「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 次へ＞- The method for producing the group III-V compound crystal is comprised of a step to deposit a metal film 2 on a substrate 1, a step to heat-treat the metal film 2 at an atmosphere where a patterning compound exists and a step to grow the group III-V compound crystal 4 on the heat-treated metal film 2.
基板１上に金属膜２を堆積する工程と、前記金属膜２をパターニングする化合物の存在雰囲気下で熱処理する工程と、前記熱処理後の金属膜２上にＩＩＩ−Ｖ族化合物結晶４を成長させる工程とを備えることを特徴とするＩＩＩ−Ｖ族化合物結晶の製造方法。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an active matrix substrate to be used for a reflective liquid crystal display device, projections 701, 702 to roughen the surface of the pixel electrode (reflection electrode) to scatter light are formed by patterning by using the same photomask used for the formation of TFTs(thin film transistors) to form recessed and projections on the surface of the pixel electrode 169.
本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁 - This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.
表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部１８を有する電子線放出素子１０を用意する工程と、電圧を印加して錐体部１８から電子線１９を放出させて、電子線感応性のレジスト層２２を暴露する工程と、レジスト層２２の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁 - The color filter 10 comprising patterning a hydrophobic black matrix 13 on a light transmissive and hydrophilic glass substrate 11, coating and forming a plurality of colored pixels 14 respectively transmitting visible light of a plurality of colors in the apertures of the black matrix 13, and forming thick film parts and thin film parts within the same colored pixels 14, and the method for manufacturing the same are provided.
光透過性で親水性のガラス基板１１の上に疎水性のブラックマトリクス１３をパターニングし、該ブラックマトリクス１３の開孔に異なる色の可視光をそれぞれ透過する複数の着色画素１４を塗工形成し、同一の着色画素１４内に厚膜部と薄膜部とを形成してなるカラーフィルタ１０およびその製造方法。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an array substrate comprising the steps of simultaneously patterning a three-layer metal film (Mo/Al/Mo) and multilayer nonmetallic film (SiNx/aSi:H/n+-type a-Si:H), by using one mask pattern capable of forming a stepwise cut of a film covering the multilayer film pattern and sufficiently preventing a fault due to the cut.
一つのマスクパターンを用いて、三層金属膜（Mo／Al／Mo）及び多層非金属膜（ＳｉＮｘ／ａ-Ｓｉ:Ｈ／ｎ^+ａ-Ｓｉ:Ｈ）を一括してパターニングする工程を含むアレイ基板の製造方法において、多層膜パターンを覆う膜についての段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁 - To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁 - This patterning base plate has the base material and a cell adhesion inhibiting layer, wherein the cell adhesion inhibiting layer is formed on the base material and contains a cell adhesion inhibiting material having cell adhesion inhibiting properties of inhibiting adhesion to the cells and denatured by action of a photocatalyst due to energy irradiation.
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、細胞と接着することを阻害する細胞接着阻害性を有しかつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により変性される細胞接着阻害材料を含有する細胞接着阻害層とを有することを特徴とするパターニング用基板を提供する。 - 特許庁 - This production method of the graphene conductive film includes: a first step of providing a metallic substrate having a first surface and a second surface facing the first surface; a second step of growing a graphene structure on the first surface of the metallic substrate; and a third step of patterning the metallic substrate by etching to form an electrode.
本発明のグラフェン導電膜の製造方法は、第一表面及び該第一表面に対向する第二表面を有する金属基材を提供する第一ステップと、前記金属基材の第一表面にグラフェン構造体を成長させる第二ステップと、エッチングによって、前記金属基材をパターニングして電極を形成させる第三ステップと、を含む。 - 特許庁 - To obtain an alkali negative development type photosensitive resin composition less liable to swell in alkali development and excellent in properties of a pattern, adhesiveness to a substrate, crosslinking efficiency, reactivity and compatibility after development, to produce a pattern by polyimide patterning by development with an inexpensive aqueous alkali solution and to provide electronic parts each having the pattern and excellent in reliability.
