「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 26 27 28 29 30 31 32 33 34 .... 78 79 次へ＞- An optical substrate 1 includes a substrate 2 which is composed of an insulation resin layer having patterning of electric wiring of a conductive layer 3 on the front and the reverse side.
光基板１は、表裏面に導電層３の電気配線がパターニングされた絶縁樹脂層からなる基板２を有する。 - 特許庁 - To provide an ultramicro transistor which can deal with the ultrafine patterning of an electronic circuit using DNA as a compositional material.
ＤＮＡを構成材料として用いることにより、電子回路の極微小化に対応し得る極めて微小なトランジスタを提供する。 - 特許庁 - Etching machining is carried out while the distance between a mask 9 and a substrate 8 is gradually changed, thus controlling a patterning shape.
マスク９と基板８の距離を徐々に変化させながらエッチング加工することにより、パターンニング形状を制御することができた。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a surface which can keep the etching selection ratio of a substrate to a mask high irrelevantly to a mask opening rate.
マスク開口率によらずにマスクに対する基板のエッチング選択比を高く保つことができる表面パターニング方法を提供する。 - 特許庁 - After forming the metallic layer 240 by a forming metallic layer 230, a photosensitive insulation material 250 is formed on the semiconductor wafer, and patterning is made.
金属層（２４０）を形成金属層（２４０）を形成後、半導体ウェハ上に感光性絶縁材料（２５０）を形成し、パターニングする。 - 特許庁 - To provide a lithography apparatus capable of arranging and removing objects, such as a quickly and effectively patterning device and substrate.
パターン化デバイスや基板などのオブジェクトを迅速且つ効果的に支持領域に配置および除去可能なリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁 - A color filter can be produced using a colored pattern formed by patterning the colored photosensitive resin composition.
本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることで、着色パターンを形成して、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁 - A resist is formed by patterning on the part other than the parts of the layer 3 wherein a Zn diffusion is performed and an etching is performed on the parts, to form steps wherein the Zn diffusion is performed.
そして、Ｚｎ拡散を行う部分以外の部分にレジストをパターン形成し、エッチングを行って段差を形成する。 - 特許庁 - To reduce the area of a memory cell and to simplify manufacturing process by fine patterning in a semiconductor memory device, having an erasing gate electrode.
消去ゲート電極を備えた半導体記憶装置において、微細化によるメモリセル面積の縮小と工程の簡略化とを図る。 - 特許庁 - To decrease a manufacturing cost by conveniently performing a fine patterning of doped regions in a manufacturing process of a backside solar cell.
裏面型太陽電池の製造過程において、ドーピング領域の微細なパターニングを簡易的に行うことで製造費の低コスト化を図る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a display device in which a side etching of a laminated structure is prevented and a good shaped patterning can be made possible.
積層構造のサイドエッチングを防止して良好な形状にパターニングすることができる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To enable processes, where a light transmitting film is patterned to be lessened in number in a semiconductor device manufacturing method that comprises film patterning processes.
膜のパターニング工程を含む半導体装置の製造方法に関し、光透過性の膜をパターニングの際の工程を減らすこと。 - 特許庁 - To provide an organic thin film transistor improved in on/off-ratio or the like while easily obtaining the patterning effect of an organic semiconductor layer.
容易に有機半導体層のパターニング効果を得つつ、オン／オフ比などの特性が向上した有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁 - The SiO_2 film 3 is subjected to patterning, and while the SiO_2 film 3 is used as a mask, the polyimide film 1 is dry-etched by a plasma 4 using O_2.
ＳｉＯ_２膜３をパターニングし、ＳｉＯ_２膜３をマスクとして、Ｏ_２を用いたプラズマ４によりポリイミド膜１のドライエッチングを行う。 - 特許庁 - To impart a pattern with a functionality unattainable with one kind of material by patterning a laminate of a plurality of materials.
複数の材料を積層してパターンを形成することによって、一種類の材料では得られなかった機能性をパターンに付与する。 - 特許庁 - Then, the laminated resist pattern 110 is used for patterning the film to be patterned before the plane area of the upper-layer resist pattern 112 is increased.
次に、積層レジストパターン１１０を用いて被パターニング膜をパターニングした後、上層レジストパターン１１２の平面積を増大させる。 - 特許庁 - To provide a conductor clad laminated sheet reduced in its dimensional change at the time of patterning of a conductor film, and its manufacturing method.
導体フィルムのパターニング時の寸法変化が低減された導体張積層板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁 - To solve the problem of difficulties in determining a layout for optimizing the tradeoff of a patterning margin and forming a layout for obtaining a high yield.
