「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 68 69 70 71 72 73 74 75 76 .... 78 79 次へ＞- A mask M3 for forming gates is disposed on a lower surface of the substrate and light is applied from a lower portion, a shadow generated by a light-shielding region of the mask M3 and that generated by the source and drain electrodes 120, 130 become non-exposure regions of the resist layer 191, and a gate electrode layer is formed by patterning.
基板下面にゲート形成用マスクＭ３を配置して下方から光を照射し、マスクＭ３の遮光領域によって生じる影とソース電極１２０およびドレイン電極１３０によって生じる影とが、レジスト層１９１の非露光領域となるような背面露光を行い、パターニングしてゲート電極層を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist material for manufacturing a substrate having a nanoscale rugged structure by patterning a resin composition applied to the surface of a substrate to be processed by a nanoimprinting method to form a resin layer having a rugged structure and then processing the substrate by a dry etching method using the resin layer as a resist.
被加工基材上に塗布した樹脂組成物をナノインプリント法にてパターニングを行い、凹凸構造を有する樹脂層を形成し、この樹脂層をレジストとしてドライエッチング法にて加工することによりナノスケールの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料を提供すること。 - 特許庁 - In the method, the patterning material is added into a compound in which additives such as a filler, an internal mold releasing agent, and a curing agent are incorporated into a thermosetting resin to obtain the resin composition for molding the artificial marble, and the composition is molded and cured to obtain the artificial marble.
熱硬化性樹脂に充填剤、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合したコンパウンドに柄材を添加して人造大理石成形用樹脂組成物を得て、この人造大理石成形用樹脂組成物を成形硬化させて人造大理石を得る人造大理石の製造方法である。 - 特許庁 - To provide a solar cell excellent in output characteristics by forming a transparent conductive film, a CdS(cadmium sulfide) film and a CdTe(cadmium telluride) film sequentially on a translucent insulating substrate and suppressing thermal damage of an underlying translucent conductive film at the time of patterning the CdTe film by laser scribing.
透光性絶縁基板上に、透明導電膜、ＣｄＳ膜およびＣｄＴｅ膜順次形成し、レーザスクライブ法によりＣｄＴｅ膜をパターニングする際、下地の透明導電膜が熱的なダメージを受けることを抑止し、優れた出力特性の太陽電池を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a liquid drop jet patterning device having a nozzle head with improved maintenance property capable of adjusting jetting positions at every nozzles by making nozzle heads move in the supplemental scanning direction regardless of the inclined revolving angle of the nozzle head by enlarging the variable width of jetting pitch by enlarging the inclinable angle of the nozzle head.
ノズルヘッドのメンテナンス性を高め、ノズルヘッドの傾斜可能角度を大きくして吐出ピッチの可変幅を大きくし、ノズルヘッドの傾斜回動角に関係なくノズルヘッドを副走査方向へ移動させ各ノズル毎に吐出位置の調整を容易にすることができる液滴ジェットパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - A patterning unit 1 is equipped with a chemical seed generating unit 2 which generates chemical seeds from material by irradiating it with a laser beam, a nozzle unit 3 which discharges the chemical seeds generated by the chemical seed generating unit 2, and a movable mechanism 15 which moves the nozzle unit 3 relatively to a base where the chemical seeds are disposed.
材料にレーザー光を照射することによってこの材料から化学種を発生させる化学種発生部２と、化学部発生部２で発生した化学種を吐出するノズル部３と、ノズル部３と化学種が配置される基体との相対的な位置を移動させる可動機構１５とを備えたパターニング装置１。 - 特許庁 - An inter-electrode insulating film 36 covering the first charge transfer electrode 35 is formed while forming a constricted portion 35b which hollows with the oxygen diffusing functional film 33 in the center from a sidewall side 35a constituted by patterning the first and second conductive layers 32 and 34 by thermally oxidizing the first charge transfer electrode 35.
第１電荷転送電極３５を熱酸化させることにより、第１および第２導電体層３２，３４のパターニングされた側壁面３５ａから酸素拡散性機能膜３３を中心に窪むくびれ部３５ｂを形成させながら第１電荷転送電極３５を覆う電極間絶縁膜３６を形成する。 - 特許庁 - To provide a multifunctional optical laminated film using micro-patterning, with which a viewing angle is compensated by simultaneously realizing condensation and diffusion of light.
