuracy of external dimensions and reliability, and an electronic device.
母基板が不用意に割れたりするのを防止するとともに、分割した際に配線基板にバリが発生する可能性を低減した多数個取り配線基板を提供し、外形寸法の精度や信頼性の高い電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供すること。 - 特許庁 - A belt-like admixture 31 is passed in turn through pattern forming portions 15-17 comprising calender rolls 11-14 to thereby be formed into a sheet 32 having even thickness; which then it is transferred to a form-patterned roll 20 in order to simultaneously form space patterns 34 for punching operation by space pattern forming projections 25 along with patterning operation.
ベルト状の混和物３１を、カレンダーロール１１〜１４からなる絞り成形部１５〜１７に順に通して、厚みを均一化したシート３２に成形し、型入れ紋付けロール２０に移して、紋付けとともに、予備紋形成型２５により穿孔するための予備紋３４を同時に形成する。 - 特許庁 - A light shielding resist layer 2 is applied to the surface of glass board material 1 by a spin coating, and is irradiated with patterning light through a predetermined photomask to be exposed, then a photosensitive area of the light shielding resist layer 2 is dissolved by a solvent, developed and baked, thereby forming the light shielding resist layer 2 having a predetermined pattern.
ガラス基材１の表面に遮光レジスト層２をスピンコートによって塗布し、所定のフォトマスクによってパターン光を照射して感光させ、遮光レジスト層２の感光領域を溶剤で溶解して現像し、ベーキングして所定のパターンを有する遮光レジスト層２を形成する。 - 特許庁 - A mask material layer 44 is formed on a substrate 31 composed of a silicon substrate 42 and a monocrystalline silicon device layer 43 interposing an internal layer 41 of silicon dioxide therebetween (Fig. A), and a mask 45 having the same pattern of the flat shape of a target optical device is formed by patterning the mask material layer 44.
二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁 - The functions of a protective layer and the alignment layer can be simultaneously performed by patterning the pixel electrode on a source and a drain electrodes and then immediately vapor-depositing polyimide resin on the entire surface of the pattern from a stage for forming a substrate to a stage for forming the alignment layer in the manufacturing process of the liquid crystal display device.
本発明によると、液晶表示装置の製造過程の中、基板から配向膜まで形成する段階でソース及びドレイン電極上に画素電極をパターンニングしてすぐポリイミド樹脂を全面蒸着することで保護層及び配向膜の機能を同時に遂行できるようになる。 - 特許庁 - By the above, since oxidation/reduction reaction and dendrite formation reaction are generated only in the recess formed by surface patterning of the anode current collector, volumetric expansion and contraction of a battery cell due to the change of the thickness of the lithium anode is restrained, and cycle stability and life property are improved.
これにより、負極集電体の表面パターニングによって形成されたリセス内だけで、リチウムの酸化／還元及びデンドライト形成反応が起こるので、リチウム負極の厚さの変化による電池セルの体積膨脹及び収縮が抑制され、サイクル安定性及び寿命特性が向上する。 - 特許庁 - In a patterning method by immersion lithography, a protective coating film is formed on a photoresist layer formed on a wafer, from a resist overcoat material, developing is performed after exposing the layer structure to light in water, wherein a water-insoluble, alkali-soluble material is used as the resist overcoat material.
ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト上層膜材料による保護膜を形成し、水中で露光を行った後、現像を行う液浸リソグラフィーによるパターン形成方法において、上記レジスト上層膜材料として非水溶性でアルカリ可溶性の材料を用いる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an EL element, in which a problem such as swelling out or eluting out of a buffer layer is not generated even when manufacturing the EL element which has both the organic EL layer, by which patterning is carried out by the photo lithography method, and the buffer layer.
