「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 次へ＞- To provide an organic glass film containing a copolymer of a diallyl carbonate compound and an acid-decomposable allyl carbonate compound and/or an acid-decomposable acrylic ester compound (particularly a monomer forming a hydrophilic group by acid decomposition) and a compound which generates an acid under electron beams and to provide a method for producing a patterned film by patterning the organic glass film with electron beams.
ジアリルカーボネート化合物と、酸で分解するアリルカーボネート化合物又は／及び酸で分解するアクリル酸エステル化合物（特に、酸により分解し親水性基を生じるモノマー）との共重合体、並びに電子線で酸を発生する化合物を含む有機ガラス膜に関し、又その膜の電子ビームによるパターン形成を行い、パターン形成された膜を作製する方法に関する。 - 特許庁 - A semiconductor apparatus manufacturing method comprises processes of patterning a bottom electrode 11 on a base film 8; applying the dielectric substance onto the bottom electrode 11 using an ink jet-type application mechanism, forming the dielectric film 12 on the bottom electrode 11 by heating the applied dielectric substance, and forming a top electrode on the dielectric film 12.
下地膜８上に、パターニングされた下部電極１１を形成する工程と、インクジェット方式の塗布機構を用いて、下部電極１１上に誘電体物質を塗布する工程と、塗布された誘電体物質を加熱することにより、下部電極１１上に誘電体膜１２を形成する工程と、誘電体膜１２上に上部電極を形成する工程とを具備する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist underlayer film of a multilayer resist film having at least three layers used in lithography, wherein the resist underlayer film reduces reflectance, has high etching resistance, high heat, and solvent resistances, and avoids wrinkling on a substrate particularly during the etching of the substrate, and also to provide a patterning process using the same.
リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the line patterning method, functional liquid X is ejected from positions displaced in the width direction from the center A between banks 34 in the width direction so that the functional liquid X temporarily overflowing from between adjacent banks 34 do not touch each other thus arranging the functional liquid simultaneously between the plurality of banks 34.
線パターンの形成方法であって、隣合うバンク間３４から一時的に溢れ出した上記機能液Ｘ同士が接触しないように各上記バンク間３４の幅方向の中央Ａに対し当該幅方向に変位した位置を各々のバンク間３４の吐出位置として上記機能液Ｘを吐出することによって複数の上記バンク間３４に同時に機能液を配置する。 - 特許庁 - To provide a new cationic photopolymerizable epoxy resin composition to compatibilize improved patterning characteristics with improved properties such as ink resistance and adhesiveness to a substrate and further provide a fine structure member composed of a cured product of the resin cmoposition and a method for forming the fine structure member.
パターニング特性のより一層の向上と、耐インク性や基板に対する密着性といった性能の向上と、の両立が可能な新規な光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を提供すること、更には、本発明の他の目的は、上述の樹脂組成物の硬化物からなる微細構造体、およびその製造方法といった関連する諸発明を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for patterning on the surface of a rock wool board capable of continuously imparting a random complicated pattern by continuously forming a rugged pattern on a surface of a wet mat and thereafter drying to harden the mat to form a rock wool board with a surface pattern and capable of improving a surface decorativeness and improving a productivity.
ウエットマットの表面に模様付けロールで連続的に凹凸模様を形成し、しかる後、ウエットマットを乾燥硬化させて表面模様付けロックウールボードを形成することで、ランダムな複雑な模様を連続的に付与することができ、表面化粧性の向上と生産性の向上をも図ることができるロックウールボードの表面模様付け方法を提供することにある。 - 特許庁 - The circuit board is produced by bonding the metal circuit board onto the ceramic substrate through the solder material, patterning the bonded metal circuit board and a corresponding solder material layer to form a metal circuit, and then removing a part of a conductive reaction layer formed through reaction of the solder material and the basic material of the ceramic substrate and exposed between the patterns of the metal circuit.