本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）のバックライトユニットにおける光学積層フィルムに関するものであって、さらに詳しくは光の集光及び拡散を共に具現することによって、視野角を補償し得るようにマイクロパターニングを用いた多機能性光学積層フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a multiple-patterning ceramic wiring board in which a ceramic mother board can be stably and firmly sucked and fixed onto a suction table without shaking while fixing the board onto the suction table for mounting an electronic component, and an electronic component can be accurately and easily mounted in each wiring board region.
電子部品を搭載するための吸引テーブル上に固定した際に、セラミック母基板がぐらつくことがなく吸引テーブルに安定して強固に吸引固定され、各配線基板領域に電子部品を正確かつ容易に搭載することが可能な多数個取りセラミック配線基板を提供すること。 - 特許庁 - In the method of manufacturing a transmissive type optical modulation element, firstly a driving circuit is formed on a Si (silicon) substrate, secondly a film of a transmissive type optical modulation part is formed on the driving circuit and a patterning is performed, then the driving circuit and the transmissive type optical modulation part are transferred from the Si substrate to a transparent substrate.
透過型光変調素子の製造方法において、まず、Ｓｉ（シリコン）基板上に駆動回路を形成し、次に、その上に透過型光変調部の成膜をしてパターニングを行い、その後、前記駆動回路と前記透過型光変調部を前記Ｓｉ基板から透明基板上に転写するようにした。 - 特許庁 - The patterning step for applying an electron beam is provided with a correction step for changing a way of irradiation (irradiation quantity and position) of the electron beam in the respective areas where the structural body of a first wiring layer 1 forming a lower wiring structure exists, in consideration of the structural body on alignment in advance.
電子線を照射するパターニング工程は、下層配線構造を形成する第一配線層１等の構造体の各々が露光に与える影響を予め考慮し、上記構造体の各々の存在領域それぞれについて、上記電子線の照射の仕方（照射量や照射位置等）を変える補正ステップを有する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can form a uniformly thin film having an thickness of not more than 100 nm applicable to lithography using nanoimprint for patterning in not more than 100 nm and can be applied to nanoimprint, and to provide a manufacturing apparatus of an electrolyte film for pattern formation which can realize such a method.
１００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning an organic thin film capable of preventing the surface of an organic semiconductor layer from being damaged, an organic thin-film transistor capable of preventing the surface of the organic semiconductor layer from being damaged and reducing OFF-current and its manufacturing method and an organic electroluminescent display provided with the organic thin-film transistor.
有機半導体層の表面損傷を防止できる有機薄膜をパターニングする方法、有機半導体層の表面損傷を防止し、オフ電流を減少させることができる有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタを備えた有機電界発光表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymer compound suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.
高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the electro-optical device, which includes a process of forming the metallic film on a glass substrate, the glass substrate having the metallic film formed thereon is subjected to heat treatment after formation of the metallic film on the glass substrate and before patterning processing of the metallic film, whereby bend of the glass substrate is relaxed.
ガラス基板上に金属膜を形成する工程を含む電気光学装置の製造方法であって、ガラス基板上に金属膜を形成した後、当該金属膜に対してパターニング処理を行う前に、金属膜が形成されたガラス基板を加熱処理することにより、ガラス基板の反りを緩和することを特徴とする。 - 特許庁 - A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁 - The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.
投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁 - There are provided a process of forming a film of the piezoelectric precursor on a lower electrode, a process of patterning the piezoelectric precursor film into a predetermined shape, a process of obtaining a piezoelectric film by crystallizing the patterned piezoelectric precursor film, and a process of forming an upper electrode onto the piezoelectric film.
下部電極上に圧電体前駆体膜を成膜する工程と、前記圧電体前駆体膜を所定の形状にパターニングする工程と、前記パターニングされた圧電体前駆体膜を結晶化させ圧電体膜を得る工程と、前記圧電体膜上に上部電極を形成する工程と、を備える。 - 特許庁 - The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.
