「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 78 79 次へ＞- In this semiconductor device, a defect detecting conductor wiring 1 is formed on the topmost layer 3a in multilayer wiring structure, and then conductor wirings 10, 11, 12 are formed on the topmost layer 3a in multilayer wiring structure or the second layer 3b at a minimum design interval capable of adjacently patterning.
多層配線構造の最上層３ａに欠陥検出用導体配線１を形成し、それに隣接してパターニング可能な最小設計間隔で多層配線構造の最上層３ａ又は２層目３ｂに導体配線を１０、１１、１２を形成する。 - 特許庁 - The method accomplishes patterning of a micron order and uniaxial orientation of a one dimensional conjugated oligomer simultaneously and comprises adding at least a surface active agent to the solution of an oligomer molecule having a π-conjugated system developed in the direction of the longitudinal axis of the molecule and impressing a magnetic field on the solution.
一次元共役系オリゴマーのパターニングと一軸配向を同時に実現する方法であって、分子長軸方向に発達したπ共役系をもつオリゴマー分子の溶液に、少なくとも表面活性剤を添加し、磁場を印加することとする。 - 特許庁 - After patterning a wiring pattern 2 and a connection terminal 3 with positive type photosensitive resist 6 on an insulating substrate 1, the photosensitive resist 6 on the wiring pattern 2a covering the connection terminal 3 part and solder resist 4 is removed selectively thus forming the solder resist 4.
絶縁基板１上にポジ型の感光性レジスト６で配線パターン２と接続端子３をパターニングした後、接続端子３部およびソルダーレジスト４を被覆する配線パターン２ａ上の感光性レジスト６を選択的に除去した後、ソルダーレジスト４を形成する。 - 特許庁 - Patterning is performed on the transparent conductive film by laser using a transparent electrode film constituted by addition (co)polymer of cyclic olefin in which copolymerization ratio of norbornene and ethylene is 80:20 to 90:10 and melt volume rate is 0.8 to 2.0 cm^3/10 minutes as a substrate.
ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が８０：２０〜９０：１０、メルトボリュームレートが０．８〜２．０ｃｍ^３／１０分である環状オレフィンの付加（共）重合体よりなる透明電極フィルムを基板として用いて、透明導電膜がレーザーによりパターニングされる。 - 特許庁 - The method includes patterning a current collector 102 to have at least one electrolyte opening, disposing an electrolyte 106 into or through at least one opening, and disposing catalyst, at least in part, over the disposed electrolyte.
少なくとも１つの電解質開口部を有するように集電体１０２をパターニングし、少なくとも１つの開口部の中に、又は開口部を通じて電解質１０６を配置し、及び配置された電解質上に少なくとも部分的に触媒を配置する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a lower layer film by which the film reduction of a resist pattern in the upper layer is suppressed and a pattern having sidewalls perpendicular to the film and a good square cross-sectional form can be formed with high resolution and high dimensional accuracy.
下層膜をパターニングする方法において、その上層のレジストパターンの膜減りを抑制するとともに、垂直な側壁を有し、断面が矩形の良好な形状を有するパターンを高い解像度、かつ高い寸法精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁 - A carrier for culturing the cell has a finely processed surface obtained by peeling an ion beam irradiated layer of a highly polymeric material surface formed by patterning ion beams on the surface of the highly polymeric material containing carbon as a constituent element and irradiating the surface therewith.
炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームをパターン化し照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる微細加工表面を有する細胞培養用担体。 - 特許庁 - To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.
コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device bringing about no influence on patterning accuracy of electrodes, wiring and elements formed on a transparent substrate due to heat or moisture in the liquid crystal display device using the transparent substrate made of a transparent resin.
透明樹脂からなる透明基板を用いた液晶表示装置において、熱および水分などによって透明基板に形成される電極、配線および素子などのパターン精度が影響を受けない液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide manufacturing methods of an electron emission element and an electron source converging beams and reducing leak by forming the film and patterning an electron emission layer so that the electron emission layer is prevented from receiving physical and chemical damage in micro holes at high controllability.