本回路基板は、セラミック基板に上記ろう材を用いて接合し、接合された金属回路板及びそれに対応するろう材層をパターン形成して金属回路を形成し、ろう材及びセラミッ基板の基材との反応によって形成された導電性の反応層のうち上記金属回路のパターン間により露出した部分を除去して製造される。 - 特許庁 - After a resist window pattern 3 is formed by adhering photoresist 2 onto a substrate 1 and patterning it by photolithography, the substrate 1 is etched by dry etching to form an overhang 5, a pattern material 6 of metal is vapor-deposited thereupon, and the photoresist 2 is removed to remove an unnecessary pattern material 6a, thereby forming a desired pattern 6b.
基板１上にフォトレジスト２を被着形成し、これをフォトリソグラフィでパターニングしてレジスト窓パターン３を形成した後、等方性ドライエッチングで基板１をエッチングすることによりオーバーハング５を形成し、その上から金属のパターン材料６を蒸着し、フォトレジスト２を除去することによって不要なパターン材料６ａを除去して所望のパターン６ｂを形成する。 - 特許庁 - The method includes: a step of forming an insulating film; a step of forming a conductive film on the insulating film; a step of forming a pixel electrode with an aperture by patterning the conductive film; and a step of forming the contact hole for communicating with the insulating film through the aperture by an etching method using the pixel electrode with the aperture as an etching mask.
絶縁膜を成膜する工程と、絶縁膜の上に導電膜を成膜する工程と、導電膜をパターニングして開口が設けられた画素電極を形成する工程と、開口が設けられた画素電極をエッチングマスクとしてエッチング法により絶縁膜に開口と連通するコンタクトホールを形成する工程と、を有することを特徴とするＴＦＴアレイ基板の製造方法。 - 特許庁 - A method for manufacturing the organic electroluminescent display device comprises a step of preparing the base substrate of the donor substrate; a step of washing the base substrate; a step of forming a transfer layer on the washed based substrate; and a step of patterning the transfer layer by disposing the donor substrate and a substrate with a pixel electrode formed thereon oppositely to each other.
本発明に係る有機電界発光表示装置の製造方法は、ドナー基板のベース基板を用意する段階と、前記ベース基板を洗浄する段階と、前記洗浄されたベース基板上に転写層を形成する段階と、前記ドナー基板を画素電極が形成された基板と対向するようにして、前記転写層をパターニングする段階と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - The manufacturing method of a plasma display panel equipped at least with a plurality of transparent electrodes 2a, 3a, a plurality of bus electrodes 2b, 3b and a plurality of blackstripes is one of first forming at least a transparent electrode film 14 over a whole display area, then forming bus electrodes 2b, 3b and blackstripes and afterwards patterning the transparent electrode film into a given pattern shape.
少なくともガラス基板上に複数の透明電極２ａ，３ａと複数のバス電極２ｂ，３ｂと複数のブラックストライプを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、少なくとも表示領域全面に透明電極膜１４を形成した後、バス電極２ｂ，３ｂとブラックストライプを形成し、その後透明電極膜１４を所定のパターン形状にパターニングする方法である。 - 特許庁 - A method for manufacturing a semiconductor device includes a step of applying the resist pattern thinning material to cover the surface of a resist pattern formed on a base layer to form a mixing layer with the resist pattern thinning material on the surface of the resist pattern and developing to form a thinned resist pattern, and a step of patterning the base layer by etching using the resist pattern as a mask.
下地層上に形成したレジストパターンの表面を覆うように該レジストパターン薄肉化材料を塗布し、レジストパターンの表面に該レジストパターン薄肉化材料とのミキシング層を形成し現像処理し、薄肉化したレジストパターンを形成する工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - To remove residues after patterning an electrode film on one principal surface side of a wafer without affecting the other principal surface side even if a curvature is generated on the wafer in a method of manufacturing an insulation gate type semiconductor device that includes a step of forming an Al-based alloy electrode film on the one principal surface of a thin wafer of 200 μm.
