「Patterning」を含む例文一覧(3921)
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また、額縁部１０４に表示領域１０２と同等の面積密度の凹パターンを形成した後に、柱状スペーサ２５、５０を形成する際に、その柱状スペーサ５０で額縁部１０４に形成された透明絶縁膜層の凹パターンを埋めるようにパターンニングする。 - 特許庁 - To provide a dielectric filter, that eliminates the need for signal input output lead terminal and where a manufacture cost of formation of a conductor film in the outside and inside of a dielectric block and its patterning can be suppressed, and to provide a duplexer and manufacture of a communication unit using them.
信号入出力用のリード端子を不要とし、また、誘電体ブロック内外の導体膜の形成およびそのパターンニングに関する製造コストを抑えられるようにした誘電体フィルタ、デュプレクサおよびそれらを用いた通信機器の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a copper polyimide laminated film for improving normal adhesive power, heat-resistant adhesive power after the application of a heat load to the film, and furthermore, the adhesive power of the film subjected to electroless tin plating, and heat load application after thin line patterning in a view of the fact that the adhesive power used is insufficient as far as the copper polyimide laminated film manufactured using a conventional technique is concerned.
従来技術による銅ポリイミド積層フィルムにおいては不十分であった、常態密着力、熱負荷後の耐熱密着力、さらには細線パターン後、無電解スズめっきを施したものに熱負荷を加えたものの密着力を改善することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent panel capable of forming a film patterning in such a way that a passivation layer covers an organic electroluminescece layer avoiding an electrode connection part on an organic electroluminescent substrate without degradation of original performance of the passivation layer, and to provide a mask used for the same.
パッシベーション層本来の性能を低下させることなく、有機エレクトロルミネッセンス基板上の電極接続部にのみパッシベーション層が被覆しないようにパターニング成膜することのできる有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法とそれに用いるマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a substrate adaptable to a fine patterning, a mask blank and a transfer mask at a high yield, by detecting an internal defect (an optically non-uniform part) of a substrate for a mask blank at low maintenance cost and at a low inspection cost using an inspection device manufactured at low cost.
低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥（光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁 - A conductive film 118 formed as a pixel electrode is formed (Fig. (C)) and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 127, source wiring 125, a drain electrode 126, a source region 123, a drain region 124 and an amorphous semiconductor film 122 for channel formation (Fig. (D)).
画素電極となる導電膜１１８を形成し（図（Ｃ））、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１２７、ソース配線１２５及びドレイン電極１２６、ソース領域１２３及びドレイン領域１２４、チャネルが形成される非晶質半導体膜１２２を形成する（図（Ｄ））。 - 特許庁 - A groove with its planar shape of an inclined face and an angle of gradient even from the central part to the longitudinal end is obtained by heat-treating and patterning at the time of forming a resist pattern after curling up the longitudinal tip of the inclined plane of a part corresponding to the groove in a semicircle.
レジストパターン形成時に、この溝に相当する部分の斜面の長手方向の先端を半円形状に丸めておき、加熱処理をしてパターニングすることで、斜面の平面形状および傾斜角度が中央部から長手方向の端部まで均一である溝を得る。 - 特許庁 - To provide a knitted jacket requiring not so much time for preparation for start of production or change in design, applicable to complicated patterning, highly flexible in design, reducing time and costs required for a cutting process, slightly causing cut loss, and excellent in wearing feeling: and to provide a method for producing the jacket.
製造開始の準備やデザインの変更にそれほどの時間と労力とを要することがなく、複雑な柄出しが可能でデザイン上の自由度が高く、裁断工程に要する時間とコストを削減することができ、カットロスが少なく、着心地の良いニット上着及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display wherein cost increase generated by patterning can be prevented, disturbance of liquid crystal injection due to presence of a protrusion in a liquid crystal layer can be avoided and reduction of contrast caused by light leakage at the time of black display can be avoided and to provide a manufacturing method of the same.