本発明は、フォトリソグラフィー法によりパターニングされる有機ＥＬ層とバッファー層とを共に有するＥＬ素子を製造する場合でも、バッファー層が膨潤もしくは溶出するといった問題が生じることのないＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device suppressing process increase such as patterning, reducing an inter-wiring capacity, superior in adhesion and mechanical strength with a dispersion barrier film covering a wiring material and superior in manufacture of an insulating film, and to provide the semiconductor device.
パターニングなどの工程増を抑制し、配線間容量を低減させるとともに、配線材料を被覆する拡散バリア膜との密着性や機械的強度にも優れ、絶縁膜の加工性にも優れた半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a thermal head in which finer patterning is dealt with high pattern accuracy at the time of forming a common electrode and high efficiency print heating can be ensured while eliminating uneven print density even when a low voltage driving printer is used for printing by lowering the wiring resistance between layers.
共通電極を形成する場合に、高微細化に対応しパターン精度が良く積層間での配線抵抗を低く抑える事により、低電圧駆動プリンタでの印字の際にも印字濃度ムラを解消し、かつ高効率の印字発熱効率を行えるようにする。 - 特許庁 - To provide a resin a resin which favorably hydrophobilizes the surface of resist film to improve the followability of immersion liquid in patterning by immersion exposure and which exhibits an effect of preventing coating defect and development defect and to provide a method for production of the resin, and to provide a positive resist composition containing the resin.
液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - Thereby, only the second relay layer 400 and the pixel electrode 9aa can be reliably electrically connected without being affected by formation accuracy of the contact hole 85 and patterning accuracy of the second relay layer 400 extended from the contact hole 85 along the surface of a third interlayer insulating film 43.
これにより、コンタクトホール８５の形成精度及びコンタクトホール８５から第３層間絶縁膜４３の表面に沿って延びる第２中継層４００のパターニング精度等に影響されることなく、確実に第中継層４００及び画素電極９ａａのみを電気的に接続できる。 - 特許庁 - When a "coarse" region LD is generated during wiring patterning, as shown in Fig. (a), the shape of a variable shape-wiring region 136a, 130b is deformed such that they fit to one another, and the space between the both cell regions A and B is reduced, as shown in Fig. (b).
図１０(a)に示すように配線パターン中、密度が「疎」である領域ＬＤが生じると、同図(b)に示すように、相互に嵌めあうように形状可変−配線領域１３６ａ，１３０ｂの形状が変形され、両セル領域Ａ，Ｂ間の間隔が短縮される。 - 特許庁 - Before forming a patterned lower electrode and a first wiring layer, that is, in a state where a first conductive film is formed on the entire surface, an insulation film for capacitance formation and a second conductive film are successively deposited, then patterning is performed and an upper electrode and a capacitive insulation film are formed.
パターニングされた下部電極及び第１の配線層を形成する前に、つまり第１の導電膜が全面に形成されている状態で、容量形成用絶縁膜及び第２の導電膜を順次堆積した後、パターニングして上部電極及び容量絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - It is therefore capable of preventing the wire that should be left from being etched by the film thickness reduction of the resist 21, and preventing a focus deviation during patterning of the third wiring layer 7 by an exposure machine, thereby preventing the occurrence of linewidth variations of the third wiring layer 7.
したがって、レジスト２１の膜減りによって残すべき配線がエッチングされることを防止できると共に、露光機による第３配線層７のパターニング時のフォーカスずれを抑制でき、第３配線層７の線幅にバラツキが生じることを防止することが可能となる。 - 特許庁 - The steps for forming the diffusion layer includes a step for preparing a roller around which a master film is wound, a step for applying a coating liquid to the base film, a step for forming the diffusion pattern by patterning the coating liquid applied to the base film by the roller, and a step for curing the diffusion pattern.
拡散層を形成する段階は、マスターフィルムが巻かれたローラーを準備する段階、ベースフィルムにコーティング液を塗布する段階、ベースフィルムに塗布されたコーティング液をローラーでパターニングして拡散パターンを形成する段階、及び拡散パターンを硬化させる段階を含む。 - 特許庁 - To enable many kinds of cells to be cultured in the same layer, to enable the patterning at a line width of a capillary vessel, to enable a structure to be controlled two-dimensionally (in the membrane direction) and three-dimensionally (in the thickness direction) by nano-scale, and to enable only the cells to be separated evenly from a base material.