２００μｍ以下の薄いウエハの一方の主面にＡｌ系合金電極膜を形成する工程を有する絶縁ゲート型半導体装置の製造方法において、ウエハに反りが生じても他方の主面側に影響を及ぼさずに一方の主面側の電極膜のパターニング後の残渣除去ができる絶縁ゲート型半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The manufacturing method of the micro mirror actuator is characterized by including a step for etching a trench corresponding area on a substrate, a step for laminating the film shaped organic film on the substrate so as to maintain a hollow state of the trench corresponding area, and a step for eliminating the film shaped organic film after depositing and patterning a metal film on the film shaped organic film.
マイクロミラーアクチュエータの製造方法は、基板上にトレンチ対応領域をエッチングする段階と、前記トレンチ対応領域が中空状態を保つように基板上にフィルム状有機膜をラミネーションする段階と、前記フィルム状有機膜上に金属膜を蒸着してパターニングした後、前記フィルム状有機膜を除去する段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a new half mirror material formed by using a mirror ink; to provide a half mirror material suitable for easy small-lot production of patterning of a half mirror part by using normal printing operation to advantageously form the half mirror part without requiring large size equipment; and to provide a method for simply and easily manufacturing the half mirror material.
ミラーインキを用いて形成される新規なハーフミラー材料を提供すること、また、大型の設備を要することなく、通常の印刷操作を利用してハーフミラー部位が有利に形成され、且つ、そのようなハーフミラー部位のパターニングの容易な小ロッド生産に適したハーフミラー材料を提供すること、更に、そのようなハーフミラー材料を簡便に且つ容易に製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁 - In patterning the barrier material layer through a masking layer by sandblast process, the pattern in the vicinity of the end portion A in the masking layer 3 is made so that the masking layer 3 having an extended portion is put adjacent to the masking layer 3 having no extended portion and that the extended portion of that adjoining masking layer 3 is positioned on the extension line of the masking layer 3 having no extended portion.
マスキング層を介してのサンドブラスト加工により障壁材料層をパターニングするに際し、マスキング層３における端部Ａ付近のパターンを、延長部分の有るマスキング層３と延長部分のないマスキング層３とが隣合わせとなり、しかも延長部分のないマスキング層３の延長線上に隣のマスキング層３の延長部分が位置するパターンとする。 - 特許庁 - The disclosed method includes the steps of: providing a substrate; coating the substrate with an organic material layer through patterning; baking the substrate and the organic material layer; forming a metal thin film over the substrate and the organic material layer; and removing the organic material layer and the metal thin film over the organic material layer and forming a thin film antenna from the substrate and the metal thin film over the substrate.
基板を提供する工程と、パターンによって有機材料層を基板に塗布する工程と、基板と有機材料層をベークする工程と、金属薄膜を基板と有機材料層に形成する工程と、有機材料層と有機材料層にある前記金属薄膜を除去し、基板と基板の上にある金属薄膜で薄膜アンテナを形成する工程を含む。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the thin film transistor comprising the process of patterning at least one element of the thin film transistor (TFT) on an intermediate transfer medium and the process of transferring the at least one patterned element onto a long-length support body, the manufacturing method of the thin film transistor has the process of executing heating treatment to the at least one patterned element.
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の少なくとも一つの要素を中間転写媒体上にパターニングする工程、該パターニングされた少なくとも一つの要素を、長尺支持体上に転写する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 前記パターニングされた少なくとも一つの要素に、加熱処理を行う工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁 - The method comprises the stages of: providing a substrate having semiconductor layer which includes low concentration doping region adjacent to each both sides of channel region, and each source/drain regions adjacent to the low concentration region; and, after forming gate insulating film and conductive film on the substrate in order, forming a gate electrode by patterning the above-mentioned conductive film.