微細孔内に制御良く、電子放出層が物理的・化学的ダメージを受けないように電子放出層を成膜およびパターニングすることにより、ビーム収束および、リークの低減を目的とした電子放出素子及び電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A forgery prevention medium includes a support body, patterning optical anisotropy layers having two or more regions different in birefringence and a printing layer in this order, and a laminated film having a retardation of 50 nm or less is stuck on the printing layer.
支持体、２つ以上の複屈折性の異なる領域を有するパターニング光学異方性層、および印刷層をこの順に含む偽造防止媒体であって、該印刷層の上にレターデーションが５０ｎｍ以下のラミネートフィルムが貼り合わされている偽造防止媒体。 - 特許庁 - In the method, patterning is directly applied to the organic thin film formed on a substrate, based on a mask having micro apertures with a scale of micron to nanometer by a dry etching process or vacuum ultraviolet radiation.
ミクロンからナノメータースケールの微細開口を有するマスクをもとに、基板上に形成された有機物薄膜をドライエッチングプロセスまたは真空紫外光照射により直接パターニングを行なうことを特徴とする有機薄膜の製造方法とそれによる有機薄膜。 - 特許庁 - A ferroelectric thin film of the ferroelectric piezoelectric element is formed by introducing a photosensitive group to a ferroelectric precursor sol formed by sol-gel method, applying the precursor sol to a basic material and fine patterning a ferroelectric gel thin film thus obtained by optical fabrication.
強誘電体圧電素子の強誘電体薄膜を、ゾル−ゲル法で形成された強誘電体の前駆体ゾルに感光基を導入しその前駆体ゾルを基体に塗布して得られた強誘電体ゲル薄膜を光ファブリケーションにより微細パターニングして形成した。 - 特許庁 - Or an electrode for a solid polymer fuel cell installs a patterning layer including carbon particle regions having different particle diameters in the in-plane direction of the catalyst layer.
毛管圧の異なる領域によるパターンニング層を触媒層の面内方向に配置した固体高分子型燃料電池用電極、又は、粒径の異なるカーボン粒子領域によるパターンニング層を触媒層の面内方向に配置した固体高分子型燃料電池用電極。 - 特許庁 - Because the interference filter FR completed first can be covered with the first transparent etching stopper layer 54, the completed interference filter FR is not damaged in a patterning of the interference filter FB to be completed next and interference filters with various hues can be formed successively.
最初に完成された干渉フィルタＦ_R を第１の透明エッチングストッパ層５４で覆うことができるため、次に完成すべき干渉フィルタＦ_B のパターニングの際に完成済み干渉フィルタＦ_R を損傷せず、異なる色相の干渉フィルタを順に形成できる。 - 特許庁 - To provide a lighting tool suitable for use for a headlight for a vehicle or the like composed of a plurality of light source modules made in a compact shape with a simple structure and with a freedom in designing and light-distribution patterning enlarged.
本発明は、簡単な構成により、小型に構成され得、さらにデザインや配光パターンの自由度が大きくなるようにした、複数の光源モジュールから成る車両前照灯等の車両用灯具に適した灯具を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for preparing a photosensitive paste capable of achieving good patterning and capable of forming high reflectance partition walls that contribute toward enhancing luminance and color purity, and to provide a member for plasma display manufactured by using the photosensitive paste and a plasma display.
良好なパターニングが可能であり、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い隔壁の形成が可能な感光性ペーストの製造方法およびその感光性ペーストを用いて作製されたプラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの提供。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a dielectric thin film device for solving a problem due to a residual stress actualized when the patterning of a dielectric thin film is performed by using conventional photo-lithography technology, and a problem due to a micro-fine residue.
従来のフォトリソグラフィー技術を用いて誘電体薄膜のパターニングを行った場合に顕在化する残留応力に起因する問題および微小残渣に起因する問題を解消することができる誘電体薄膜デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The resist-removing composition relates to a composition for removing a resist for patterning metal lines in an electronic circuit or a display element, and the composition contains at least one of alkylene carbonate, tertiary amine and oxidizing agent.