本発明は、アルカリ現像時の膨潤が少なく現像後のパターン性、基盤接着性、架橋効率、反応性、相溶性に優れるアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、ポリイミドパターン加工を安価なアルカリ水溶液現像にて行えるパターンの製造法、前記パターンを有する信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing a thin film transistor, which has the process of applying a precursor solution to form an oxide semiconductor thin film, forms the oxide semiconductor thin film by using a liquid jet apparatus for jetting charged droplets in patterning a precursor thin film formed by the application of the precursor solution.
前駆体溶液を塗布して酸化物半導体の薄膜を形成する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 該前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜のパターニングに帯電させた液滴を吐出する液体吐出装置により酸化物半導体の薄膜を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁 - The patterning apparatus has a vacuum chamber adjustable in pressure, a nozzle connected to a material feeding source and also arranged in the vacuum chamber, into which a material from the material feeding source is fed, and a substrate stage arranged in the vacuum chamber for holding and fixing a substrate.
本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 - 特許庁 - The cell transistor formation step is provided with a gate electrode formation step for forming a gate electrode 8, a source wiring layer formation step for forming the source wiring layer at a cell transistor part, and a peripheral transistor part and a source wiring formation step for patterning the source wiring layer and connecting the source wiring 12 to a source diffused layer 10.
セルトランジスタ形成ステップは、ゲート電極８を形成するためのゲート電極形成ステップと、ソース配線用層をセルトランジスタ部と周辺トランジスタ部に形成するためのソース配線用層形成ステップと、ソース配線用層をパターニングしてソース配線１２をソース拡散層１０に接続するためのソース配線形成ステップとを備える。 - 特許庁 - To provide an Ag alloy film in which a reflectance in a visible light range takes a fixed value while keeping a high reflectance and which has low electric resistance and combines heat resistance, corrosion resistance, adhesion to a substrate and patterning characteristics, and also to provide a sputtering target material for depositing the Ag alloy film and a planar display device having low power consumption.
高い反射率を維持した上で、可視光範囲での反射率が一定値になり、かつ低い電気抵抗を有し、さらに耐熱性、耐食性、そして基板への密着性およびパタニング性を兼ね備えたＡｇ合金膜とそのＡｇ合金膜を形成するためのスパッタリングターゲット材および低消費電力な平面表示装置を提供する。 - 特許庁 - The laminate manufacturing apparatus comprises in the same vacuum tank 1 a dielectric layer forming device 7 for forming a dielectric layer on a substrate 2, a patterning device 11 for forming a metal thin layer pattern on the dielectric layer, and a metal film layer forming device 5 for forming a metal thin layer on the dielectric layer according to the metal thin layer pattern.
積層体の製造装置は、同一真空槽１内に、基板上２に誘電体層を形成する誘電体層形成装置７と、誘電体層上に金属薄層パターンを形成する金属薄層パターン形成装置１１と、金属薄層パターンに従って誘電体層上に金属薄層を形成する金属薄層形成装置５とを備える。 - 特許庁 - The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.
有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁 - A branch office server 4 functions as both a customer pattern ID creating means 155a for patterning customers into a plurality of types on the basis of at least one of customer data and business activity data obtained from business activities aimed at the customers and an advice processing means 155b for extracting and outputting business support information suited for the types.
支部サーバ４は、顧客データと、顧客に対する営業活動により得られた営業活動データの少なくとも一つに基づき、顧客を複数の類型にパターン化する顧客パターンＩＤ生成手段１５５ａと、パターンこのパターン化された類型に適した営業支援情報を抽出して出力するアドバイス処理手段１５５ｂとして機能する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having a high sensitivity, capable of obtaining a sufficient spacer form even by ≤1,200 J/m^2 exposure, excellent in flexibility, high recovery rate, rubbing resistance, close adhesion with a transparent substrate plate, heat resistance, etc., further excellent in developing property on spacer-patterning and capable of forming the spacer for a liquid crystal-displaying element.