パターニングによるコスト高を防止し、液晶層内の突起の存在により、液晶の注入が妨げられるのを回避し、かつ黒表示時に光漏れが発生し、コントラストが低下するのを回避し得る液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The laser processing device 100 includes two galvanoscanners (14 and 24) which scan two processing regions R1 and R2 (y1 and y2) on a processing stage (4) aligned in a longitudinal carrying direction of a flexible substrate 1 with laser beams, respectively, while concurrently performing patterning; and a control part (19) common to them.
レーザ加工装置１００は、可撓性基板１の長手搬送方向に並設された加工ステージ（４）上の２つの加工領域Ｒ１，Ｒ２（ｙ１，ｙ２）に対して、それぞれレーザ光を走査し、同時並行してパターニングを行なう２つのガルバノスキャナ（１４，２４）と、それらに共通の制御部（１９）とを備えている。 - 特許庁 - To solve such a problem that, when a sublimation material is formed by coating, an organic compound layer cannot be deposited in a consecutive vacuum, so that a manufacturing cost and a tact time is increased, in a method for manufacturing an organic EL display device, the method using a release layer comprising the sublimation material for patterning a luminous layer.
昇華材料からなる剥離層を用いて発光層をパターニング形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、昇華材料を塗布により形成すると有機化合物層を一貫した真空下で成膜ができなくなり、製造コストやタクトタイムが長くなってしまう。 - 特許庁 - Also, in accordance with the modifying of this patterning mask, an isolation-film removing mask pattern 40a' is so modified and so designed in a first region A' of the isolation-film removing mask as to remove the predetermined region of the isolation film, which is to be formed on the first quasi activated region.
また、このパターニング用マスクの修正に伴って、絶縁膜除去用マスクの第１領域Ａ’に、第１の疑似の活性化領域上に形成される絶縁膜の所定領域が除去されるように絶縁膜除去用マスクパターン４０ａ’を修正設計する。 - 特許庁 - To measure as to whether or not a disc which is of circular discs used in a device for detecting displacement information of a displaced object such as a position, a displacement value, a displacement direction and the like, satisfies a desired diffraction efficiency, without individually cutting the disc out of a wafer whereon patterning the disc is carried out.
変位物体の位置、変位量、変位方向等の変位情報を検出する装置に用いる円形のディスクに関し、ウエハにパターンニングされた状態からディスクを個別に切り出すこと無く、ディスクが所望の回折効率を満たしているかどうかを測定すること。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board in which connecting pads are jointed strongly to a mother board and are capable of being divided so as to keep a predetermined position relation with respect to the outer rim of the wiring board region, while being capable of connecting the connecting pads normally to an external electric circuit through individual wiring boards.
接続パッドが母基板に強固に接合されると共に接続パッドが配線基板領域の外縁部に対して所定の位置関係とされて分割でき、個々の配線基板で接続パッドを外部の電気回路に正常に接続できる多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁 - The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.
ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁 - Subsequently, the glass substrate 21 is turned over and the back surface 21b is exposed upward, and a second mask 32 is arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 43 and 44 match the cut 22, before carrying out lithographic patterning on the back surface 21b of the glass substrate 21 according to a second mask pattern 42.
そして、ガラス基板２１を裏返し、ウラ面２１ｂを上方に露呈させ、アライメントマーク４３，４４が切り欠き２２に合致するように第２マスク３２をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のウラ面２１ｂに第２マスクパターン４２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁 - To provide a material and a process for eliminating a complicated and constrained process on patterning a functional film, and for specifying the position of the outer edge in the patterned functional film at a low cost with a simple configuration, and further to provide the organic electroluminescent element of high capability using these material and process at a low cost.
機能膜をパターンニングする際に、プロセスの複雑化や制約を低減し、パターン形成される機能膜の外縁部の位置を低コストかつ簡便に規定するための材料及びプロセスを提供し、さらにはそれらを用いて低コストで高性能の有機電界発光素子を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.
上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To overcome the problem of a prior art such that the reaction product of the atom of a metal film and the gas of dry etching is generated for preventing the patterning of the insulating film in a termination process when the insulating film on the metal film is subjected to dry etching by a mask made of a photosensitive resin that is subjected to pattern formation.
