「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 30 31 32 33 34 35 36 37 38 .... 78 79 次へ＞- The projection system defines a pupil between the patterning system and the substrate table and a series of lens components are located between the pupil and the substrate table.
投影系は、パターン形成系と基板テーブルの間にひとみを画成し、ひとみと基板テーブルの間には一連のレンズ構成要素が位置する。 - 特許庁 - Consequently, an ink supply chamber shallower than the ink pressure chamber can be formed simultaneously by single patterning process and single etching process.
この結果、１回のパターニング工程および１回のエッチング工程により、インク圧力室よりも浅いインク供給室を同時に形成できる。 - 特許庁 - The method involves providing a mixture of carbon nanotubes that is substantially disaggregated and patterning carbon nanotubes through the use of electrostatic force.
本方法は実質的に分離したカーボンナノチューブの混合物を用意すること及び静電気力でカーボンナノチューブをパターニングすることを含む。 - 特許庁 - A metallic oxide film (such as a ZnO film) is selectively formed on the first catalyst subjected to the patterning by a wet film forming technique.
パターニングされた第１触媒上に、湿式成膜技術による金属酸化膜（ＺｎＯ膜など）を選択的に形成する（第３の工程）。 - 特許庁 - Furthermore, the method includes a process of forming an upper electrode layer 46 and a process of patterning the piezoelectric material layer 44 and an upper electrode layer 46.
さらに、上部電極層４６を成膜する工程と、圧電体層４４および上部電極層４６をパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁 - A second mask pattern is formed by patterning the photoresist film 5, and a part of the photoresist film 5 is left on the thin film part 3a.
このフォトレジスト膜５をパターニングすることにより第２マスクパターンを形成するとともに、薄膜部３ａ上にフォトレジスト膜５の一部を残す。 - 特許庁 - The metallic particle patterning film having about 1 μm precision is easily and firmly formed by the lithographic technique using photomasks or laser beams, etc.
フォトマスクやレーザービーム等のリソグラフィ技術により、約１μｍの精度を有した金属粒子パターニング膜を容易且つ強固に形成できる。 - 特許庁 - An electron beam writing system includes an electron beam patterning machine operable to emit an electron beam to form a pattern on a substrate.
電子ビーム描画システムは、基板上にパターンを形成するために、電子ビームを放射するべく動作可能な電子ビームパターニング装置を備えている。 - 特許庁 - Since patterning of the UV curable liquid crystal 240 can be easily performed, it can be selectively formed only in the reflection region.
また、ＵＶキュアラブル液晶２４０はパターニングが容易に行えることから、反射領域にのみこれを選択的に形成することができる。 - 特許庁 - When an external layer pattern is made by patterning on the copper plating layer (#4), a layer-insulation layer and catalyst particles appear in the region between patterns.
銅めっき層をパターン加工して外層パターンとすると（＃４），パターン間の領域では層間絶縁層とともに触媒粒子が露出する。 - 特許庁 - The photoresist is exposed from the rear surface with the gate electrode 10 as a mask for patterning, which is used as a mask for etching the second dielectrics layer 19.
このフォトレジストをゲート電極１０をマスクとして裏面より露光し、パターン化し、これをマスクとして第２誘電体層１９をエッチングする。 - 特許庁 - A particular embodiment may be fabricated utilizing a sequential laminating, patterning, selective stripping and selective epitaxial deposition method.
特定の実施形態は、順次の積層、パターン化、選択的な剥離、および選択的なエピタキシャル堆積法を利用して製作されることができる。 - 特許庁 - To make it possible to stably manufacture by suppressing patterning failures due to the breakage of an etching protect film.
エッチング保護膜破壊によるパターニング不良の発生を抑制し、安定生産可能なインクジェット記録ヘッドおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transparent substrate having high reliability without discontinuity in lines or peeling in the patterning step of a transparent conductive film, and to provide a manufacturing method threfor.
透明導電膜のパターン加工工程における断線・剥離のない信頼性の高い透明基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device capable of inexpensively forming pixel gaps each of which has a size less than the limit of patterning based on photolithography.
低コストでフォトリソグラフィによるパターニングの限界以下の寸法の画素間隙を形成することができる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - The controller is arranged to drive the optical element so as to at least partly compensate for a magnification resulting from a bending of the patterning device.