石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁 - In the liquid crystal display, a planarization layer covering pigment dispersion layers 14-R, 14-G, 14-B which are laminated and patterned for each of primary colors R, G, B(red, green, blue) separately and block matrices 13 is provided, and thereon a number of columnar spacer protrusions 11 having uniform dimension of protrusion and distribution are constructed with resin coating and patterning.
Ｒ，Ｇ，Ｂの各原色について別個に積層、パターニングされる顔料分散層１４−Ｒ，１４−Ｇ，１４−Ｂ、及びブラックマトリクス１３を覆う平滑化層１６を設け、この上に、樹脂の塗布及びパターニングによって、突出寸法及び分布の均一な多数の柱状スペーサ突起１１を設ける。 - 特許庁 - To provide a transfer material for forming a circuit, which is to be used for transferring a circuit pattern obtained from patterning a metal foil on an insulating board or ceramic green sheet, which is suitable for the increase in fineness of a circuit pattern, and which can relax the heat pressing conditions and enables to transfer the circuit pattern naturally and stably.
金属箔のパターニングにより得られた回路パターンを絶縁性基板またはセラミックグリーンシートに転写するのに用いられる、回路パターンの微細化に対応することができ、熱プレス条件を緩和でき、かつ回路パターンを無理なくかつ安定に転写することを可能とする回路形成用転写材を提供する。 - 特許庁 - To uniformly bring a pattern formed surface of a mold into pressure contact with the surface to be imprinted of a magnetic recording medium over the entire surfaces for forming a pattern shape which is uniform and has excellent reliability, in a process for performing patterning of a fine shape on a discrete track medium and a patterned medium using an imprint technique.
インプリント技術を用いてディスクリートトラックメディアやパターンドメディアに微細な形状パターニングを行うプロセスにおいて、均一かつ信頼性に優れた形状パターンの形成を行うためには、モールドのパターン形成面と磁気記録媒体の被インプリント面とを全面に渡って均一に圧接することが必要である。 - 特許庁 - Since the electron beam shielding region 11 adheres tightly to the pattern formation layer 2 by the effect of the minute adhesiveness of the minute adhesive layer 14, the electron beam does not enter the region that shields the electron beam from an oblique direction even if an inexpensive general-purpose electron beam irradiation device is used, thereby allowing very fine and high-resolution patterning.
微粘着層１４の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１１が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがなく、高精細、高解像度のパターニングが期待できる。 - 特許庁 - A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.
先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁 - The polarizing element 1 includes: a substrate 11A; a plurality of metal filaments 18A provided on the substrate 11A by patterning a metal film by means of etching; and a deposition film 118 formed in an upper end part of each metal filament 18A, by chemical reaction of an etching gas with an etching product when etching the metal film.
基板１１Ａと、金属膜をエッチングによりパターニングし基板１１Ａ上に設けられた複数の金属細線１８Ａと、金属膜のエッチング時におけるエッチングガス及びエッチング生成物が化学反応することで各金属細線１８Ａの上端部に形成されてなる堆積膜１１８とを備えた偏光素子１である。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an optical element by which the following problem is solved without requiring addition of a new step; even if a polymerizable liquid crystal is cooled after holding at a temperature showing liquid crystal regularity, the liquid crystal recrystallizes between bringing back to room temperature and an exposure/development step and by which patterning is also possible if necessary.
重合性液晶を液晶規則性を示す温度で保持した後冷却しても、常温に戻してから露光／現像の工程までの間に再結晶化する問題があった点を、新たな工程の追加の必要もなく、必要に応じてパターン化も可能な光学素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide an electronic component which comprises enabling its thinning and downsizing as a result of densifying integrated elements, and enhancing Q factor in the element which employs mainly an inductive element such as an inductor and a resonator, as a result of enhancing a patterning accuracy and an interlayer accuracy, and to provide a manufacturing method therefor.
内蔵素子の高密度化が可能となり、その結果、薄型化、小型化が可能となると共に、パターニング精度や層間精度を高くすることができ、インダクタ、共振器等のような主として誘導成分を用いる素子においてはＱ値の高いものが得られる構成の電子部品とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The anode forming process includes a process of forming an insulating film 15 on the anode A after patterning the anode A in a predetermined shape, and further providing the insulating film 15 with an opening to expose the metal, and in the organic layer forming process, the organic layer 10 is formed to come into contact with the metal in the opening.