金属膜上の絶縁膜を、パターン形成された感光性樹脂のマスクでのドライエッチングを行うと、終端工程で、上記金属膜の原子と上記ドライエッチングのガスとの反応生成物が生成され、上記絶縁膜のパターン化の支障になる。 - 特許庁 - In this high polymer electroluminescent element constituted by laminating at least an electrode, a high polymer light emitting layer, and an opposing electrode on a substrate, an insulation protection layer is provided between the high polymer light emitting layer and the opposing electrode to prevent leak and short circuit of the element caused by defective patterning.
基板上に少なくとも電極と高分子発光層と対向電極を積層してなる高分子エレクトロルミネッセンス素子において、高分子発光層と対向電極との間に絶縁保護層を設けることでパターニング不良などに起因する素子のリークや短絡を防止する。 - 特許庁 - Preferably, a plastic substrate 12 having at least one side with a barrier layer 14a or 14b formed thereon is used for the flexible barrier substrate and the protective film is solubilized in the solvent by irradiation of light having a wavelength different from the exposure wavelength of a photosensitive resin used for patterning of the conductive film.
好ましくは、プラスチック基板１２の少なくとも一方の面にバリア層１４ａ，１４ｂが形成された可撓性バリア基板を用い、保護膜は、導電性膜をパターニングする際に用いる感光性樹脂の感光波長とは異なる波長の光照射によって溶剤に可溶化する。 - 特許庁 - A movable electrode 20 is formed on a sacrifice layer 15 formed on a silicon substrate 1, and a wiring laminated part where a first interlayer insulation film 16, a first wiring layer 23, a second interlayer insulation layer 17, and a second wiring layer 24 are laminated in this order while partially patterning.
シリコン基板１上に形成された犠牲層１５上に可動電極２０を形成し、可動電極２０上に、第一層間絶縁膜１６、第一配線層２３、第二層間絶縁膜１７、第二配線層２４を、この順に一部をパターニングしながら積層させた配線積層部を形成する。 - 特許庁 - The antenna element 3 is roughly configured by patterning in total 4 layers of radiation conductors 5 to 8 to both ceiling and bottom faces and an intermediate layer of the dielectric base 4 adopting a multilayer structure, connecting the radiation conductors 5 to 8 in parallel and incorporating a varactor element 9 and a capacitor 10.
このアンテナ素子３は、多層構造の誘電体基体４の天地両面と中間層に計４層の放射導体５〜８をパターニングして、各放射導体５〜８を並列に接続すると共に、可変容量素子９やキャパシタ１０を組み込んで概略構成されている。 - 特許庁 - A method for producing the artificial marble in which the artificial marble is produced by injecting a material for producing the artificial marble obtained by additionally adding the patterning materials 1 into the matrix compound composed by mixing additives such as fillers and hardeners in a thermosetting resin into a casting mold, shaping and hardening it.
熱硬化性樹脂に充填剤と硬化剤などの添加物を配合したマトリックスコンパウンドに更に柄材１を添加して得た人造大理石成形用材料を注型用金型に注入して成形硬化させて人造大理石を製造する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁 - Immediately after a resist pattern 2a having light shielding property against exposure light and consisting of an electron beam-sensitive resist film 2 is formed by patterning the electron beam-sensitive resist film 2 applied on the principal face of a mask substrate 1, a pellicle PE is mounted on the principal face of the mask substrate 1.
マスク基板１の主面上に塗布された電子線感応レジスト膜２をパターニングすることにより、電子線感応レジスト膜２からなり露光光に対して遮光性を有するレジストパターン２ａを形成した直後にマスク基板１の主面にペリクルＰＥを装着する。 - 特許庁 - In the film formation method of the substrate 30, when an SiO_2 film 38 is formed on the substrate 30, the area S_1 of high etching resistance and the area S_2 of low etching resistance are formed so as to be along the uneven patterns of the patterning part 14 of an electrode plate 10.
