「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 34 35 36 37 38 39 40 41 42 .... 78 79 次へ＞- Moreover, the inductors 20X, 20Y can also be configured by patterning the wiring between the electrodes X, Y and the switching group 12, for example in a zigzag form.
また、インダクタ２０Ｘ，２０Ｙは、電極Ｘ，Ｙとスイッチング素子群１２との間の配線を例えばジグザグにパターニングすることによっても構成可能である。 - 特許庁 - To provide a vacuum deposition mask wherein the patterning part will have no distortion of a pattern shape or misregistration, even if it is fixed to a fixed frame with tensile force applied to it.
張力をかけた状態で固定枠に固定してもパターニング部のパターンの形状の歪みや位置ずれのない真空蒸着マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning thin-film forming method capable of removing a resist mask reliably without generating so-called burr or the like, and to provide a manufacturing method of a microdevice.
いわゆる「バリ」等を生じることなく、レジストマスクを確実に除去し得るパターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescence device in which a color patterning can be implemented on a light emitting layer and thin transparent substrates are not needed, whose moisture resistance is high.
光発生層上にカラーパターンニングを施すことができ、薄い透明基板が不要で、かつ、耐湿性が高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a submount having an insulating film which realizes high-precision patterning and is excellent in insulating performance, and to provide a semiconductor device using the same.
高精度なパターニングが可能であるとともに、優れた絶縁性を実現できる絶縁膜を備えるサブマウントおよびそれを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film laminate which can provide a thin EL light-emitting element that does not have deterioration in printing precision and has a good yield in the patterning process of the emitter.
発光体パターニング工程で、印刷精度が低下せず歩留まり良好で、薄型ＥＬ発光素子を提供できる透明導電フィルム積層体。 - 特許庁 - In the patterning roll 11, the cylindrical body 11b, which is provided on its outer peripheral face with the transfer surface 11a, is composed of a fiber reinforced resin (FRP).
模様付けロール１１では、前記転写面１１ａが外周面に設けられた円筒体１１ｂが、繊維強化樹脂（ＦＲＰ）によって構成されている。 - 特許庁 - With such an arrangement, a mask can be made by patterning a large master mask at a stretch using a reduction projection aligner while fixing a pellicle during exposure.
この構成によれば、露光中、ペリクル取り付けた状態で、大型マスターマスクを縮小投影光学系によって一度にパターン露光してマスクを作成できる。 - 特許庁 - To prevent incomplete resist patterning due to unnecessary temperature rise of an arm for carrying a glass substrate coated with resist to a prebake unit.
レジストが塗布されたガラス基板をプリベークユニットに搬送するための基板搬送アームの不要な温度上昇に起因するレジストパターニング不良を防止する。 - 特許庁 - An intensity adjustment device is positioned in a radiation system, and comprises multiple members for casting penumbrae in the radiation beam illuminating the patterning device.
強度調整デバイスは、放射システム内に配置され、且つ、パターニング・デバイスを照射している放射ビームに半影を投げかけるための複数の部材を備えている。 - 特許庁 - To carry out a partial deposition of a desired material at a desired position on a substrate at a high precision so as to repair patterning in an organic EL element or the like.
有機ＥＬ素子などにおけるパターニングの修正のために、基板上の所望の位置に、所望の材料を高精度に局所成膜すること。 - 特許庁 - A method for patterning a wafer using a phase shifting photolithography that can produce a critical symmetrical 2-dimensional structure such as a magnetic write pole of a magnetic write head.
磁気書き込みヘッドの書き込み磁極等の重要な対称２次元構造を生産できる、位相シフト光リソグラフィを使用するウェハのパターニング方法。 - 特許庁 - To provide a laser patterning apparatus, wherein time loss during movement of a substrate is reduced to improve TAT (Turn Around Time) and defective machining due to focus deviation is reduced.
レーザパターニング装置において、基板移動中の時間ロスを低減してＴＡＴを向上させるとともに、フォーカスずれによる加工不良を低減する。 - 特許庁 - A patterning device includes a pair of supporting parts 1 disposed at a predetermined interval, a guide bar 2, a processing head 3, a roller stage 4 and a conveying mechanism 5.
このパターニング装置は、所定の間隔をあけて配置された１対の支持部１と、ガイドバー２と、加工ヘッド３と、ローラステージ４と、搬送機構５と、を備えている。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board favorably producing a wiring board with a cut-off part and a notch for alignment formed in a corner part.
角部に切取り部や位置合わせを行なうための切欠きを有する配線基板を良好に作製できる多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and a device of manufacturing plate display elements carrying out patterning processes by a method of not using photo processes.