チャンネル領域両側に各々隣接した低濃度ドーピング領域及び低濃度ドーピング領域に各々隣接したソース/ドレーン領域を含む半導体層が形成されている基板を提供する段階及び基板上にゲート絶縁膜及び導電膜を順に形成した後、前記導電膜をパターニングしてゲート電極を形成する段階を含む薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a color filter substrate by simply correcting a black matrix exposure pattern, fabricating an exposure mask and forming a black matrix in a black matrix forming process in which a series of patterning treatments such as pattern exposure with a proximity exposure method on a black photosensitive resin layer on a transparent substrate, a development treatment and so on are conducted.
透明基板上の黒色感光性樹脂層に近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像処理等の一連のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成する工程において、簡易的にブラックマトリクス露光パターンのパターン補正を行って露光マスクを作製してブラックマトリクスを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method comprises the steps of: forming a silicon (Si) substrate; forming a silicon oxide film located on the substrate; forming a lower electrode, to which patterning has been conducted and which is located on the silicon oxide film; letting a PGO film located on the lower electrode be selectively deposited; annealing; and forming an upper electrode located on the PGO film.
本発明の方法は、シリコン（Ｓｉ）基板を形成する工程と、この基板の上に位置するシリコン酸化膜を形成する工程と、シリコン酸化膜の上に位置するパターニングされた下部電極を形成する工程と、下部電極の上に位置するＰＧＯ膜を選択堆積させる工程と、アニールする工程と、ＰＧＯ膜の上に位置する上部電極を形成する工程とを包含する。 - 特許庁 - The method of lithography patterning includes: forming a first resist pattern including a plurality of openings, on a substrate 110; forming a second resist pattern including at least one opening between the plurality of openings of the first resist pattern; and removing the first resist pattern to expose a part of the substrate 110 covered by the first resist pattern.
リソグラフィパターンの形成方法は、複数の開口を含む第１のレジストパターンを基板１１０上に形成する工程と、第１のレジストパターンの複数の開口の間に、少なくとも１つの開口を含む第２のレジストパターンを形成する工程と、第１のレジストパターンを除去し、第１のレジストパターンで覆われている基板１１０の一部を露出させる工程と、を含む。 - 特許庁 - The method of lithography patterning includes: a step of forming a first photoresist layer having at least one opening on a substrate; a step of curing the first photoresist layer; a step of forming a second photoresist layer on the substrate; a step of forming a material layer on the substrate; and a step of removing the first and second photoresist layers to expose the substrate.
リソグラフィによるパターンニング方法であって、少なくとも一つの開口部を有する第１のフォトレジスト層を基板上に形成する工程と、第１のフォトレジスト層を硬化させる工程と、第２のフォトレジスト層を基板上に形成する工程と、マテリアル層を基板上に形成する工程と、第１および第２のフォトレジスト層を除去して基板を露出させる工程と、を含む。 - 特許庁 - To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension.
フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。 - 特許庁 - A first process for producing an electric circuit component comprises steps (a) for forming a nonconductive trench structure on a substrate, (b) for patterning solution containing an electroless plating medium in the trench on the substrate by ink jet technology, and (c) for depositing a conductive substance in the opening of the trench structure by electroless plating followed by or not followed by elctroplating.
本発明の電気回路部品の第１の製造方法は、（ａ）基板上に非導電性の溝構造を形成する工程；（ｂ）インクジェット技術によって、該基板上の溝に無電解メッキ触媒含有溶液をパターニングする工程；および（ｃ）無電解メッキ法または無電解メッキ法に続く電解メッキ法により、該溝構造の開口部に導電性物質を析出させる工程を含む。 - 特許庁 - This manufacturing method includes a process of patterning a photoresist 2 by performing a developing process after coating the surface of a substrate 1 with the photoresist and performing proximity exposure of the photoresist 2 through a photomask 7, and then a process performing a heat treatment and a process of forming a reflecting film 3 on the heat-treated photoresist 2, and the proximity exposure is carried out under specified conditions.