高感度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性と高回復率、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、さらにスペーサーパターニング時の現像特性にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In this patterning method, a donor substrate in which a photothermal conversion layer and a transfer material are formed and a device substrate are disposed face to face to transfer the transfer material to the device substrate by irradiating light to the photothermal conversion layer, and intensity of light irradiated in an irradiated region is unsymmetrically changed with the passage of time.
基板上に光熱変換層と転写材料が形成されたドナー基板をデバイス基板と対向配置し、光を光熱変換層に照射することで転写材料をデバイス基板に転写するパターニング方法であって、照射領域において照射される光の強度を経時的に非対称に変化させることを特徴とするパターニング方法。 - 特許庁 - To provide a surface treatment agent for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating owing to the freezing process and the formation of the second resist pattern, and also to provide a pattern formation method by use of it.
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅とＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれおよびそれを用いたパターン形成方法を提供すること - 特許庁 - To provide an inorganic powder-containing resin composition capable of forming a black matrix with good sensitivity, a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition, and a method for manufacturing a flat panel display capable of forming a black matrix which is flat and smooth, has no warpage, and has good patterning performance.
感度の良好なブラックマトリクスを形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物、該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムならびに平滑で反りのない、パターニング性能の良好なブラックマトリクスを形成することのできるフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The patterning apparatus has a vacuum chamber adjustable in pressure, a nozzle connected to a material feeding source and also arranged in the vacuum chamber, into which a material from the material feeding source is fed, and a substrate stage for holding to fix a substrate, arranged in the vacuum chamber.
本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 - 特許庁 - The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of forming an amorphous silicon layer 13 on a substrate such as a plastic substrate 11, a process of patterning the amorphous silicon layer 13 and forming a prescribed pattern to be a thin film transistor, and a process of crystallizing the patterned amorphous silicon layer 13 thereafter, and the semiconductor device provided with the thin film transistor is manufactured.
プラスチック基板１１等の基板上にアモルファスシリコン層１３を形成する工程と、アモルファスシリコン層１３をパターニングして、薄膜トランジスタとなる所定のパターンを形成する工程と、その後、パターニングされたアモルファスシリコン層１３を結晶化する工程とを有して、薄膜トランジスタを有する半導体装置を製造する。 - 特許庁 - Although a deposit 18 that is made of reaction products between titanium and fluorine is generated, when forming the hard mask 17 by patterning the insulation film, washing is made by using washing liquid containing an inorganic acid which contains no fluorine, thus removing a deposit 19 and at the same time, suppressing the generation of a new deposit at the time of washing.
絶縁膜をパターニングしてハードマスク１７を形成する際にチタンとフッ素との反応生成物からなる堆積物１８が生じるが、フッ素を含まない無機酸などを含む洗浄液を用いて洗浄することにより、堆積物１９を除去するとともに、洗浄の際に新たな堆積物が発生するのを抑制する。 - 特許庁 - A thermal shield 6 of the lithography projector has a particle propagation channel 9 which passes contamination particles produced by patterning means MT, MA or a projection means PM from the first side I to the second side O of it, and a cryopump 7 used for keeping a vacuum chamber 5 at the desired low pressure can also capture the particles coming out of these channel 9.
このリソグラフィ投影装置の熱遮蔽体６には、パターニング手段ＭＴ、ＭＡや投影手段ＰＭが発生する汚染物粒子をその第１側Ｉから第２側Ｏへ通す粒子伝播チャンネル９があり、真空室５を所望の低圧に維持するためのクライオポンプ７がこれらのチャンネル９から出る粒子を捕捉することもできる。 - 特許庁 - The method includes, after patterning the substrate to form at least one structure extending from the substrate in a direction substantially perpendicular to the plane of a major surface of the substrate, forming locally modified regions 6 at locations in the substrate which are not covered by the at least one structure, thus locally increasing etching resistance of these regions 6.