本発明によるレジスト除去用組成物は、電子回路または表示素子の金属配線をパターン化するレジストの除去用組成物に関し、前記レジスト除去用組成物は、アルキレンカーボネート、および３級アミンおよび酸化剤のうちの少なくともいずれか一つを含む。 - 特許庁 - The resin holder is composed of a resin holder joined by an alkoxy silane compound having a thiol group in the front surface, for which patterning exposure is performed.
樹脂支持体と金属供給用フィルムを用いて作製されたプリント配線基板であって、当該樹脂支持体が、その表面にチオール基を持つアルコキシシラン化合物を結合させた樹脂支持体であり、かつパターニング露光を施されたことを特徴とするプリント配線基板。 - 特許庁 - To provide a surge protective circuit and a surge absorbing element of an electronic equipment wherein energy of a surge voltage form commercial power source line is attenuated by being converted into heat, the remaining surge voltage is discharged by a pattern gap, and mounting can be carried out easily by patterning a resistor and the gap integrally with other circuit components on a printed circuit board.
電子機器のサージ保護回路内に設けた、サージ吸収素子を抵抗とパターンギャップで構成しコノサージ吸収素子をプリント基板の他の回路の能動素子や受動素子と一緒に形成し、組み立て工数を減少させてコストダウンを計る。 - 特許庁 - To provide a patterning substrate for cell culture to be used for making cells adhere onto a base in a high-precision pattern fashion to culture the cells, and to provide a cell culturing substrate onto which cells are made to adhere in a high-precision pattern fashion.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - To eliminate a complication of preparing a patterning substrate when conventionally different species of cells coexisting in vivo tissue are cocultured, a culture in which cells are in a patterned state is examined so as to develop a cell function closer to that of organism.
従来、生体組織において共存する異種の細胞を共培養する場合、より生体に近い細胞の機能を発現させるために細胞をパターニングした状態での培養が検討されているが、そのパターニング基材の作製の煩雑さを解消することにある。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate or the like formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a metal foil, which can form a pattern to have different thickness depending on parts with a simple process, and to provide an electric wiring substrate and a manufacturing method therefor, a semiconductor device and a manufacturing method therefor, and a circuit board and an electronic device.
簡単な工程で、部分的に異なる厚みを有するように形成することができる金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁 - And also, since the male terminal side member 4 and the female terminal side members 2, 3 are formed with the use of a patterning process and a plating process of resist, a fine connector capable of corresponding to further downsizing of a portable equipment or the like, or wiring connection at an IC level can be obtained.
また、雄端子側部材４と雌端子側部材２、３とをレジストのパターニング工程とめっき工程とを用いて作成したので、携帯機器などの更なる小型化やＩＣレベルでの配線接続に対応可能な微細なコネクタを得ることができる。 - 特許庁 - The mask force device is releasably connected to the mask in order to provide an accelerating force to the mask so that a projection optical system in a lithographic apparatus may accurately project a pattern imparted by the patterning device onto a target portion of a substrate by using a radiation beam.
マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。 - 特許庁 - A coating film containing a cross-linked hydrophilic resin particle is applied on the surface of the building materials, and then water-based ink containing substantially no binding agent is discharged on the coating film surface so that coloring and/or patterning of the building materials are/is performed at the of resolution of 150-600 DPI.
建材表面に、架橋された親水性樹脂粒子を含有する塗膜を施し、次いで該塗膜表面に、結合剤を実質的に含まない水系インクを吐出し、１５０〜６００ＤＰＩの解像度で建材の着色及び又は模様付けを行う。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - Next, patterning is applied to the first core layer so as to form first cores 53a and second cores 53b that cross one another, further, a second clad layer is formed, then, a waveguide body 51 with the first and the second cores embedded in the first and the second clad layers are manufactured.