本発明に係る基板３０の成膜方法においては、基板３０上にＳｉＯ_２膜３８を成膜すると、そのＳｉＯ_２膜３８には、電極プレート１０のパターニング部１４の凹凸パターンに沿うように、エッチング耐性の高い領域Ｓ_１と低い領域Ｓ_２とが形成される。 - 特許庁 - The apparatus further includes: a polarization changing element 10, such as a quarter-wave plate, that is adjustable; and a polarization analyzer 12, such as a linear polarizer, wherein the polarization changing element and the polarization analyzer are arranged in the radiation beam path at a position at which a patterning device is held by the support.
この装置は、４分の１波長板などの調整可能な偏光変化素子１０と、直線偏光子などの偏光アナライザ１２とをさらに含み、偏光変化素子及び偏光アナライザはパターン形成機器が支持体によって保持される位置のビーム経路内に整列配置される。 - 特許庁 - Patterning is made according to the assumable combination of the current position of each car with its destination where the relation between the operation of the car and the common stopping floor is taken into consideration, and a plurality of operating patterns for operating the cars safely at the common stopping floor are set previously.
各乗りかごの運行と共通停止階との関連において各乗りかごの現在位置および行き先階の想定し得る組合わせによりパターン分けして、各々の乗りかごを共通停止階で安全に運行させるための複数の運行パターンをあらかじめ設定する。 - 特許庁 - To provide a substrate for an organic EL element and its manufacturing method capable of patterning a light-emitting layer, or the like, without damaging hole transport properties, or the like, in the case of a layer for formation of a lyophilic region or a liquid-repellent region having such properties.
本発明は、親液性領域および撥液性領域を形成するための層が正孔輸送性等を有する場合にその正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能な有機ＥＬ素子用基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - Thus, in the subsequent process to the patterning process, the two-dimensional bar codes 21, 22 are imaged, the manufacturing conditions are read from the obtained image, and the manufacturing process is performed according to the read manufacturing conditions, so that a mistake in setting the manufacturing conditions by a worker is reduced.
これにより、パターニング工程の後の工程では、二次元バーコード２１、２２を撮像し、得られた画像から製造条件を読み出し、読み出した製造条件に従って製造工程を実施することができ、作業者による製造条件の設定ミスを低減すること可能になる。 - 特許庁 - The lighting device includes a radiation surface, at least one light source 16 arranged so as to face the radiation surface, and a phosphor layer 24 arranged between the radiation surface and the light source by separating from the light source and patterning a phosphor excited by light emitted from the light source.
照明装置は、放射面と、放射面に対向して配置された少なくとも１つの光源１６と、放射面と光源との間に光源から離間して配置され、光源からの光により励起される蛍光体をパターニングした蛍光体層２４と、を備えている。 - 特許庁 - In the patterning method, a photosensitive heat-resistant resin precursor is applied on a substrate, dried, patternwise exposed, developed, subjected to heat treatment 1 at 50-200°C for a short time within 5 hr after the development and further subjected to heat treatment 2 at 250-450°C.
感光性耐熱樹脂前駆体を基板上に塗布、乾燥、パターン上に露光、現像した後、現像終了から５時間以内に５０℃〜２００℃で短時間熱処理１を実施した後、さらに２５０℃〜４５０℃で熱処理２を実施することを特徴とする感光性耐熱樹脂前駆体のパターン加工方法。 - 特許庁 - Further, the first metal layer 23 has a patterning of a prescribed shape which is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and functioning as an electric circuit and a heat radiating pattern 232 functioning for radiating heat generated by the light emitting device 4.
そして、第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された電気回路として機能する回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁 - A method for manufacturing the polygonal semiconductor ring laser comprises steps of growing an n-type AlGaAs clad layer 11, an active layer region 12, an AlAs-current constriction layer 13, and a p-type AlGaAs clad layer 14 on an n-type GaAs substrate in Fig. (a); and patterning a first resist 1 thereon, in a shape of an optical waveguide.
（ａ）において、ｎ型ＧａＡｓ基板上に、ｎ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１１、活性層領域１２、ＡｌＡｓ電流狭窄層１３と、ｐ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１４を成長させ、その上に第一のレジスト１を光導波路の形状にパターニングする。 - 特許庁 - A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of sequentially forming the polycrystalline silicon film 5, the tungsten silicide film 6 and an insulating film 7 on the gate insulating film 4 of the main surface of a semiconductor substrate 1, a step of patterning them, and a step of forming the gate electrode 8 having the laminated structure of the polycrystalline silicon film 5 and the tungsten silicide film 6.