基板をパターニングし、基板の第１主表面の平面に実質的に垂直な方向に、基板から延びた、少なくとも１つの構造を形成した後に、少なくとも１つの構造により覆われていない基板の位置に、部分的に変更された領域６を形成し、それらの領域６のエッチング抵抗を部分的に増加させる工程とを含む。 - 特許庁 - According to this structure, the area of notches for release from the gripper 5 of the electrostatic chuck d2 can be made small, and as it is unnecessary to notch the center part of the electrostatic chuck, the attraction of the electrostatic chuck can be improved, deformation of the wafer 7 when it is attached and lowering of the patterning accuracy and inspection accuracy caused by the above-mentioned deformation can be prevented.
この構成により、静電チャック１２のグリッパ６からの逃げ用切り欠き４の面積を小さくでき、特に静電チャック１２の中央部１４を切り欠く必要が無いので、静電チャック１２の吸着能力が向上し、吸着時のウエハ７の変形とそれに起因する描画精度または検査精度の低下を防止できる。 - 特許庁 - The method of manufacturing the ferroelectric memory device comprises processes of (a) forming a ferroelectric layer 214a over a first conductive layer 212a, (b) patterning the ferroelectric layer 214a, and (c) forming an insulation layer 222 so as to fill in spaces formed in the ferroelectric layer 214a by a method which allows no hydrogen to be generated.
強誘電体メモリ装置の製造方法は、（ａ）第１導電層２１２ａの上に、強誘電体層２１４ａを形成する工程、（ｂ）強誘電体層２１４ａをパターニングする工程、（ｃ）強誘電体層２１４ａの相互間を充填するように、水素を発生させない方法により絶縁層２２２を形成する工程を含む。 - 特許庁 - This resin composition for artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, a patterning material, an inner mold release agent, and a hardening agent into a thermosetting resin, and is used for manufacturing artificial marble by pouring the resin composition into a casting mold to be hardened and molded, where glass micro-balloons are added and compounded in the resin composition.
熱硬化性樹脂に充填材、柄材、内部離型剤、硬化剤等の添加物を配合した樹脂組成物を得て、これを注型用金型に注入して成形硬化させることにより人造大理石を製造するのに用いる人造大理石用の樹脂組成物であって、この樹脂組成物中にガラス微小中空球を添加配合した。 - 特許庁 - The multiple patterning ceramic substrate is provided on the main surface of a ceramic matrix substrate 1 with partitioning grooves 3 for dividing the substrate 1 into a plurality of divisions, while a ceramic layer 6 made of a material same as that of a ceramic matrix substrate 1 is formed from the inner surface of the partitioning grooves 3 to the periphery of the partitioning grooves 3 on the main surface.
多数個取りセラミック基板は、セラミック母基板１の主面に、セラミック母基板１を複数の区画に区分する分割溝３を形成して成る多数個取りセラミック基板であって、分割溝３の内面から主面の分割溝３の周囲にかけてセラミック母基板１と同じ材質のセラミック層６が形成されている。 - 特許庁 - The micro movable element manufacturing method includes a step of forming the movable part 10, the frame 20 and the connecting part 40 on a material substrate, and a step of sticking a film material to the surface of the material substrate during the forming step and patterning the film material to form the support structure member 71 for bridging the movable part 10 and the frame 20.
本発明は、材料基板に可動部１０、フレーム２０、および連結部４０を作り込む成形工程と、成形工程の途中において、材料基板の表面にフィルム材料を貼り合せ、当該フィルム材料をパターニングすることにより、可動部１０およびフレーム２０を架橋するためのサポート構造体７１を形成する工程とを含む。 - 特許庁 - The resist removing composition is used to remove resist for patterning of a metal film for an electronic circuit or metal wiring of a display device, has excellent power to remove resist remaining on a patterned metal film, ensures a slight composition change due to volatilization at high temperature and a low fatigue degree of the liquid chemicals, and minimizes corrosion of the patterned metal film.