この製造方法では、基板１の表面上にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト２にフォトマスク７を介してプロキシミティ露光を施した後、現像処理を行うことにより、フォトレジスト２をパターニングし、しかる後、熱処理を施す工程と、熱処理されたフォトレジスト２上に反射膜３を形成する工程と備え、プロキシミティ露光を所定の条件で実行する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductor in which an auxiliary electrode layer is formed partially on a concavo-convex part by vapor depositing obliquely a conductive material without patterning, and high transparency and high conductivity are realized compatibly, and which includes an improved light extraction efficiency when used for a light emitting element, and a manufacturing method of the transparent conductor for manufacturing the transparent conductor efficiently.
凹凸部に導電性材料を斜め蒸着することによりパターニングなしで、部分的に補助電極層を形成可能であり、高透明性と高導電性を両立することができ、発光素子に用いると光取り出し効率の向上を図れる透明導電体、及び該透明導電体を効率よく製造することができる透明導電体の製造方法の提供。 - 特許庁 - The first electrode substrate 10 is formed by patterning metallic auxiliary electrodes 12 on a plane placed opposite to the second electrode substrate 20 of a glass substrate 11, burying gaps between the auxiliary electrodes 12 with flattening films 13 and subsequently forming transparent electrodes 14 which are electrically connected with the auxiliary electrodes 12 exposed from the flattening films 13 on the flattening films 13.
第１電極基板１０は、ガラス基板１１の第２電極基板２０と対向する対向面に金属製の補助電極１２をパターニングし、この補助電極１２パターンの相互間を樹脂製の平坦膜１３で埋めた後、平坦膜１３上に平坦膜１３から露出する補助電極１２と電気的に接続するように透明電極１４を形成してなる。 - 特許庁 - In one embodiment, a method for etching chromium includes steps of: preparing a film stack having a chromium layer in a processing chamber; patterning a photoresist layer on the film stack; depositing a conformal protective layer on the patterned photoresist layer; etching the conformal protective layer to expose the chromium layer through the patterned photoresist layer; and etching the chromium layer.
一実施形態において、クロムをエッチングする方法は、クロム層を有する膜スタックを処理チャンバー内に用意するステップと、膜スタック上でホトレジスト層をパターン化するステップと、パターン化されたホトレジスト層に適合保護層を堆積するステップと、その適合保護層をエッチングして、パターン化されたホトレジスト層を通してクロム層を露出させるステップと、クロム層をエッチングするステップとを備えている。 - 特許庁 - The liquid crystal display device has a counter electrode facing pixel electrodes and drives liquid crystal by applying an electric field between the pixel electrodes and counter electrode in parallel to a substrate surface, and a pixel part is exposed repeatedly from one mask for patterning.
本発明の液晶表示装置の製造方法は、画素電極に対向する対向電極を有し、該画素電極および該対向電極の間に基板面に対して水平方向の電界を印加して液晶を駆動する液晶表示装置の製造方法において、画素部を露光する際に１枚のマスクから繰り返し露光してパターニングする液晶表示装置の製造方法である。 - 特許庁 - To improve characteristics of an organic thin film transistor by suppressing repellency of a coating in an area corresponding to a semiconductor thin film region by patterning a surface by using a finishing agent having a specified structure, improving crystallinity of a semiconductor, improving carrier mobility of a semiconductor thin film, and precisely forming a semiconductor film pattern.
本発明の目的は、特定構造の表面処理剤を用いて表面をパターン化することにより、半導体薄膜領域に相当する領域における塗膜のはじきを抑え、半導体の結晶性を向上させ、半導体薄膜のキャリア移動度を向上させると共に、半導体薄膜パターンを精度よく形成して有機薄膜トランジスタの特性を向上させることにある。 - 特許庁 - The cationic photopolymerizable epoxy resin composition for forming a structure member using the patterning by light irradiation contains (a) an epoxy resin, (b) a cationic photoinitiator, (c) a cationic polymerization inhibitor, (d) a compound having a fluoroalkyl group and a substituent crosslinkable with the epoxy group of the epoxy resin at a terminal and (e) a cationic thermal polymerization catalyst.