本発明の目的は、多種類の細胞を、同一層内で培養を可能にし、毛細血管の線幅でパターニングでき、かつ二次元的（膜面方向）にも三次元的（膜厚方向）にも構造がナノスケールで制御でき、基材から細胞のみを均等に剥離することにある。 - 特許庁 - After forming successively a silicon oxide film, a polysilicon film, an ON film, and a polysilicon film on the respective polysilicon layers 61-63, a control gate electrode 4, a capacity insulation film 17, a floating gate electrode 50, and a tunnel oxide film are formed by patterning them so that they extend over the respective polysilicon layers 61-63.
各ポリシリコン層６１−６３の上にシリコン酸化膜，ポリシリコン膜，ＯＮ膜，ポリシリコン膜を順次形成した後、パターニングして、制御ゲート電極４，容量絶縁膜１７，浮遊ゲート電極５０，トンネル酸化膜を、各ポリシリコン層６１−６３に跨って形成する。 - 特許庁 - A method for manufacturing a solid state imaging element comprises the steps of sequentially forming a first polysilicon film 152A and a first silicon oxide film 154A on a silicon substrate 100A via a transfer gate insulating film 150, then dry etching or the like via a photomask 160, and patterning the film 154A and the film 152A together.
シリコン基板１００Ａ上に転送ゲート絶縁膜１５０を介して第１ポリシリコン膜１５２Ａ、第１シリコン酸化膜１５４Ａを順次成膜した後、フォトマスク１６０を介してドライエッチング等を行い、第１シリコン酸化膜１５４Ａと第１ポリシリコン膜１５２Ａとを併せてパターニングする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of retaining suitability to patterning excellent in both sensitivity and resolution even when the amount of a photosensitive agent blended is reduced so as to obtain a light- colored polyimide resin film after imidation and to provide a circuit board with an insulating film obtained from the photosensitive resin composition.
イミド化後に淡色のポリイミド樹脂の皮膜を得るために、感光剤の配合量を低減しても、感度、解像度ともに優れたパターンニング性を保持することのできる、感光性樹脂組成物、および、その感光性樹脂組成物から得られる絶縁層を有する、回路基板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of conducting patterning for forming a connection hole and an wiring groove by one lithography step by suppressing the complexity of a manufacturing step and using no mask which requires difficult manufacturing and a long manufacturing time.
製造工程が複雑になるのを抑制するとともに、製造が困難で製造に時間がかかるマスクを用いることなく、１回のリソグラフィ工程により接続孔および配線溝を形成するためのパターニングを行うことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a coloring composition for a color filter which is free from the occurrence of wrinkles and has an excellent patterning characteristic with high lightness and high contrast, in display devices such as a liquid crystal display device and an organic EL display, and a color filter using the coloring composition.
液晶表示装置および有機ＥＬディスプレイなどの表示装置において、シワの発生がなく、パターニング特性に優れた高明度、高コントラストなカラーフィルタ用着色組成物の提供、及びこの着色組成物を用いたカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The liquid resin for the base material and one kind or plural kinds of patterning liquid resins are respectively injected in a static mixer from different injection ports and allowed to meet with each other by the mixer element of the mixer to form a confluent mixture which is, in turn, injected in the mold and cured to obtain patterned artificial marble.
基材用の液状樹脂と一又は複数種の模様付け用の液状樹脂をそれぞれ異なる注入口より静的ミキサー内に注入し、該ミキサーのミキサーエレメントで合流させた合流体を成形型に注入して硬化させることにより模様付人工大理石を得る。 - 特許庁 - To obtain a general-purpose semiconductor integrated circuit device by modifying the signal arrangement freely with a re-routing pattern produced through the patterning of a lead frame.
