「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 33 34 35 36 37 38 39 40 41 .... 78 79 次へ＞- This prevents bit line patterning failure in the core/peripheral circuit region, and can apply SPT (Spacer Pattern Technology) when forming a bit line is formed.
これを介し、本発明ではコア/周辺回路領域におけるビットラインパターニングの不良を防止し、ビットライン形成時にSPT(Spacer Pattern Technology)を適用することができる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an organic TFT element in which the substantial patterning of organic semiconductor channels can be performed very conveniently and which is stabilized in performance.
非常に簡便で実質的な有機半導体チャネルのパターニングが可能で、性能が安定な有機ＴＦＴ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive paste composition for a plasma display panel electrode formation by which hardly any edge curling is produced and micro-patterning of high resolution is possible.
エッジカールがほとんど発生せず，かつ高解像度の微細パターン化が可能なプラズマディスプレイパネル電極形成用ポジ型感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁 - An optical assembly includes multiple optical elements two-dimensionally arranged between a radiation source and the patterning device to create a predetermined angular distribution of the radiation beam.
光学アセンブリは、放射ビームの所定角分布を作るために、放射ソースとパターニング装置との間に２次元的に配置された複数の光学素子を含む。 - 特許庁 - To form an electrode pattern for an organic device in any given shape with high accuracy, without being tied to various hurdles in an electrode patterning process.
電極パターニング工程に伴う種々の制約に捕われることなく、自由な形状にかつ高精度に有機デバイスの電極パターンを形成する。 - 特許庁 - The moving electrode wiring pattern 142 and a wiring pattern provided on the moving portion are formed by patterning a conductive films simultaneously deposited.
可動電極用配線パターン１４２と可動部に設けられた配線パターンとは、同時に成膜された導電膜をパターニングすることにより形成される。 - 特許庁 - By subjecting the mask blank to predetermined patterning, a light-shielding part, a light-transmitting part and a light-semitransmitting part are formed to obtain a gray tone mask.
該マスクブランクに所定のパターニングを施すことにより、遮光部と透光部と、半透光膜による半透光部を形成し、グレートーンマスクとする。 - 特許庁 - A lithographic apparatus comprises an illumination system, configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device.
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method which can decrease the number of patterning processes and reduce the manufacture cost, in a manufacturing method for an array substrate used for reflection type flat display.
反射型平面表示装置に用いるアレイ基板の製造方法において、パターニング工程数及び製造コストを低減できるものを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a thin film transistor array board, which enables the execution of a patterning process without employing a photo process.
本発明の目的はフォト工程を使わなくてもパターニング工程を遂行することができる薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供するものである。 - 特許庁 - The embossing lithography can yield a relatively high throughput, provide the ability of patterning a wide ranges of materials and high resolution.
本発明のエンボス加工は、相対的に高いスループットを生成し、広範囲の材料をパターニングする能力を提供し、高い解像度を提供する。 - 特許庁 - To solve such a problem that a conventional etching process for patterning a thin film with fluid causes defects originating from foreign matters precipitated by a treatment fluid which is projected to the back side.
薄膜パターンを流体によるエッチング処理工程では、裏面に照射した処理流体により異物が析出し、不良の原因となる。 - 特許庁 - When patterning the light emitting cells, a lower substrate in a separation region between the respective light emitting cells is partially removed to form a recess region.
前記発光セルをパターニングするとき、前記発光セル間の分離領域の下方の基板が部分的に除去されてリセス領域が形成される。 - 特許庁 - To provide a pattering method of an organic EL semiconductor element in which a production process cost for an organic EL semiconductor element is reduced and a highest possible flexibility in a patterning is secured as well.
有機ＥＬ半導体素子の製造プロセスに係るコストを低減し、同時にパターニングにおいてできるだけ高いフレキシビリティを保証する。 - 特許庁 - In addition, the silicon oxide layer 3 is removed and consequently a fine opening 41 is formed by the patterning treatment of the silicon thin film layer 2 and thus a transfer mask 100 is obtained.
さらに、酸化シリコン層３を除去し、続いて、シリコン薄膜層２をパターニング処理して微細開口４１を形成し、転写マスク１００を得る。 - 特許庁 - To provide an SMC which distributes a patterning material all over a molded article and excels in reproducibility of external appearance, water resistance, and chemical resistance as well.