コントローラは、パターニングデバイスの曲げから生じる拡大を少なくとも部分的に補償するように光学素子を駆動するように構成される。 - 特許庁 - Thus, when the body 20 is to be formed, complex processes for patterning or bonding the conductive layers 21, 23, 25, 27 are unnecessary.
そのため、本体２０を形成する場合、例えば導電層２１、２３、２５、２７のパターニングあるいは接着などの複雑な工程を必要としない。 - 特許庁 - The time until start of the second patterning from the end of the flat film forming process is controlled to be constant among the wafers.
このときの平坦化膜の形成処理の終了から２回目のパターニングの開始までの時間がウェハ間で一定になるように管理される。 - 特許庁 - To improve the accuracy of patterning while maintaining characteristics such as a low cost, high throughput and the superior freedom of an optical material.
低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁 - An electrode for a solid polymer fuel cell installs a patterning layer including regions having different capillary pressure in the in-plane direction of the catalyst layer.
その結果、膜電極接合体（ＭＥＡ）の耐フラッディング性を向上させ、電極面内の反応を均一化させ、発電性能を向上させる。 - 特許庁 - Subsequently, openings 142 and 144 for exposing the printing face side of the screen mesh 134 are formed in the film 146 by patterning the film 146.
続いて、膜１４６をパターニングしてスクリーンメッシュ１３４の印刷面側を露出させる開口１４２，１４４を膜１４６に形成する。 - 特許庁 - Patterning is applied on the fluid channel resin layer 11 in order to partially expose the upper face of the device substrate 1 and a fluid channel forming member 15 to be a nozzle member is formed so as to cover the fluid channel resin layer 11.
次いで、マスク部材１２をマスクとして、流路樹脂層１１を上面側からドライエッチングして部分的に薄膜化する。 - 特許庁 - Since the patterning of the ITO is already carried out, in other words, the positive electrode interconnection 1 is already formed, the corners of the positive electrode interconnection 1 is also polished.
ＩＴＯは既にパターニングされているので、すなわち陽極配線１が形成されているので、陽極配線１の角部も研磨される。 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus and method that enable accurate positional measurement and/or movement of a large work piece during patterning of the work piece.
パターン形成中に、大きい被加工物の正確な位置測定及び／又は移動を可能にするリソグラフィ装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - A resist 106 is developed to form the resist pattern, and by using the resist pattern as a mask, an absorbing layer 105 and a buffer film 104 are subjected to patterning.
レジスト１０６を現像してレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして吸収層１０５と緩衝膜１０４をパターニングする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method which prevents the corrosion of a metal wiring during an ITO (indium tin oxide) wet etching process and conducts in-plane uniform patterning of ITO.
ＩＴＯウエットエッチング処理時の金属配線腐食を防止し、かつ面内均一なＩＴＯパターニングを行う製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a top layer of a metal foil on a substrate to be protected, in which a patterning is carried out, the top layer supporting a local corona generation after a stroke of lightning.
保護されるべき基板の上にあるパターニングされた金属フォイルの上張りは、落雷後に局部的なコロナが発生するのを支持する。 - 特許庁 - To provide a coating method and a patterning roller used therefor capable of easily corresponding to architectural design efficiency of a diversified piece to be coated.
多様化した被塗装物の意匠性を容易に対応することができる塗装方法及びそれに用いられる模様付けローラを提供する。 - 特許庁 - To provide a glass substrate for an electronic device for enabling high-accuracy patterning and projection exposure, and to provide a photomask blank and a photomask using the substrate.
高精度のパターニングや投影露光を可能にする電子デバイス用ガラス基板並ぴにこれを用いたフオトマスクブランク及びフオトマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a material for an organic EL element, together with its manufacturing method, wherein fine patterning is allowed, as well as an organic EL element using them.
微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithographic device adapted to calibrate an array of individually controllable elements for patterning a beam so as to detect and compensate a malfunction or degradation.
誤動作や劣化を検出し、補償するように個別制御可能なビームパターン化要素の配列を較正するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition with which a pattern having a favorable feature can be formed, and to provide a resist film and a patterning method using the composition.
良好な形状のパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - By subjecting the mask blank to predetermined patterning, a light-shielding part, a light-transmitting part and a light-semitransmitting part are formed to obtain a gray tone mask.