アウターリード部の信号配列を変更するには、ＩＣチップの電極パッドの信号配列を変更するか、金属細線が交差するようなワイヤボンディングを選択することになり、ＩＣチップの再設計、製造するためのフォトマスク類の再作製およびそれらにかかる期間および費用の問題が生じる等の問題が生じる。 - 特許庁 - To provide a hardmask composition for a resist underlayer film that has high etching selectivity, sufficient resistance to multiple etchings, and an antireflective property to minimize the reflectivity between the resist and a lower layer, and a method of patterning a backside material layer on a substrate using the hardmask composition.
エッチング選択性が高く、 多重エッチングに対する耐性が十分であり、レジストと下部層間の反射性を最小化する反射防止能を有するレジスト下層膜用ハードマスク組成物を提供すること、および該ハードマスク組成物を用いて、基板上の裏面材料層をパターン化させる方法を提供すること。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the organic EL display device, a mask made in a given patterning is placed on a substrate by a letterpress reverse printing method, on which a blanket with a uniform functional film coated is pressed, and through an opening of the mask, the functional film on the blanket is formed on the substrate.
有機ELの製造方法において、凸版反転印刷法で、所定のパターニングされたマスクを基板上に設置し、前記マスク上から、均一な機能性膜がコーティングされたブランケットを押圧し、前記マスクの開口部を通して、基板上に前記ブランケット上の機能性膜を形成することにより解決した。 - 特許庁 - The production process of an electromagnetic wave shielding material comprises a step for forming a substrate with a metal thin film using a metal thin film 4 and a resin substrate material 3 by a melting extrusion laminating method, and a step for patterning the metal thin film into mesh by etching and forming a meshed metal thin film.
金属薄膜４及び樹脂基材原料３を用い、溶融押し出しラミネート法により金属薄膜付基材を形成する工程、該金属薄膜をエッチング法によりメッシュ状にパターニングし、メッシュ状金属薄膜を形成する工程、を有することを特徴とする電磁波遮蔽材およびその製造方法とする。 - 特許庁 - Re-synchronism at the time of demodulating data can be performed based on the pattern by patterning repeatedly recorded data itself after a consecutive recording section at the time of recording data and interpolating a synchronizing signal for demodulating data, even when the next re- synchronism signal is not detected, the demodulation of the next frame data is performed accurately.
データ記録の際に、つなぎ記録部から後の記録データそのものを繰り返しパターン化して、データ復調用の同期信号を補間することにより、そのパターンに基づいてデータ復調の際の再同期を可能とし、次の再同期信号が検出されないときでも、次フレームのデータ復調を正確に行う。 - 特許庁 - To provide a surface roughening method for copper foil with which the consumption of an anode electrode is reduced even in roughening treatment at a high current density, the roughening treatment can easily be performed at a high current density, and a fine, roughened plating film capable of corresponding to fine patterning or high frequency can be obtained.
高電流密度での粗化めっき処理においても陽極電極の消耗が少なく、高い電流密度で容易に粗化めっき処理を行なうことができ、ファインパターン化または高周波対応可能な微細な粗化めっき膜を得ることができる銅箔の表面粗化方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a post-ashing treatment solution which prevents the corrosion of metallic wiring and reliably removes residue such as a degenerated photoresist film and a metallic deposition from a substrate subjected a ashing after dry etching under severer conditions in an ultrafine patterning process and a treatment method using the solution.
超微細パターン化プロセスにおけるより過酷な条件のドライエッチング、続いてアッシングが施された基板において、金属配線に対する腐食を防止し、かつホトレジスト変質膜、金属デポジション等の残渣物を確実に除去し得るアッシング後の処理液およびこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁 - To suppress the deposition of foreign matter on the surface of a reticle pattern by removing chemical materials such as ammonia as materials which cause the formation of deposits from the internal space of a pellicle and to provide a pellicle which retains an accurate pattern shape and patterning precision over a long period of time.