半導体基板１の主面のゲート絶縁膜４上に、多結晶シリコン膜５、タングステンシリサイド膜６および絶縁膜７を順に形成し、それらをパターニングして多結晶シリコン膜５およびタングステンシリサイド膜６の積層構造を有するゲート電極８を形成する。 - 特許庁 - To present a substrate for easily fabricating a fine element such as a semiconductor element, an integrated circuit, and a device for an image display at a low cost without patterning by photolithography for the fabrication of the fine element, a fabrication method for the substrate, and a thin-film forming method using the substrate.
微細素子の製作に際してフォトリソグラフィによるパターニングを施すことなく、低コストで簡易に半導体素子、集積回路、画像ディスプレー用デバイス等の微細素子を作製するための基板、該基板の作製方法、及び該基板を用いる薄膜形成方法を提示すること。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - Forming an overcoat layer 20a and a spacer part 20b in one body (an overcoat part 20) eliminates the need for newly patterning the spacer part 20b after having formed the overcoat layer 20a, and forming the overcoat layer 20a and the spacer 20b can be made in a single step.
オーバーコート層２０ａとスペーサ部２０ｂとを一体的に形成する（オーバーコート部２０）ことにより、オーバーコート層２０ａを形成した後であらためてスペーサ部２０ｂをパターニングする必要が無く、オーバーコート層２０ａとスペーサ２０ｂとを一の工程で形成することができる。 - 特許庁 - When a plurality of coating patterns are plotted on the surface of the substrate 2 by the relative movement of a nozzle 3 and the substrate 2, data of the height of a nozzle position in the preceding coating are once stored in a memory and are read in the start of the next coating patterning to set the initial height of of the nozzle position with the control of a servo motor.
ノズル３と基板２との相対移動により、基板２面に複数個の塗布パターンを描くとき、前回の塗布時におけるノズル位置高さデータを一旦メモリに記憶し、次の塗布パターン開始時に、それのデータを読み出し、サーボモータを制御してノズル初期高さ位置設定を行う。 - 特許庁 - Such plural transparent conductive films 24 for the panel heater are arranged and installed along the diagonal line, and patterning is carried out over almost the entire face of the glass substrate 23, and a bus bar 25a is formed on a substrate brim of one side of the diagonal line taken as the center, and a bus bar 25b is also formed on the substrate brim of the other side.
このようなパネルヒーター用透明導電膜２４を対角線にそって複数個配設し、ガラス基板２３のほぼ全面にパターニングし、この対角線を中心として一方側の基板縁にバスバー２５ａを、他方側の基板縁にもバスバー２５ｂを形成する。 - 特許庁 - The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁 - To provide a developer for photosensitive polyimides, with which polyimide patterning for interlayer insulating films for multi-layered circuit boards and for α-ray shield layers, buffer coat layers and others for semiconductor memory devices is attained within a shorter period of time than with conventional developers and with which high resolution of developed patterns is ensured.
本発明は、多層配線板用の層間絶縁膜や半導体メモリー素子用のα線遮蔽膜、バッファーコート膜などのポリイミドパターン加工を従来と比較し短時間にて行え、現像パターンの解像度が高い感光性ポリイミド用現像液を提供する。 - 特許庁 - A different refractive index film is layered by (a) depositing an energy-sensitive insulating film on a substrate, (b) depositing a film having a 1st refractive index which is patterned by irradiation with patterning energy, and (c) depositing a film having a 2nd refractive index on the film having the 1st refractive index.
（ａ）基板上にエネルギー感受性の絶縁膜を形成し；（ｂ）パターン化エネルギーの照射により、パターン化された第１の屈折率を有する膜を形成し；（ｃ）該第１の屈折率を有する膜上に、第２の屈折率を有する膜を形成することにより、異なる屈折率膜を積層する。 - 特許庁 - In the patterning process of the gate, a polycrystalline silicon film 16a which constitutes the floating gate 6 is left in the element formation area 12, and besides in condition that the element isolation film 14 is exposed, the etching is stopped once, and a groove is made in the surface of the element isolating and insulating film 14.