本発明のレジスト除去用組成物は電子回路又は表示素子の金属配線をパターンするレジスト除去に使用されて、パターン化された金属膜の上部に残留するレジストを除去する除去力が優れており、高温で揮発に応じた組成変化及び薬液疲労度が微細で、パターン化された金属膜の腐食を最少化できる。 - 特許庁 - To provide a method for removing a silicon-containing two-layer resist comprising a first resist layer containing an organic high molecular compound and a photosensitive silicon-containing second resist layer for reworking after the patterning of the second resist layer while suppressing the occurrence of defects on a wafer in removal in a process for producing a device using the two-layer resist on a substrate.
基板上に有機高分子化合物を含む第１レジスト層と感光性シリコン含有第２レジスト層からなるシリコン含有２層レジストを用いるデバイス製造工程において、第２レジスト層をパターニングした後で、リワーク等のために、レジスト剥離時のウェハ上の欠陥の発生を著しく低減しつつ、上記２層レジストを剥離する方法を提供する。 - 特許庁 - A method of manufacturing the semiconductor device comprises processes of forming a resin layer 4a, getting round the electrodes, patterning the conductive layer 5 on the electrodes and on the resin layer 4a in correspondence with the projections 4, and forming the projections 4 by removing the resin layer 4a located between the conductive layers 5, with the patterned conductive layer 5 as a mask.
半導体装置１に電極を避けて樹脂の層４ａを形成する工程と、電極上及び樹脂の層４ａ上に導電層５を突起体４に応じてパターニングする工程と、パターニングされた導電層５をマスクとし、導電層５の間に位置する樹脂の層４ａを除去して突起体４を形成する工程とを有する。 - 特許庁 - To provide an Ag alloy-based reflective film improving adhesion and patterning to a substrate, by making a reflectance a constant value in a visible range after maintaining a high reflectance and providing thermal resistance and corrosive resistance, and to provide a sputtering target material for forming the Ag alloy-based reflective film, and a high quality and low power consumption planar display unit.
高い反射率を維持した上で、可視光範囲での反射率が一定値になり、耐熱性、耐食性を兼ね備え、さらに基板への密着性とパタニング性を改善したＡｇ合金系反射膜とそのＡｇ合金系反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットおよびより高品位かつ低消費電力な平面表示装置を提供する。 - 特許庁 - To reduce contact resistance between first and second electrodes, with respect to an acoustic wave device which has the first electrode, and the second electrode laminated at a part of the upper surface of the second electrode to be electrically connected to the first electrode, and in which patterning using alkali developer is performed between first and second electrode formation processes, and a method for manufacturing the same.
第１の電極と、第２の電極の上面の一部に積層されて第１の電極に電気的に接続される第２の電極とを有し、第１，第２の電極形成工程の間に、アルカリ現像液を用いたパターニングが行われる弾性波装置及びその製造方法において、第１，第２の電極間の接触抵抗を小さくする。 - 特許庁 - This connection structure of a printed circuit board 400 equipped with a patterned grounding contact is configured of a grounding contact by forming a grounding pattern by patterning one face of a printed circuit board 400, and directly soldering a shield wire 130 of a coaxial cable 100 exposed to the outside on the formed grounding pattern to form a shield wire soldering part 320.
パターン化した接地部を備えた印刷回路基板４００の接続構造体は、印刷回路基板４００の一面にパターン化して接地パターンを形成し、形成された接地パターン上に外部に露出した同軸ケーブル１００のシールドワイヤ１３０を直接半田付けして、シールドワイヤ半田付け部３２０を形成することにより、接地部を構成する。 - 特許庁 - In a manufacturing method for an active matrix substrate used for a reflective liquid crystal display device, for forming unevenness on a surface of a pixel electrode (reflection electrode) to scatter light, convex parts 701 and 702 are formed through patterning using the same photomask as that used for forming a TFT, thereby forming unevenness on a surface of a pixel electrode 169.