又陽極形成工程は、陽極Ａを所定の形状にパターニングした後、陽極Ａ上に絶縁膜１５を形成し、更に絶縁膜１５に開口を設けて金属を露出させる処理を含み、有機層形成工程は、開口にて金属と接するように有機層１０を形成する。 - 特許庁 - To provide a structure which increases the degree of freedom of design and not only increases the display area on a liquid crystal device but also miniaturize the device by adopting a structure of a vertical conduction part with which the peripheral part of a display area can be narrowed without being affected by the patterning precision of an alignment layer.
配向膜のパターニング精度に影響されることなく、表示領域の周囲部分の狭幅化を図ることが可能な上下導通部の構造を採用することによって、設計の自由度を増大させ、液晶装置における表示面積の増大と小型化とを両立することができる構造を提供する。 - 特許庁 - To provide a fluorescent converting filter having a fluorescent converting film capable of converting the light of an area from the near ultraviolet area to the green area emitted by a light emitting element to the light of the red area and capable of accurate patterning and showing the excellent display performance, and to provide a color display device having this filter.
発光素子が発する近紫外領域から緑色領域の光を赤色領域の光に変換することができるとともに、高精細なパターニングが可能である蛍光変換膜を有し、優れた表示性能を発揮する蛍光変換フィルタおよび該フィルタを有してなるカラー表示装置を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the nozzle sheet used for an ink-jet head of an ink-jet printer adopts a process of exposing a first photosensitive resin sheet 20 on which a photosensitive liquid repelling film 21 is formed and patterning first nozzles 21a, 20a at the same time on the photosensitive liquid repelling film 21 and the first photosensitive resin sheet 20.
インクジェットプリンタのインクジェットヘッドに用いられるノズルシートは、感光性撥液膜２１が形成された第１感光性樹脂シート２０に露光し、感光性撥液膜２１及び第１感光性樹脂シート２０に一度に第１ノズル２１ａ、２０ａのパターニングを行う工程を採り入れた製造方法とする。 - 特許庁 - To solve the problem that a transistor varies in element characteristics resulting from unevenness in film thickness, patterning precision, etc., of a semiconductor film and a gate insulating film laminated in a manufacturing stage, and a polysilicon transistor further has variance in crystallinity depending upon a crystal growth direction, a defect at a crystal gain boundary, etc.
トランジスタは、製造過程における積層された半導体膜やゲート絶縁膜の膜厚の不均一性や膜のパターニング精度等に起因して素子特性がばらつき、ポリシリコントランジスタの場合は加えて、結晶成長方向や結晶粒界における欠陥等により結晶性がばらついてしまう。 - 特許庁 - The optional pattern is formed with high precision and high accuracy by patterning the photo paste, prepared by imparting photosensitive function to a functional material such as having conductivity, by printing such as offset, screen and after that, exposing, developing and removing excess parts due to the correction of the shape, the short defect or the like, drying and firing.
導電等の機能材料に感光性の機能を付加したフォトペーストをオフセットやスクリーン等の印刷によりパターニングした後、露光、現像を行い、形状の補正やショート欠陥等の余分な部分を除去し、乾燥焼成により任意のパターンを高精度高精細に形成することができる。 - 特許庁 - The manufacturing method of the display member comprises (A) a process of coating and drying photosensitive paste on a substrate with at least an electrode formed, and then exposing the coated film to light via a photomask, (B) a process of developing the coated film and patterning it, and (C) a process of forming a barrier-rib pattern by baking the pattern-formed coated film.
少なくとも電極が形成された基板に下記の（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）の各工程を順次行って得られるディスプレイ部材の製造方法であって、該（Ａ）工程をｎ回（ｎは２以上の整数）実施した後に、（Ｂ）、（Ｃ）の工程を実施することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁 - To provide a hardmask composition for a resist underlayer film that has high etching selectivity, sufficient resistance to multiple etchings, and an antireflective property to minimize the reflectivity between the resist and a lower layer, and a method of patterning a backside material layer on a substrate using the hardmask composition.