光照射によるパターンニングを利用した構造体形成用の樹脂として、（ａ）エポキシ樹脂、（ｂ）光カチオン重合開始剤、（ｃ）カチオン重合阻害物質、（ｄ）フルオロアルキル基を有し、かつ前記エポキシ樹脂のエポキシ基と架橋反応する置換基を末端に有する化合物及び（ｅ）熱カチオン重合触媒を含む光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を用いる。 - 特許庁 - An anisotropically electrically conductive double-sided tape which has anisotropy in electrical conductivity and adhesion and does not require heat treatment is formed by applying an electrically conductive adhesive 17 having a patterning at the position of electrodes on both front and back surfaces of an anisotropically electrically conductive sheet 15 composed of an insulation elastic material 11 such as an insulation silicone rubber and an electrically conductive filament 13 such as a metal wire.
絶縁シリコンゴム等の絶縁性弾性材１１と金属線等の導電性線状体１３とからなる異方導電性シート１５の表裏の両面に、電極の位置にパターニングした導電性接着剤１７を塗布することで、導電性に異方性を持ち、接着性があり、熱処理を必要としない異方導電性両面テープを形成する。 - 特許庁 - The forming method of the bump includes a process for patterning a resist layer 20 so as to have a through hole 22 upward of a pad 12, a process for hardening at least the surface of the resist layer 20 by applying energy 36 producing crosslinking reaction on the resist layer 20, and a process for forming metal layers 40, 42 connected electrically to the pad 12 in the through hole 22.
バンプの形成方法は、パッド１２の上方に貫通穴２２を有するようにレジスト層２０をパターニングする工程と、レジスト層２０に架橋反応を生じさせるエネルギー３６を加えてレジスト層２０の少なくとも表面を硬化させる工程と、貫通穴２２内にパッド１２と電気的に接続する金属層４０、４２を形成する工程と、を含む。 - 特許庁 - To provide a substrate for an organic EL element and its manufacturing method capable of patterning a light-emitting layer, or the like, without damaging a hole transport property, or the like, in the case of a layer for formation of a lyophilic area or a liquid-repellent area has such a property, and capable of restraining color shades or generation of short circuiting between electrodes.
親液性および撥液性領域を形成するための層が正孔注入性や正孔輸送性等を有する場合にその正孔注入性や正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能であり、また色むらや電極間の短絡発生を抑制可能な有機ＥＬ素子用基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - By patterning one or both of the electrodes 3 and 5 with small scale non-conducting gaps which have widths less than about 2.5 times of a cell gap t and are disposed substantially within the liquid crystal domains, or a combination of such gaps with gaps disposed primarily along the domain boundaries, not only control of the nature of the liquid crystal domains but also the responsiveness of the cell can be obtained.
セルギャップｔの約２．５倍未満の幅を有するとともに実質的には液晶ドメイン内に配置される小さな寸法の非導電性ギャップ或いは主にドメインの境界に沿って配置されたこのようなギャップの組み合わせで、電極（３，５）の１方又は双方をパターニングすることで、液晶ドメインの性質に対する優れた制御のみならずセルの反応性をも得ることができる。 - 特許庁 - The exposure apparatus for exposing the patterns of the original plates on the substrate by double patterning includes a stage that moves with the original plate placed thereon, a holding means for holding the original plate to be exposed following the original plate placed on the stage, a heating means for heating the original plate held by the holding means, and a control means for controlling the heating means.
ダブルパターニングにより複数の原版のパターンを基板に露光する露光装置において、 原版を搭載して移動するステージと、前記ステージに搭載されている原版の次に露光すべき原版を保持する保持手段と、前記保持手段により保持された原版を温調する温調手段と、前記温調手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an organic EL element of a simple manufacturing process and high productivity of zoning pixel electrodes formed in patterning on a substrate by a liquid-repellent layer formed by a stable liquid-repellent layer forming method, and forming a stable pixel in each zone with the use of a droplet discharge method, as well as an organic EL element and a device using the organic EL element.