ついで、第１コア層をパターニングして、互いに直交する第１コア５３ａおよび第２コア５３ｂを形成し、さらに第２クラッド層を形成して、第１および第２コアが第１および第２クラッド層に埋設された導波路体５１を作製する。 - 特許庁 - A new patterning method is employed, which is characterized in that at least a substrate and a dispersion system are used, a distribution of particle concentration is produced in a layer of the dispersion system formed on the substrate by a distribution of heat quantity given to the dispersion system, and then subjected to a curing process.
少なくとも基板と、分散系を用い、該分散系に与えられた熱量の分布により、基板上に形成した該分散系層内に濃度分布を形成し、しかる後に硬化処理を行うことを特徴とする、新規のパターニング方法を採用する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the TFT array substrate, deformations of the glass substrate generated in a heat treatment process, such as the thermal shrinkage or the thermal expansion, are estimated previously, a pattern size is magnified or reduced only for the deformation previously estimated before the heat treatment process, and exposure and the patterning are performed.
ＴＦＴアレイ基板の製造方法において、熱処理工程で生じるガラス基板の熱収縮または熱膨張等の変形を、熱処理工程の前に予め見積もった変形量だけパターン寸法を拡大または縮小して露光し、パターニングする。 - 特許庁 - To provide an asphalt under-layment material and a surface finish material used therefor capable of realizing the under-layment material having a rain water course eliminating sash bar in clay tile roofing and forming excellent slip prevention efficiency, effective asphalt spreading prevention efficiency and a beautiful color having difficulty in fading and/or a patterning surface in the surface.
瓦葺きにおける縦桟を不要とする雨水流路を有し、優れた防滑性能、効果的なアスファルト滲み防止性能、および、表面に消えにくく褪色の少ない美しい色彩および／叉は模様面を形成した屋根下葺き材を実現する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a zinc oxide based transparent conductive film forming material, capable of being used for a target for forming a transparent conductive film which has weather resistance while maintaining conductivity sufficient for practical use, and has an appropriate etching rate in patterning.
実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The region in which the reinforcing tape does not exist between the reinforcing tapes 6 adhered to both the sides of the lower surface of the insulating film 2, is disposed under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at a conductor pattern forming time or in the lower vicinity region.
絶縁フィルム２の下面両側に貼り付けられた補強テープ６間の補強テープが存在しない領域を、導体パターン形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁 - To provide a packaging material that has excellent cushioning properties and cushioning functions for preventing patterning or scratching of an object to be packaged, even without using a protective material or a cushioning material for preventing the object to be packaged, such as nonwoven fabric or a foamed cushioning material, from being patterned or scratched.
不織布や気泡クッション材のような被包装物の型入り・傷入りを防止するための保護材料やクッション材料を使用せずとも、クッション性に優れ、被包装物の型入り・傷入りを防止できるクッション機能を備えた包装材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a color conversion filter capable of reducing the cost by reducing the quantity of material for manufacturing a color conversion layer, capable of preventing color mixture, and capable of patterning in high precision.
本発明は、製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減することによりコストを低減し、かつ混色が容易に防止でき、さらに高精細なパターニングが可能である色変換フィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - In a mask pattern (a) for patterning word lines and data lines, lengths of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 having end parts neighboring each other are varied to shift their ends from each other, and further the ends of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 are slanted.
ワード線やデーター線をパターニングするためのマスクパターン（ａ）において、終端部の隣り合うワード線ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５、ＷＬ６の長さを変えて先端をずらし、さらにワード線端ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５，ＷＬ６を斜めに角を落とす。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film on which fine patterning can be applied, prevented from change of characteristics and lowering of transmittance caused by gas or moisture, and to provide a manufacturing method of the same, an electro-optical device provided with the transparent conductive film, and elecronic equipment.
透明導電膜についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、透明導電膜とその形成方法、およびこの透明導電膜を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.
例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.
上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning method, a manufacturing method of an electro-optical device and the device, a manufacturing method of a semiconductor device and the device, and a manufacturing method of a piezoelectric driving element and the element, capable of improving productivity without degrading machining accuracy.