エッチング選択性が高く、 多重エッチングに対する耐性が十分であり、レジストと下部層間の反射性を最小化する反射防止能を有するレジスト下層膜用ハードマスク組成物を提供すること、および該ハードマスク組成物を用いて、基板上の裏面材料層をパターン化させる方法を提供すること。 - 特許庁 - On the film, a titanium oxide film 8, a metal film 9 containing aluminum , a cap film 15 made up of a second titanium 13 and a second titanium film 14, and an anti-reflection film 16, are laminated in order; patterning is carried out by lithography and etching to form wiring; and the wiring is then heat-treated at some temperature of 385 to 415°C.
その上に酸化チタン膜８、アルミニウムを含む金属膜９、第二チタン膜１３および第二窒化チタン膜１４からなるキャップ膜１５、反射防止膜１６を順次積層し、リソグラフィおよびエッチングによりパターニングして配線を形成した後、この配線を３８５〜４１５℃程度の温度で熱処理する。 - 特許庁 - To provide a method for mounting components and apparatus for mounting components which can shorten mounting time by reducing a suction preparation operation of suction nozzles in such a manner that the number of replacement times of the suction nozzles is suppressed, or intervals of the suction nozzles on a moving head are adjusted when components are mounted on a multiple patterning substrate.
多面取り基板に対する部品実装時に、吸着ノズルの交換回数を抑制し又は移載ヘッドでの吸着ノズルの間隔を調整するといった吸着ノズルの吸着準備動作を軽減することで、実装時間の短縮化を図ることができる部品実装方法及び部品実装装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymer compound, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance, suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.
高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the solar cell 100 includes a cleaning step of cleaning an exposure area R2 out of a backside of an n-type crystalline substrate 10n, before an i-type amorphous semiconductor layer 12i forming step, after a patterning step of the i-type amorphous semiconductor layer 11i and a p-type amorphous semiconductor layer 11p.
太陽電池１００の製造方法は、ｉ型非晶質半導体層１１ｉ及びｐ型非晶質半導体層１１ｐのパターニング工程の後、ｉ型非晶質半導体層１２ｉの形成工程前に、ｎ型結晶シリコン基板１０ｎの裏面のうち露出領域Ｒ２のクリーニング工程を備える。 - 特許庁 - The method for manufacturing a wiring board comprises a step for partially making thin a conductive foil 20 formed on a base substrate 10 by etching, a step for patterning the conductive foil 20 by etching, and a step for forming a wiring 30 having a thin part 32 on the base substrate 10 in an area being bonded to the electrode of an electronic component.
配線基板の製造方法は、ベース基板１０に形成された導電箔２０の一部をエッチングによって薄くすること、及び、導電箔２０をエッチングによってパターニングすることを含み、ベース基板１０に、電子部品の電極との接合領域に薄肉部３２を有する配線３０を形成することを含む。 - 特許庁 - In the pattern drawing apparatus to form patterns in mirror image relation with respect to the substrate on both faces of the substrate, the patterns are formed on both faces of the substrate by direct drawing on the basis of specified data by using a direct drawing means such as a maskless exposure means or an ink jet patterning means.
基板に関して鏡像関係となるパターンを基板の両面に形成するパターン描画装置は、マスクレス露光手段もしくはインクジェットパターニング手段などの直接描画手段を用いて、所定のデータに基づき基板の両面を直接描画することでパターンを基板の両面に形成する。 - 特許庁 - This method comprises a step for performing a surface reforming process to expose the underlayer film surface including the basic substance to the plasma of gas including carbon gas, a step for coating the chemically amplified resist film of the underlayer film, and a step for patterning the chemically amplified resist through the exposing and development processes thereof.
塩基性物質を含む下地膜表面をカーボンガスを含むガスによるプラズマを晒す表面改質処理を行う工程と下地膜上に化学増幅型レジスト膜を塗布する工程と化学増幅型レジストに露光および現像処理を行って化学増幅型レジストをパターニングする工程とを備えるようにしたものである。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a circuit board device manufactured by applying a manufacturing technique of multiple patterning, which improves operation reliability and product life cycle by preventing an abnormal signal voltage or corrosion of a wiring layer caused by contaminants sticking to the end face of each circuit board.