本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁 - The amorphous semiconductor film is doped with a catalytic element, a crystal semiconductor film is formed by a first heat treatment, the catalytic element is transferred to an n-type dopant layer formed on the crystal semiconductor film by a second heat treatment, and the first/second island-like crystal semiconductor films are formed on the first/second gate electrodes by patterning.
非晶質半導体膜に触媒元素を添加し、第１の加熱処理により結晶性半導体膜を形成し、第２の加熱処理により、結晶性半導体膜に設けられたＮ型不純物層に、触媒元素を移動させ、パターニングして第１／第２のゲイト電極上に第１／第２の島状の結晶性半導体膜を形成する。 - 特許庁 - To provide a surface finish method which enables the range worked with patterning to be designed easily and to be carried out efficiently with a satisfactory finish condition not depending on a grinding method by handyman's hands or machines, when making the concrete surface of exposed concrete or a precast product express the ballast of aggregate and attaching concave-convex patterns.
打ち放しコンクリートやプレキャスト製品のコンクリート表面に骨材の砂利を表出させて凹凸模様を付ける際に、職人の手や機械によってハツル方法によらず、仕上がり状態が良好で、模様付けする範囲を容易にデザインすることができ、かつ効率的に行うことができる、表面仕上げ方法を提供する。 - 特許庁 - The first electrode can be exactly formed almost into the tapered-shape by heightening accuracy of patterning by accurately controlling an etching line width by applying a lithography process at every layer with a different etching method and an etching speed from each other, after forming the adhesion layer 12A, the metal layer 12B, and the work function adjusting layer 12C on the substrate 11, successively.
基板１１に、密着層１２Ａ，金属層１２Ｂおよび仕事関数調整層１２Ｃを順に形成したのち、エッチング方法およびエッチング速度が異なる層ごとにリソグラフィ工程を設けることにより、エッチング線幅を精確に制御してパターニング精度を高め、第１電極１２を確実に略順テーパ状に形成することができる。 - 特許庁 - The mask with an open end corresponding to the electro- conductive film formed part, for patterning the electro-conductive film by forming the electro-conductive film through the open end in a state that the mask is brought into contact with a substrate, is characterized by being provided with convexoconcave on a contacting face of the mask with the substrate.
導電膜パターンの形成部分が開口部となっているマスクであって、該マスクを基板に接触させた状態で該マスクの開口部を介して導電膜を成膜して導電膜のパターン化をおこなう導電膜パターン化用マスクにおいて、該マスクの基板と接触する面に凹凸を設けたことを特徴とする導電膜パターン化用マスク。 - 特許庁 - Since the heaters 15 are formed on the insulating base layer 14 formed on the back of the solid electrolyte substrate 11 by patterning using insulating paste, the heat conductivity to the solid electrolyte substrate 11 from the heaters 15 is enhanced as compared with a conventional example wherein the heaters are patterned on separate substrates and the number of members or manufacturing processes is also reduced.
固体電解質基板１１の裏面に形成された絶縁性ペーストによる絶縁基層１４上にヒータ１５がパターニング形成されているため、ヒータが別途のヒータ基板上にパターニングされている従来例に較べ、ヒータ１５から固体電解質基板１１への熱伝導性が向上し、しかも、部材や製造工程も削減される。 - 特許庁 - A molten ink 4 in a molten condition is coated on a printed wiring board, having at least a conductive layer 2 on an insulative base; an absorptive sheet 5 capable of absorbing the heat melting ink is overlaid on the printed wiring board; and a non-patterning part is heated in accordance with data to heat transfer it, thereby forming a resist pattern.
絶縁性基材上に少なくとも導電性層２を設けてなるプリント配線板上に、熱溶融インク４を溶融状態でプリント配線板にコーティングし、次に熱溶融インクを吸収しうる吸収シート５をプリント配線板に貼り合わせ、データに従って非画像部を加熱し、吸収シートに熱転写することによりレジスト画像を形成する。 - 特許庁 - A resist layer 2 is formed on a surface 1A of a work 1 with the very small groove to be formed thereon, the patterning corresponding to the required very small groove is performed, an electrolyte 5 is interposed between the work 1 and a machining electrode 3, the pulse voltage is applied from a pulse voltage generator 6, and the work 1 is electrolytically etched using this resist layer 2.