本発明の目的はフォト工程を使わない方法でパターニング工程を遂行する平板表示素子の製造方法及び装置を提供するのにある。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a color filter having enhanced contact strength of a seal part at low cost without patterning a transparent protective layer nor transparent conductive film.
透明保護層や透明導電膜をパターニングすることなく、シール部の密着強度を強くしたカラーフィルタを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing nano-structure capable of simply patterning pores in a porous coat for a large area to a workpiece with less mechanical strength.
機械的強度が強くない被加工物に対して、ポーラス皮膜の細孔を大面積にわたり簡易にパターニングするナノ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a barrier film with a transparent electrode which decreases damages of a barrier layer in a post process such as patterning of the transparent and hardly causes deterioration in the barrier property.
透明電極のパターニング等の後加工におけるバリア層のダメージを軽減させ、バリア劣化の少ない透明電極付きバリアフィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a CMP(chemical mechanical polish)-supported liftoff fine patterning which is used for a vacuum-deposited thin film for a micro electronic device and a nano-structure.
マイクロ電子デバイスおよびナノ構造のための真空堆積された薄膜のためのＣＭＰ補助されたリフトオフ微細パターニングを提供すること。 - 特許庁 - To provide a printed wiring patterning method in which a coating pattern can be efficiently formed in a place where a pattern of a conductive part is exposed.
導電部分のパターンが露出している箇所について、被覆パターンの生成を効率的に行えるプリント配線パターン生成方法を提供する。 - 特許庁 - In order to form the layers, an element working step in the patterning of a tunnel joined film part is finished before the lowest layer of the tunnel joined film is completely patterned.
トンネル接合膜部をパターン化する際の素子加工工程を、トンネル接合膜を構成する各層のうち最下部までは行わないことによる。 - 特許庁 - To provide a patterning method using a liquid material while using an inkjet system, which directly forms a wiring pattern of a complicated shape on a substrate at a low cost and on-demand.
インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、複雑形状の配線パターンを低コスト、オンデマンドに基板に直描すること。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for enabling a double patterning process in which a substrate is processed by one-time dry etching, and a resist material used therefor.
１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a material for an organic electroluminescence(EL) element, capable of enabling fine patterning, and further to provide a method for producing the material and the organic EL element by using them.
微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁 - This manufacturing method of a substrate is a method comprises a patterning process wherein a semiconductor substrate 1 on an insulating layer 4 formed with a recessed part 7 is polished and the substrate 1 is left only in the recessed part 7.
凹部７が形成された絶縁層４上の半導体基板１を研磨し、凹部７内にのみ半導体基板１を残すパターニング工程を行う。 - 特許庁 - To provide a wiring structure, in which a narrow part is hardly generated in patterning, even when a highly fine Al material with small impurity content is used.
不純物含有量の少ない純度の高いＡｌ材料を用いた場合にもパターニングによってくびれの生じにくい配線構造を提供すること。 - 特許庁 - To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.
基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask for exposure that is suitable for highly integrated device pattern, a mask set for exposure, a method of manufacturing mask for exposure, and a film patterning method.
高集積化されたデバイスパターンに適した露光用マスク、露光用マスクセット、露光用マスクの製造方法、及び膜のパターニング方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a printed circuit board, that can manufacture the printed circuit board with improved patterning accuracy of a conductor pattern which is formed on an insulation substrate.
絶縁基板上に形成する導体パターンのパターニング精度の良いプリント基板を製造することのできるプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To solve problems that an optical waveguide is very expensive because core patterning by plural times of thin film laminations and semiconductor processes is performed and also constitution and a manufacturing method for a new optical waveguide preparing both economical efficiency and performance are indispensable for a spread of optical communication.
現状、光導波路は複数回の薄膜積層と半導体プロセスのよるコアパターニングが行われており非常に高コストである。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film capable of suppressing the difference of visibility between a conductive surface and an insulated surface, even if patterning of a transparent conductive layer is carried out.
透明導電層をパターニングしても、導電面と絶縁面とで視認性の差を抑制することができる透明導電性フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide an exposure mask blank which prevents an ITO film as a semi-transmitting film from being worn in a process of patterning a light-shielding film.
遮光膜のパターニングを行う工程に際して、半透過膜であるＩＴＯ膜が損耗することを抑制できる露光マスクブランクを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for an optical waveguide by which no white cloud occurs during the patterning of a core layer and an optical waveguide having small optical loss is manufactured as a result.