多数個取りの製造技術を適用して製造される回路基板装置において、各回路基板の端面に付着した汚染物質による信号電圧の異常や配線層の腐食を防止して、動作の信頼性や製品寿命を向上させることができる回路基板装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The gate pattern is formed by patterning a gate electrode pattern 57b covering the peripheral circuit region, a second gate interlayer insulating film 64b which is formed on the gate electrode pattern and thicker than the first gate interlayer insulating film 64a and a second conducting film 69 formed on the second gate interlayer insulating film.
又、ゲートパターンは周辺回路領域を覆うゲート電極パターン５７ｂ、ゲート電極パターンの上に形成され、第１ゲート層間絶縁膜６４ａより厚い第２ゲート層間絶縁膜６４ｂ、及び第２ゲート層間絶縁膜の上に形成された第２導電膜６９をパターニングして形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element capable of easily adding contrast, lowering a production cost and at the same time applying a material other than a chemical compound having an arylamine skeleton in a hole injection layer as an organic electroluminescent element for patterning, and expanding a range of choices for materials.
容易にコントラストをつけることができ、かつ製造コストを下げることができると同時に、パターン化に用いる有機電界発光素子として正孔注入層にアリールアミン骨格を有する化合物以外の材料をも適用することが可能であり、材料選択の幅を広げることができる有機電界発光素子の製造方法。 - 特許庁 - To provide a color filter substrate wherein tapers having a plurality of angles are provided in the same layer and enhancement of contrast, color reproducibility and patterning properties can be attained, to provide its manufacturing method, and to provide an electrooptical device and an electronic device using the color filter substrate.
本発明は、同一層内において複数の角度を有するテーパーを設け、コントラスト、色再現性及びパターニング性の向上を図ることのできるカラーフィルタ基板およびその製造方法、ならびに上記カラーフィルタ基板を用いた電気光学装置ならびに電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To select a water-soluble resin which can smoothly effect thermal shrinkage of a photoresist pattern by heat treatment and can easily be removed by washing with water after the heat treatment of the resist pattern as a water- soluble resin for forming a coating film for increasing fineness of resist patterning and to efficiently form a fine resist pattern.
レジスト微細化用塗膜を形成するための水溶性樹脂として、熱処理により、ホトレジストパターンを円滑に熱収縮させることができ、しかもレジストパターンの熱処理後に水洗により容易に除去しうるものを選択して、効率よく微細レジストパターンを形成させることを目的とする。 - 特許庁 - This method of forming a carbon nanotube pattern contains patterning process in which a desired pattern is printed on the surface of the substrate with a carbon nanotube dispersion in which the carbon nanotube is dispersed in a dispersant and the dispersant is vaporized to form a pattern layer, and a pattern fixing process in which the pattern layer is fixed on the surface of the substrate.
カーボンナノチューブが分散媒に分散したカーボンナノチューブ分散液にて基板表面に所望のパターンを印刷し、分散媒を蒸発させてパターン層を形成するパターニング工程と、パターン層を基板表面に固定するパターン固定工程とを含むことを特徴とするカーボンナノチューブパターンの形成方法。 - 特許庁 - To enable an insulated gate field effect transistor (MOSFET), whose gate length is of the order of sub-micron or sub-0.1 μm to be enhanced in characteristics and improved in characteristics uniformity by a method, where the planarity of a resist underlying layer serving as a gate electrode is ensured, and a gate electrode is formed accurately by actuate patterning.
絶縁ゲート電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）において、ゲート電極となるレジスト下地層の平坦性を確保し、ゲート電極の精度良いパターニングを実現することによりゲート長がサブミクロン領域、或いはサブ0.1μｍ領域のＭＯＳＦＥＴにおいて、トランジスタ特性の向上、ばらつきの低減を図る。 - 特許庁 - In the patterning method, the pattern of a photomask is transferred to an underlying material by exposure processing thus forming a first guide where the surface energy of the underlying material is changed, and a second guide where the surface energy of the underlying material is changed is formed between the first guides by diffraction of exposure light resulting from exposure processing.
実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。 - 特許庁
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