製造工程が簡便で、生産性が高く、安定した撥液層形成方法を用いて形成した撥液層により、基板上にパターン化されて形成された画素電極を区画し、各区画内に液滴吐出法を使用し、安定した画素を形成する有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子を使用した装置の提供。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device, capable of reducing the connection resistance of a pixel electrode and a drain electrode through a interlayer insulating film, and also, capable of satisfactorily patterning an ITO film free from a short circuit between mounted terminals on a single etching processing stage at the time of forming the pixel electrode, as for the liquid crystal display device having a pixel uppermost layer structure.
画素最上層構造を有する液晶表示装置において、層間絶縁膜を介した画素電極とドレイン電極の接続抵抗を低減できると共に、画素電極形成時に、ＩＴＯ膜を一回のエッチング処理工程で実装端子間に短絡のないかつ良好なパターン形状にパターニングすることのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A method includes a step of forming a titanium oxide film, preferably with a patterning, on a glass substrate having three-dimensional curvature shape by an electrodeposition method using a water dispersion solution containing a resin and titanium oxide capable of electrodeposition, and a step of forming the dye-sensitized solar cell using the titanium oxide film as a photoelectric conversion layer.
色素増感太陽電池を備えた車載用ガラスを製造する方法であって、電着可能な樹脂と酸化チタンを含む水分散液を用いた電着法により、３次元曲面形状を有するガラス基板の上に、好ましくはパターニングされた酸化チタン膜を形成する工程と、酸化チタン膜を光電変換層として用いて色素増感太陽電池を作製する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁 - There is provided a process method for easily manufacturing various forms of molds which have disadvantages in applying a nano imprint process by using nano imprint and a dry etching process by patterning a molding resin of a substrate having a metal pattern patterned thereon, and forming a nano-class pattern and a complicated three-dimensional micro pattern using a nano imprint process with the manufactured molds without executing a complicated process several times.
金属パターンがパターニングされている基板のモールド用レジンをナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて、ナノインプリント工程を適用する上で難が多かった様々な形態のモールドを容易に製作し、複雑な工程を数回行うことなく、製作されたモールドでナノインプリント工程を用いてナノ級パターンや複雑な３次元形状の微細パターンの成形を可能にする工程方法を提供する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the organic EL element consisting of a first electrode patterned on a substrate, an organic layer containing an organic light-emitting layer arranged on the first electrode, and a second electrode arranged on the organic layer, includes a process in which the first electrode is formed by patterning with the use of printing of resist liquid or etchant liquid.
基板上にパターニング配設された第一電極、該第一電極上に配設された有機発光層を含む有機層および該有機層上に配設された第二電極からなる有機エレクトロルミネッセンス素子の作製方法において、前記第一電極は、レジスト液またはエッチャント液の印刷を用いたパターニングにより形成されて工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の作製方法。 - 特許庁 - Degradation of a transfer layer 153 can be prevented by using laser beams 240 of high intensity generated from the laser generator 211 for patterning, and advantageously, transfer can be excellently performed without occurrence of any edge open failure even in a portion having a step of an acceptor substrate 160 by preheating the portion with laser beams 245 generated from the laser generator 212 for preheating.
パターニング用レーザ発生器２１１から発生する高強度のレーザビーム２４０を利用することによって，転写層１５３が劣化するのを防止することができると同時に，予熱用レーザ発生器２１２から発生するレーザビーム２４５で予熱することによって，アクセプタ基板１６０の段差が存在する部分でもエッジオープン不良が発生することなく，転写を良好に行うことができるという利点がある。 - 特許庁 - A method for manufacturing the capacitor of the semiconductor element comprises a step of vapor depositing a Ta metal film 28 on a semiconductor substrate 20, a step of crystallizing the Ta metal film 28, a step of forming a lower electrode 30 by patterning a prescribed part of the film 28, a step of forming the TaON film on the electrode 30, a step of forming an upper electrode 34 on the TaON film 32.