微小溝を形成しようとする被加工物１の表面１Ａにレジスト層２を形成して所要の微小溝に相応したパターニングを行い、被加工物１と加工用電極３との間に電解液５を介在させてパルス電圧発生器６からパルス電圧を印加し、このレジスト層２を用いて被加工物１を電解エッチングする。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an active matrix substrate used for a reflective liquid crystal display device, projections 701, 702 to roughen the surface of the pixel electrode (reflection electrode) to scatter light are formed by patterning by using the same photo mask used for the formation of TFTs to form the recesses and the projections on the surface of the pixel electrode 169.
本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the substrate for microarray 100, equipped with a substrate 10, a bulkhead 20 partitioning surface of the substrate 10 and an area 30 partitioned by the bulkhead, includes the process to form the first film by using the composition containing compound (A) such as C.I. pigment red 254, and the process to form the bulkhead through patterning of the first film.
基板１０とその表面を区画する隔壁２０と隔壁により区画された領域３０とを有するマイクロアレイ用基板１００の製造方法において、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４等の化合物（Ａ）を含む組成物を用いて第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁を形成する工程と、を備える。 - 特許庁 - The method for manufacturing the semiconductor device includes: a step of sequentially forming a metal-containing film 108 and polysilicon film 109; a step of patterning the metal-containing film and polysilicon film to be shaped to the resistive element; and a step of forming a hollow region 119 under the polysilicon film by removing a portion of the metal-containing film.
基板上に金属含有膜１０８及びポリシリコン膜１０９を順次形成する工程と、前記金属含有膜及び前記ポリシリコン膜を抵抗素子形状にパターニングする工程と、前記金属含有膜の少なくとも一部分を除去することにより、前記ポリシリコン膜の下に中空領域１１９を形成する工程とを備えている。 - 特許庁 - The phosphor-powder application process of the light-emitting diode comprises the steps of providing a chip, forming a photoresist layer so as to cover the chip, exposing a phosphor powder application area on the chip by patterning the photoresist by the optical lithography process, and filling phosphor powder containing resin to the area.
チップを提供するステップと、前記チップを覆うようにフォトレジストの層を形成するステップと、光リソグラフ処理によって、前記フォトレジストをパターン化して、前記チップ上に蛍光粉を塗布する区域を露出させるステップと、蛍光粉入り樹脂を前記区域に充填するステップと、を備える発光ダイオードの蛍光粉塗布工程を提供する。 - 特許庁 - To solve the problem wherein, in a conventional solid-state imaging device in which a single-layer silicon oxide film formed on a semiconductor substrate is patterned into a prescribed shape by wet etching to form a field insulation film, a short circuit between electrodes is easily caused on a side face (etching face) of the field insulation film when forming various electrodes by patterning a conductive film by etching.
半導体基板上に形成した単層のシリコン酸化膜をウェットエッチングにより所定形状にパターニングしてフィールド絶縁膜を形成する従来の固体撮像素子では、導電膜をエッチングによってパターニングして種々の電極を形成する際に、フィールド絶縁膜の側面（エッチング面）上において電極同士の短絡が生じやすい。 - 特許庁 - The step of forming the trench etching pattern on the substrate substantially further includes depositing the silicon nitride film on the substrate on which a pad oxidation film is formed, patterning, and forming a thermal oxidation film on the inner wall surface by an annealing so as to repair etching damages between the step of forming the trench and the liner.
本発明で、基板にトレンチエッチングパターンを形成する段階は、通常、パッド酸化膜が形成された基板にシリコン窒化膜を積層し、パターニングして実施され、トレンチを形成する段階とライナを形成する段階の間に、トレンチの内壁にエッチング損傷を修復するためのアニーリングによって熱酸化膜が形成される段階をさらに含むことができる。 - 特許庁
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