析出物形成のための原因物質であるアンモニア等の化学物質を、ペリクル内空間から除去することでレチクルパターン面に対する異物析出を抑制し、これにより、正確なパターン形状を長期にわたって維持し、長期にわたるパターニング精度維持を図ることが可能なペリクルを提供する。 - 特許庁 - After a conductive film formed by scattering high-concentration impurity-containing regions 13 composed of silicon doped with an impurity at a high concentration in a low-concentration amorphous silicon layer 12, coping with the impurity at a low concentration is deposited on the insulating film 11, a lower electrode 15 is formed by patterning the conductive film.
層間絶縁膜１１の上に、シリコンに不純物が低濃度でドーピングされてなる低濃度の非晶質シリコン層１２中に、シリコンに不純物が高濃度でドーピングされてなる高濃度の不純物含有シリコン領域１３を分散させた導電膜を堆積した後、該導電膜をパターニングして下部電極１５を形成する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive laminate film having excellent visibility and hardly emphasized patterning since the difference of optical characteristics between a part where a transparent conductive thin film is present and a part where the transparent conductive thin film is not present when the transparent conductive film is patterned, in an electrode film used for an electrostatic capacitance type touch panel or the like.
静電容量式タッチパネル等に使用される電極フィルムにおいて、透明導電性薄膜がパターニングされた際に、透明導電性薄膜の有る部分と無い部分での光学特性の差が小さいため、視認性に優れ、かつパターニングが強調されにくい透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive dry film achieving fine patterning on a thick film, reducing loss of a coating liquid in a printing method, improving productivity, and having excellent storage stability by using the photosensitive dry film for forming a light-shielding member, which is conventionally carried out by a printing method.
本発明は、従来印刷法で行なっていた遮光部材の形成を感光性ドライフィルムで行なうことにより、厚膜であっても微細なパターニングが実現でき、印刷法のような塗液のロスが少なく生産性がすぐれており、かつ保存安定性が優れた感光性ドライフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method of manufacturing the semiconductor device includes: a step of coating a semiconductor substrate, having a wiring pattern formed, with an oxide film; a step of covering the oxide film with the film to be etched made of a conductive material; and a step of patterning the film to be etched through plasma etching while giving selectivity to the oxide film by adding a compound containing no carbon and containing sulfur.
配線パターンが形成された半導体基板上に酸化膜を被覆する工程と、酸化膜上に導電材料の被エッチング膜を被覆する工程と、炭素を含まず硫黄を含む化合物を添加して、被エッチング膜を酸化膜に対して選択性を持たせつつプラズマエッチングしてパターニングする工程とを含む。 - 特許庁 - The ink composition for precise patterning comprises a volatile solvent, a resin which is soluble in the volatile solvent, and a solid component which is insoluble in the volatile solvent, wherein the ink composition has ink viscosity of 5 mPas or less and surface energy of 25 mN/m or less, and the volatile solvent is preferably a mixture of a quick drying solvent and a slow drying solvent.
インキ粘度が５ｍＰａ・ｓ以下、表面エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以下である精密パターニング用インキ組成物であり、揮発性溶剤と、この揮発性溶剤に可溶な樹脂と、この揮発性溶剤に不溶な固形成分を含有し、揮発性溶剤が速乾性溶剤と遅乾性溶剤の混合物であることが好ましい。 - 特許庁 - Furthermore, a glass mask 15 with an irradiated light amount controlled according to a plane position is used to make patterning in such a way that a plurality of intra-layer lenses including an intra-layer lens 12 on an outermost peripheral circuit region 3 side and an intra-layer lens 12 in the middle part of an effective pixel region 2 will be formed in the same lens shape.