半導体基板20上にＴａ金属膜を蒸着するステップと、Ｔａ金属膜28を結晶化するステップと、Ｔａ金属膜28の所定部分をパターニングして、下部電極30を形成するステップと、下部電極30上にＴａＯＮ膜を形成するステップと、ＴａＯＮ膜32上に上部電極34を形成するステップとを含む半導体素子のキャパシタの製造方法及びこれにより製造される半導体素子のキャパシタ。 - 特許庁 - The method is a thermolysis mutual fusion method for heat decomposable particles for heating the heat decomposable particles selectively, by performing on various kinds of boards surface application or circuit patterning of particles having a heat decomposable property and capable of absorbing high frequency electromagnetic waves, and subsequently performing high frequency electromagnetic irradiation, and relates to electronic mounted components such as conductive materials, conducting paths, bumps, pads, vias, etc. formed by the method.
熱分解性を有し且つ高周波電磁波を吸収する粒子を、各種基板上に表面塗布又は回路パターンニングを行った後に、高周波電磁波照射を行うことで、熱分解性粒子を選択的に加熱する熱分解性粒子の加熱分解相互融着方法とこの方法を用いて形成した導電材、導電路、アンテナ、バンプ、パッド、ビア等の電子実装部品である。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition that is used for processes of manufacturing semiconductors such as an IC, manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and for other photofabrication processes, and to provide a patterning method that uses the composition, wherein superior line width roughness (LWR) performance can be obtained.
ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能を得ることを可能にしたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive conductive paste composition that can form a circuit pattern achieving high-definition patterning, having stable adhesiveness to a substrate or a lower layer in each process of drying, exposure, development and baking, having excellent baking property, excelling in adhesiveness to the substrate and adhesiveness between layers after baking, suppressing the formation of edge curls and showing a low sheet resistance value.
高精細パターン化が可能であり、乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板もしくは下層に対して安定した密着性を有すると共に、優れた焼成性を有し、焼成後の基板への密着性、層間の密着性に優れ、エッジカールの発生を抑制でき、かつ低いシート抵抗値を示すような、回路パターンを形成することができる、感光性導電性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a glass film laminate capable of improving handling performance when manufacturing-related processing is performed for a glass film, preventing shifting or the like during positioning or patterning, easily peeling the glass film from a supporting glass when the glass film is integrated into various devices after the manufacturing-related processing, and surely preventing remaining of adhesives on the glass film after the peeling.
ガラスフィルムに対して製造関連処理を行う際の取り扱い性を向上させ、位置決め時やパターニング時のずれ等の問題も生じず、製造関連処理後にガラスフィルムを各種デバイスに組み込む際には、支持ガラスからガラスフィルムを容易に剥離させることを可能にしつつ、且つ剥離後において粘着剤がガラスフィルムに残存することを確実に防止することを可能とするガラスフィルム積層体を提供する。 - 特許庁 - A dielectric film made of a barium-titanate-based ceramic material is formed on a metal foil with an aerosol deposition method; first via conductors and second via conductors connected to the metal foil are embedded in the dielectric film; a first electrode pattern connected to the first via conductors is formed on the dielectric film; and a second electrode pattern connected to the second via conductors is formed by patterning the metal foil.
金属箔上に、エアロゾルデポジション法により、チタン酸バリウム系セラミックス材料の誘電体膜を形成し、誘電体膜に、金属箔に接続された第１のビア導体及び第２のビア導体を埋め込み、誘電体膜上に、第１のビア導体に接続された第１の電極パターンを形成し、金属箔をパターニングし、第２のビア導体に接続された第２の電極パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer that prevents wiggling in substrate etching and prevents a poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist, to provide a process for forming the resist underlayer film, and to provide a patterning process and a fullerene derivative.
本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜、を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。 - 特許庁
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