コア層のパターニングの際に白濁が生じず、光損失の少ない光導波路を得ることのできる光導波路の製法を提供する。 - 特許庁 - This diffusion allows the P concentration on top of the film 7 to be reduced, thereby suppressing the growth of an edge on top of a gate electrode during patterning.
この拡散によって、ポリシリコン膜７上端部におけるリン濃度が低減され、パターニング時にゲート電極の上端部のエッジが大きくなるのを抑制できる。 - 特許庁 - A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, and a support structure constructed to support a patterning device.
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化デバイスを支持するように構築された支持構造とを備えている。 - 特許庁 - The change in magnetic resistance of a magnetoresistance effect (MR) film is measured, before an upper shield layer is formed and prior to patterning of a lower shielding layer.
上部シールド層が形成される以前に、しかも、下部シールド層のパターニングに先立って磁気抵抗効果（ＭＲ）膜の磁気抵抗変化は測定される。 - 特許庁 - By patterning the second film, a first pattern 41a with openings 41 or recessed parts 41c arranged therein, and a second pattern 31a elongated in one direction are formed.
第２の膜をパターニングすることにより、内部に開口(41c)または凹部(41d)が配置された第１のパターン(41a)と、一方向に長い第２のパターン(31a)とを形成する。 - 特許庁 - To easily control a III-V compound semiconductor laser in a lateral mode, improve the aspect ration of a laser beam, and reduce damages by the growth and patterning of an AlN layer.
III-Ｖ化合物半導体レーザの横モード制御を容易にし、ビーム形状の縦横比を改善し、さらに、AlN 層の成長やパターニングによるダメージを減らす。 - 特許庁 - After a metallic thin film 13 having a temperature-dependency is formed on an insulating substrate 2, heat-sensitive sections 5 and 6 are formed by patterning the film 13 by sputter etching.
絶縁性基板上に温度依存性の金属薄膜を形成し、金属薄膜をスパッタエッチング法によりパターニングして感熱部を形成する。 - 特許庁 - The organic layers 18a, 18b, 18c are produced by a light irradiating dry etching method whereby an organic substance layer 12 is irradiated with light so that patterning is made.
有機層１８ａ、１８ｂ、１８ｃを、有機材料層１２に光を照射してこれをパターニングする光照射ドライエッチング法によって形成する。 - 特許庁 - To provide a flexible wiring board for both side connection in which connection reliability can be enhanced with respect to a circuit board, while dealing with fin pitch patterning.
ファインピッチ化に対応するとともに回路基板に対する接続信頼性を向上しうる両面接続用フレキシブル配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a highly heat-resistant copper clad laminated sheet, which uses an extremely thin copper foil, having no flaw or wrinkles and suitably used for fine patterning.
傷・シワなどがなく、ファインパターン化に好適に用いられる極薄銅箔を用いた高耐熱性の銅張積層板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a lithographic device using a programmable patterning means where an effective NA is big in a substrate plane and a manufacturing method of the device.
基板平面における有効ＮＡの大きいプログラム可能パターニング手段を使用したリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a color conversion filter enabling a precise patterning while simplifying the manufacturing process, and a color filter with color converting function.
製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とする色変換フィルタの製造方法、ならびに色変換機能付カラーフィルタの提供。 - 特許庁 - A single fluid channel resin layer 11 as a profile of ink channel is formed on an upper face of a device substrate 1 having a heater 2 formed thereon, and then a mask member 12 is formed on the fluid channel resin layer 11 to carry out patterning.
ヒータ２が形成された素子基板１の上面に、インク流路の型材として流路樹脂層１１を単一の層で形成する。 - 特許庁 - To provide a cured film for a liquid crystal display apparatus, the film having sufficient heat resistance, surface hardness, sputtering resistance and low degassing property and favorable patterning characteristics.
耐熱性、表面硬度、耐スパッタ性、低脱ガス性等を満たすとともに、パターニング特性が良好な液晶表示装置用硬化膜を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrophoresis display apparatus 100 wherein patterning of a conductive thin film formed on a bottom surface of a transfer space 50 of charged particles 30 is unnecessary.
帯電粒子３０の移動空間５０の底面に形成する導電性薄膜のパターニングが不要電気泳動表示装置１００を提供する。 - 特許庁 - In executing the method of manufacturing of the phase change memory, a wafer is wet-cleaned using a cleaning liquid such as water or a chemical after patterning the phase change layer.
相変化メモリを製造する方法を実施する際に、相変化層をパターニングした後にウェハを水や薬液などの洗浄液でウェット洗浄する。 - 特許庁
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