加工精度を損なうことなく生産性を向上させることができるパターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子を提供する。 - 特許庁 - To simply and rapidly perform press molding by facilitating the design of material formulation, a pattern of the surface and the like and enlarging freedoms thereof in a patterning molding of a cement type inorganic material useful for a building material such as an external wall material, a tile and an interior material by pressing.
外壁材、瓦、内装材等の建材として有用なセメント系無機質材のプレスによる模様付け成形において、材料配合や表面柄等の設計を容易とし、それらの自由度を大きくして簡便かつ迅速にプレス成形を可能とする。 - 特許庁 - This forms a charge shield layer 250 which overlies exposed portion of a pattern 230 of the charge capture layer exposed, and after forming a gate layer 500 which fills up a recessed member, a gate layer 500 is treated by spacer etching and processed by patterning with a gate 501 of spacer formation.
これにより露出した電荷捕獲層のパターン２３０の露出部分上を覆う電荷遮断層２５０を形成し、リセスされた部位を充填するゲート層５００を形成した後、ゲート層５００をスペーサエッチングしてスペーサ形態のゲート５０１でパターニングする。 - 特許庁 - The material, thickness, refractive index, and light absorbance of the anti-reflective film 5 are set so that reflection can be reduced both for the light source wavelength and visible light to be used for photomask patterning, thus suppressing reflection of light by the wiring layer or the light shielding film.
この反射防止膜５の材料、膜厚、屈折率、光吸収率をフォトマスクパターンニング時に使用される光源波長と可視光とに対して反射を低減させることができるように設定して、配線層や遮光膜による反射を抑制する。 - 特許庁 - Next, the silicon substrate 3 is coated with a photoresist and an aligner is used to perform the patterning of the coated silicon substrate 3 through a photomask and the patterned silicon substrate is exposed and developed to be subjected to dry etching to form a minute flow channel groove 8 high in accuracy and having a cross section high in aspect ratio.
次に、シリコン基板３にフォトレジストをコーティングし、アライナーを使用してフォトマスクでパターンニングをし、露光・現像して、その後、シリコン基板３をドライエッチングすることにより、微小で精度の高い、高アスペクト比の断面を有する流路溝８を作製する。 - 特許庁 - To provide a novel polyorganosiloxane compound excellent in heat resistance, transparency, low-dielectric property and solvent resistance and suitable for interlayer dielectric films on TFT substrates, a photosensitive resin composition and a heat curable resin composition comprising the same, and a patterning process.
耐熱性、透明性、低誘電率特性、耐溶剤性に優れ、ＴＦＴ基板用層間絶縁膜として好適である新規なポリオルガノシロキサン化合物、これを含む感光性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetic detector, in particular, capable of reducing properly damage on an integrated circuit caused by a thin film process in patterning formation for a magnetoresistance effect element, and capable of compactifying the magnetic detector, and a manufacturing method therefor.
特に、磁気抵抗効果素子のパターニング形成の際の薄膜プロセスによる集積回路へのダメージを適切に軽減できるとともに、磁気検出装置の小型化を実現できる磁気検出装置及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - Light is applied from a lower part to perform back exposure, wherein a shadow generated by a light-shielding region of the mask and that generated by the gate electrode 320 become non-exposure regions of a resist layer, and patterning is performed to form the source and drain electrodes 350, 360.
下方から光を照射し、マスクの遮光領域によって生じる影とゲート電極３２０によって生じる影とが、レジスト層の非露光領域となるような背面露光を行い、パターニングしてソース電極３５０およびドレイン電極３６０を形成する。 - 特許庁 - To establish a technique for producing a decorative leather product having a high modeling degree by making a pattern on a leather by transfer printing, silk screen printing, ink-jet printing, etc., based on digital image data, integrating the patterning with a three dimensionalization.
本発明は、デジタル画像データを元に転写プリント、シルクスクリーンプリント、インクジェットプリント等による模様化を皮革に施して、この模様化と立体化とを一体化させて装飾的、且つ造形度の高い皮革製品をつくる技術を確立しようとするものである。 - 特許庁
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