成形品の細部にまでわたり柄材が均一に分布し、外観の再現性に優れ、耐水性および耐薬品性にも優れたＳＭＣを提供すること。 - 特許庁 - To provide a molding material which shows uniform distribution of a patterning material on a surface of a molded item, shows excellent moldability and gives a molded item having an excellent mechanical strength.
成形品表面の柄材分布が均一で、成形性に優れ、機械的強度にも優れた成形品を得ることができる成形材料の提供。 - 特許庁 - To provide a mask that has reduced warp and high positional accuracy of patterning and a method for producing the mask, and a mask blanks that has a reduced warp and a method for producing the blanks.
反りが低減されたパターン位置精度の高いマスクおよびその製造方法と、反りが低減されたマスクブランクスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing nano-structure capable of simply patterning pores in a porous coat for a large area to a workpiece with less mechanical strength.
機械的強度が強くない被加工物に対して、ポーラス皮膜の細孔を大面積にわたり簡易にパターニングするナノ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a barrier film with a transparent electrode which decreases damages of a barrier layer in a post process such as patterning of the transparent and hardly causes deterioration in the barrier property.
透明電極のパターニング等の後加工におけるバリア層のダメージを軽減させ、バリア劣化の少ない透明電極付きバリアフィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a CMP(chemical mechanical polish)-supported liftoff fine patterning which is used for a vacuum-deposited thin film for a micro electronic device and a nano-structure.
マイクロ電子デバイスおよびナノ構造のための真空堆積された薄膜のためのＣＭＰ補助されたリフトオフ微細パターニングを提供すること。 - 特許庁 - To provide a printed wiring patterning method in which a coating pattern can be efficiently formed in a place where a pattern of a conductive part is exposed.
導電部分のパターンが露出している箇所について、被覆パターンの生成を効率的に行えるプリント配線パターン生成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film laminate which can provide a thin EL light-emitting element that does not have deterioration in printing precision and has a good yield in the patterning process of the emitter.
発光体パターニング工程で、印刷精度が低下せず歩留まり良好で、薄型ＥＬ発光素子を提供できる透明導電フィルム積層体。 - 特許庁 - In the patterning roll 11, the cylindrical body 11b, which is provided on its outer peripheral face with the transfer surface 11a, is composed of a fiber reinforced resin (FRP).
模様付けロール１１では、前記転写面１１ａが外周面に設けられた円筒体１１ｂが、繊維強化樹脂（ＦＲＰ）によって構成されている。 - 特許庁 - To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.
基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus has an illumination system that supplies a projection beam of radiation, which is patterned using a patterning system.
リソグラフィ装置は、放射線の投影ビームを供給する照明システムを有し、この投影ビームには、パターン形成システムを使用してパターンが形成される。 - 特許庁 - To provide a wiring structure, in which a narrow part is hardly generated in patterning, even when a highly fine Al material with small impurity content is used.
不純物含有量の少ない純度の高いＡｌ材料を用いた場合にもパターニングによってくびれの生じにくい配線構造を提供すること。 - 特許庁 - This manufacturing method of a substrate is a method comprises a patterning process wherein a semiconductor substrate 1 on an insulating layer 4 formed with a recessed part 7 is polished and the substrate 1 is left only in the recessed part 7.
凹部７が形成された絶縁層４上の半導体基板１を研磨し、凹部７内にのみ半導体基板１を残すパターニング工程を行う。 - 特許庁 - To provide a material for an organic electroluminescence(EL) element, capable of enabling fine patterning, and further to provide a method for producing the material and the organic EL element by using them.
微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask for exposure that is suitable for highly integrated device pattern, a mask set for exposure, a method of manufacturing mask for exposure, and a film patterning method.
高集積化されたデバイスパターンに適した露光用マスク、露光用マスクセット、露光用マスクの製造方法、及び膜のパターニング方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a printed circuit board, that can manufacture the printed circuit board with improved patterning accuracy of a conductor pattern which is formed on an insulation substrate.
絶縁基板上に形成する導体パターンのパターニング精度の良いプリント基板を製造することのできるプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To reduce fluctuation of a gap, mainly in a sealing portion of each panel obtained by a multi-panel patterning method and to reduce cost by improving display quality and yield.
複数個取りで得られる個々のパネルの主にシール部の間隙バラツキを小さくし表示品質の向上と歩留まりの向上によるコストダウンの効果を得る。 - 特許庁 - To provide a patterning thin-film forming method capable of removing a resist mask reliably without generating so-called burr or the like, and to provide a manufacturing method of a microdevice.