また、照射光量を平面位置に応じて制御されたガラスマスク１５を用いて、最も周辺回路領域３側の層内レンズ１２と有効画素領域２の中央部の層内レンズ１２とを含む複数の層内レンズ１２のレンズ形状が同一になるようにパターンニングを行う。 - 特許庁 - After a lower film of Al-Nd alloy and an upper film of MoW alloy are stacked sequentially on an insulation substrate, a gate line including a gate electrode is formed by patterning the resulting film using an etchant including 50 to 60% of phosphoric acid, 6 to 10% of nitric acid, 15 to 25% of acetic acid, 2 to 5% of stabilizer, and ultrapure water.
絶縁基板の上部にAl-Nd alloyの下部膜とMoW alloyの上部膜を順次に積層した後、５０-６０％範囲のリン酸、６-１０％範囲の硝酸、１５-２５％範囲の酢酸及び２-５％の安定剤とその他に超純水を含むエッチング液でパターニングしてゲート電極を含むゲート線を形成する。 - 特許庁 - After dry etching is performed for patterning the tungsten film 20 and a barrier metal 18, the impurities adhering to the surface of the substrate 10 can be removed, while the etching of the tungsten film 20 and barrier metal 18 exposed on the surface of the substrate 20 is suppressed, when the substrate 10 is cleaned by dipping the substrate 10 in either one or both of liquid chemicals, HCl and NH4OH.
タングステン膜およびバリアメタルをパターニングするドライエッチング後、ＨＣ１、ＮＨ_4ＯＨの一薬液または複数の薬液にシリコン基板を浸漬して洗浄することにより、シリコン基板の表面に露出したタングステン膜およびバリアメタルのエッチングを抑制しつつ、シリコン基板に付着した不純物を除去できる。 - 特許庁 - An etching blocking film 7, a first insulating film 8, a second insulating film 9, and first, second and third mask forming layers, are successively formed on a substrate 1; a third mask 12' having a wiring groove pattern is formed by patterning the third mask forming layer; etching is performed from the third mask 12' to the second insulating film 9; and the connection hole 13 is opened.
基板1上にエッチング阻止膜7、第１絶縁膜8、第２絶縁膜9、第１、第２、第３マスク形成層を順次成膜し、第３マスク形成層をパターンニングして、配線溝パターンを有する第３マスク12'を形成し、第３マスク12'から第２絶縁膜9までをエッチングし、接続孔13を開口する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a transparent conductive tin oxide film in use for a touch panel, a plasma display panel, a liquid crystal display or a solar battery requiring transparent display electrodes, allowing simple and efficient formation of a patterned film of conductive tin oxide without using a resist film.
透明な表示電極を必要とするタッチパネル、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、太陽電池などに用いられる透明導電性酸化スズ膜のパターニング方法に関するものであり、レジスト膜を使用することなく、簡便にかつ効率よく、導電性酸化スズのパターン膜を得る方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an ultraviolet curable cyan ink containing a cobalt blue pigment which is excellent in weatherability and used for patterning by ink jet recording; and to provide a building board which is patterned by the dots of plural colors including cyan dots of the ultraviolet curable cyan ink containing the cobalt blue pigment.
耐候性に優れた、インクジェット記録による模様付けに用いられる、コバルトブルー顔料を含有する紫外線硬化型シアンインクおよびこのコバルトブルー顔料を含有する紫外線硬化型シアンインクによるシアンドットを含む複数色のドットによって模様付けされた建築板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁 - An inter-electrode insulating film 36 covering the first charge transfer electrode 35 is formed while forming a constricted portion 35b which hollows with the oxygen diffusing functional film 33 in the center from a sidewall side 35a constituted by patterning the first and second conductive layers 32 and 34 by thermally oxidizing the first charge transfer electrode 35.
第１電荷転送電極３５を熱酸化させることにより、第１および第２導電体層３２，３４のパターニングされた側壁面３５ａから酸素拡散性機能膜３３を中心に窪むくびれ部３５ｂを形成させながら第１電荷転送電極３５を覆う電極間絶縁膜３６を形成する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