ゲート部のパターニング工程では、浮遊ゲート６を構成する多結晶シリコン膜１６ａが素子形成領域１２に残され、且つ素子分離絶縁膜１４が露出した状態で一旦エッチングを止めて、素子分離絶縁膜１４の表面に溝２３を加工する。 - 特許庁 - In a method for manufacturing the cement type inorganic material wherein a wet sheet material made from a cement kneaded substance is press-molded, when the patterning of the wet sheet material is press-molded, a pattern forming part is vacuum-sucked and the atmosphere (A) around the wet sheet material is made under a high pressure condition.
セメント混練物からの湿潤シート材をプレス成形するセメント系無機質材の製造方法において、プレス成形による湿潤シート材の模様付けに際し、模様形成部を減圧吸引するとともに、湿潤シート材の周囲の雰囲気（Ａ）を高気圧状態とする。 - 特許庁 - This warp knitting machine also includes pattern guide elements 30 for guiding patterning yarns constituting patterns of the knitted fabric and a driving unit 34 functioning to arrange the pattern guide elements 30 at predetermined pitches correspondingly to the part of the ground guide bar 26 and making the pattern guide elements 30 movable to any positions within the width of the ground guide bar 26.
編地の柄を構成する柄糸を導糸する柄ガイドエレメント３０と、柄ガイドエレメント３０を所定ピッチで地ガイドバー２６の一部分に対応して配置し、柄ガイドエレメント３０を地ガイドバー２６に対してその幅内の任意の位置に移動可能にする駆動装置３４を設ける。 - 特許庁 - A hard mask for etching the interlayer dielectric is formed by patterning the uppermost metal layer 5 of a multilevel interconnection insulated by the interlayer dielectric 3, and the interlayer dielectric 3 is etched using the mask to form the empty groove 4 which is located in the periphery of the semiconductor substrate 1 to makes its surface exposed.
層間絶縁膜３により絶縁された多層配線の最上層の金属層５をパターニングして層間絶縁膜エッチング用ハードマスクを形成し、このマスクを用いて、層間絶縁膜３をエッチングして半導体基板１の周辺部分に基板表面が露出する空堀４を形成する。 - 特許庁 - The resin composition for an artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, an inner releasing agent, a hardening agent, a patterning material c which expresses an artificial marble pattern, or the like into a thermosetting resin, wherein it is characterized in that micro balloons a and thermal-expansible microcapsules b are added and compounded in combination into the resin composition.
熱硬化性樹脂に充填剤、内部離型剤、硬化剤、人造大理石柄を表現する柄材ｃ等の添加物を配合して得られる人造大理石用樹脂組成物において、マイクロバルーンａと熱膨張性マイクロカプセルｂとを併用して添加配合したことを特徴とする。 - 特許庁 - The plasma display is manufactured by the manufacturing method of the plasma display panel in which on a barrier rib material coating film installed on a glass substrate, a glass containing material to form a step forming layer is formed at a position of the vertical barrier rib in a stripe shape, and patterning of the lattice-shaped barrier rib is carried out afterwards.
ガラス基板上に設けられた隔壁材料塗膜上に、段差形成層となるガラス含有材料を縦隔壁位置にストライプ状に形成し、その後格子状の隔壁をパターニングすることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法により製造する。 - 特許庁 - In this method of correcting a defect part of a barrier rib of a substrate (back plate) for the plasma display panel provided with the barrier rib formed by patterning a barrier rib forming material and baking the same at a predetermined temperature, a barrier rib mending material is packed in the defect part of the barrier, and re-baked again.
障壁形成用材料をパターンニングし、所定の温度で焼成して障壁を形成したプラズマディスプレイパネル用の基板（背面板）の障壁の欠損箇所を修正する方法であって、障壁の欠損箇所を障壁補修材料で充填し、再度焼成する。 - 特許庁
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