該マスクブランクに所定のパターニングを施すことにより、遮光部と透光部と、半透光膜による半透光部を形成し、グレートーンマスクとする。 - 特許庁 - A lithographic apparatus comprises an illumination system, configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device.
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。 - 特許庁 - When patterning the light emitting cells, a lower substrate in a separation region between the respective light emitting cells is partially removed to form a recess region.
前記発光セルをパターニングするとき、前記発光セル間の分離領域の下方の基板が部分的に除去されてリセス領域が形成される。 - 特許庁 - To provide a pattering method of an organic EL semiconductor element in which a production process cost for an organic EL semiconductor element is reduced and a highest possible flexibility in a patterning is secured as well.
有機ＥＬ半導体素子の製造プロセスに係るコストを低減し、同時にパターニングにおいてできるだけ高いフレキシビリティを保証する。 - 特許庁 - First tin plating is formed on a copper pattern is subjected to patterning.
パターニングされた銅パターン上に第一のスズメッキを形成し、その後レジストを形成し、レジストが形成されていない部分の銅パターン上に第二のスズメッキの加工を行う。 - 特許庁 - To provide a mask that has reduced warp and high positional accuracy of patterning and a method for producing the mask, and a mask blanks that has a reduced warp and a method for producing the blanks.
反りが低減されたパターン位置精度の高いマスクおよびその製造方法と、反りが低減されたマスクブランクスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method which can decrease the number of patterning processes and reduce the manufacture cost, in a manufacturing method for an array substrate used for reflection type flat display.
反射型平面表示装置に用いるアレイ基板の製造方法において、パターニング工程数及び製造コストを低減できるものを提供する。 - 特許庁 - In addition, the silicon oxide layer 3 is removed and consequently a fine opening 41 is formed by the patterning treatment of the silicon thin film layer 2 and thus a transfer mask 100 is obtained.
さらに、酸化シリコン層３を除去し、続いて、シリコン薄膜層２をパターニング処理して微細開口４１を形成し、転写マスク１００を得る。 - 特許庁 - To provide an SMC which distributes a patterning material all over a molded article and excels in reproducibility of external appearance, water resistance, and chemical resistance as well.
成形品の細部にまでわたり柄材が均一に分布し、外観の再現性に優れ、耐水性および耐薬品性にも優れたＳＭＣを提供すること。 - 特許庁 - To provide a molding material which shows uniform distribution of a patterning material on a surface of a molded item, shows excellent moldability and gives a molded item having an excellent mechanical strength.
成形品表面の柄材分布が均一で、成形性に優れ、機械的強度にも優れた成形品を得ることができる成形材料の提供。 - 特許庁 - To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of a base material in the three-dimensional shape having the surfaces opposed with each other.
対向面を有する立体形状の基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁 - A wiring board 1, having a laminate structure where interlayer connection is made and wiring boards 2 and 3 subjected to both patterning and interlayer connection, are combined.
積層構成を層間接続が施された配線板１と，パターン加工と層間接続が施された配線板２および配線板３とを組み合わせる。 - 特許庁 - To solve such a problem that a conventional etching process for patterning a thin film with fluid causes defects originating from foreign matters precipitated by a treatment fluid which is projected to the back side.
薄膜パターンを流体によるエッチング処理工程では、裏面に照射した処理流体により異物が析出し、不良の原因となる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a thin film transistor array board, which enables the execution of a patterning process without employing a photo process.
本発明の目的はフォト工程を使わなくてもパターニング工程を遂行することができる薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供するものである。 - 特許庁 - The embossing lithography can yield a relatively high throughput, provide the ability of patterning a wide ranges of materials and high resolution.
本発明のエンボス加工は、相対的に高いスループットを生成し、広範囲の材料をパターニングする能力を提供し、高い解像度を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified negative resist composition less liable to cause bridges and having small substrate dependency of a pattern thereof, and to provide a patterning process using the same.
ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic light emitting element in which patterning of a water-soluble organic material can be carried out simply without deteriorating an element characteristic.
素子特性を劣化させずに簡便に水溶性有機材料をパターニングすることができる有機発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - When the second patterning is performed, the position of the wafer W is adjusted, based on the detection result prior to placing the wafer W on the hot plate of the post-exposure baking (S4).
２回目のパターニングでは、ウェハＷが露光後ベークの熱板に載置される前に、上記検出結果に基づいてウェハＷの位置が調整される（Ｓ４）。 - 特許庁
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