いわゆる「バリ」等を生じることなく、レジストマスクを確実に除去し得るパターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescence device in which a color patterning can be implemented on a light emitting layer and thin transparent substrates are not needed, whose moisture resistance is high.
光発生層上にカラーパターンニングを施すことができ、薄い透明基板が不要で、かつ、耐湿性が高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a submount having an insulating film which realizes high-precision patterning and is excellent in insulating performance, and to provide a semiconductor device using the same.
高精度なパターニングが可能であるとともに、優れた絶縁性を実現できる絶縁膜を備えるサブマウントおよびそれを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film capable of suppressing the difference of visibility between a conductive surface and an insulated surface, even if patterning of a transparent conductive layer is carried out.
透明導電層をパターニングしても、導電面と絶縁面とで視認性の差を抑制することができる透明導電性フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a lithographic device using a programmable patterning means where an effective NA is big in a substrate plane and a manufacturing method of the device.
基板平面における有効ＮＡの大きいプログラム可能パターニング手段を使用したリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a flexible wiring board for both side connection in which connection reliability can be enhanced with respect to a circuit board, while dealing with fin pitch patterning.
ファインピッチ化に対応するとともに回路基板に対する接続信頼性を向上しうる両面接続用フレキシブル配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a highly heat-resistant copper clad laminated sheet, which uses an extremely thin copper foil, having no flaw or wrinkles and suitably used for fine patterning.
傷・シワなどがなく、ファインパターン化に好適に用いられる極薄銅箔を用いた高耐熱性の銅張積層板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRONIC APPARATUS AND PATTERNING APPARATUS
電子素子の製造方法、回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及びパターニング装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE OR PATTERNED RESIN MATERIAL, AND PATTERING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE OR PATTERNED RESIN MATERIAL MANUFACTURED BY THE METHOD
人造大理石又は柄入り樹脂材料用柄材の製造方法及びこの製造方法により製造した人造大理石又は柄入り樹脂材料用柄材 - 特許庁 - The resulting coating materials can be designed for patterning with a selected radiation, such as ultraviolet light, x-ray radiation or electron beam radiation.
得られるコーティング材は、紫外線、Ｘ線放射線又は電子ビーム放射線のような選択された放射線によるパターニング用に設計され得る。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a halftone mask for utilizing single photoresist in patterning of a light shielding layer and a semi-light transmitting layer without requiring ashing treatment.
アッシング処理を要することなく単一のフォトレジストを遮光層及び半透光層のパターニングに利用するハーフトーンマスクの製造方法を提供すること - 特許庁 - To reduce chipping of a wiring substrate when a multiple patterning wiring substrate having a part where a splitting groove is discontinuously different in depth is divided.
分割溝の深さが不連続に異なる部分を有する多数個取り配線基板を分割する際、配線基板に発生する欠けを低減する。 - 特許庁 - To suppress pattern defects due to deposits, when patterning a ground layer such as a wiring layer, where a titanium nitride layer is provided at the uppermost part using a hard mask.
最上部に窒化チタン膜が設けられる配線層などの下地層を、ハードマスクを用いてパターニングする際の堆積物によるパターン欠陥を抑制する。 - 特許庁 - After the patterning of a nitride film 22, thickness of an SOI layer 3 is measured (S2) and the etching condition (etching time or the like) of the SOI layer 3 is determined (S3).
窒化膜２２のパターニング後に、ＳＯＩ層３の厚さを測定し（Ｓ２）、その結果を用いて、ＳＯＩ層３のエッチング条件（エッチング時間等）を決定する（Ｓ３）。 - 特許庁 - To obtain a process for producing electric wiring in which patterning is carried out efficiently by minimizing adverse effect of etching on a substrate.
エッチング処理時に基板への悪影響を極力小さくして、効率的にパターン形成を行うことができる電気配線の製造方法を得ることにある。 - 特許庁 - To provide an exposure mask blank which prevents an ITO film as a semi-transmitting film from being worn in a process of patterning a light-shielding film.
遮光膜のパターニングを行う工程に際して、半透過膜であるＩＴＯ膜が損耗することを抑制できる露光マスクブランクを提供する。 - 特許庁 - To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of a base material in the three-dimensional shape having the surfaces opposed with each other.
対向面を有する立体形状の基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁
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