パターニングマージンのトレードオフを最適にするレイアウトの判断がむずかしく、高歩留を得るレイアウトの形成が困難となっている。 - 特許庁 - Then, the binary coded pattern index of inputted information is found in an input pattern index part 100 by the similar patterning method.
そして、入力する情報の２進符号化パターン・インデックスを、同様のパターン化手法で、入力パターン・インデックス部１００において求める。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURE ON SOLAR CELL, METALLIZATION CONTACT STRUCTURE, PATTERNING METHOD OF LAYER, AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL STRUCTURE
太陽電池上に多層電極構造を形成する方法、金属配線コンタクト構造、層のパターニング方法、機能構造の形成方法 - 特許庁 - To provide a circuit board wherein a patterning process is unnecessary, productivity is high and circuit formation is enabled with fine pattern.
パターンニング工程を必要とすることなく生産性高く、しかもファインパターンで回路形成をすることができる回路基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing the agglomeration of a silicon layer without patterning the silicon layer.
シリコン層のパターニングを行うことなく、シリコン層の塊状化を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce manufacturing cost by attaining simplification of process in an organic EL display panel having an electrode to which patterning has been carried out.
パターニングされた電極を有する有機ＥＬ表示パネルにおいて、工程の簡略化を達成して製造コストの低減を図る。 - 特許庁 - To provide technique for manufacturing an organic EL display having high performance by carrying out high-accuracy patterning, readily and in a short time.
簡便にかつ短時間で精度の高いパターニングを行い、高性能の有機ＥＬ表示体装置を製造する技術を提供する。 - 特許庁 - The array can be formed by patterning a positive or negative photosensitive resin composition to form the green filter layer.
ポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物をパターンニングして緑色フィルタ層を形成する工程により形成することができる。 - 特許庁 - A color filter array can be produced by forming a color filter layer by patterning the colored photosensitive resin composition.
この着色感光性樹脂組成物をパターンニングして色フィルタ層を形成することにより、色フィルタアレイを製造することができる。 - 特許庁 - To finally and stably form a pattern in the desired size on a wafer in the pattern forming process performing patterning a plurality of times.
複数回のパターニングを行うパターン形成処理において、ウェハ上に最終的に所望の寸法のパターンを安定的に形成する。 - 特許庁 - To provide a stack structure for a fuel cell comprising an electrode which contains uniform and minute gas channels formed by patterning.
電極中に均一でかつ微細なガス流路をパターン形成した電極を備える燃料電池用スタック構造体を提供する。 - 特許庁 - The nitride film 28 is formed by patterning the silicon nitride film deposited by a plasma CVD method so that the channel of the transistor T may be covered.
窒化膜２８は、プラズマＣＶＤ法により堆積したシリコン窒化膜をトランジスタＴのチャンネル部を覆うようにパターニングして形成する。 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR PATTERNING ORGANIC THIN FILM, ORGANIC FIELD LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL DISPLAY, AND ORGANIC EL ILLUMINATION
有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子およびその製造方法、並びに有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁 - Patterning provided by a lithographic apparatus is optically corrected for focus errors that would result from a topology of a substrate being patterned.
リソグラフィ装置によって提供されるパターニングの、パターニングされる基板のトポロジに起因する焦点誤差が光学的に修正される。 - 特許庁 - To provide an organic EL element superior in pixel sharpness and durability (adhesive strength) and easy of uniform and local patterning.
画素の先鋭度及び耐久性（密着強度）に優れ、且つ、均一で局所的なパターニングが容易な有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device for achieving a fine-pitch pattern and improving stability in patterning precision.
微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A photoresist 8 for forming a transfer channel is formed on the protecting film 7, and a part of the photoresist for forming the transfer channel is removed by patterning.
保護膜７上に転送チャネル形成用フォトレジスト８を形成し、転送チャネル形成用フォトレジストの一部をパターニング除去する。 - 特許庁 - The electric field impressing fuse 7a is formed by patterning a polycrystalline silicon film, and its terminal is led out by a first layer metal wring 24.
電界印加フューズＦａは、多結晶シリコン膜をパターン形成して作られ、その端子は第１層メタル配線２４により引き出さる。 - 特許庁 - A patterning part fills a template pattern with the resist on the substrate, and the resist is cured, and after that, a release process is performed.
また、パターニング部は、テンプレートパターンに前記基板上のレジストを充填させて前記レジストを硬化させ、その後、離型処理を行なう。 - 特許庁 - To reuse sand blasting waste generated in mass quantity in patterning a rib of a plasma display panel in a sand blasting method.
プラズマディスプレイパネルのリブをサンドブラスト加工法でパターニングする際に大量に発生するサンドブラスト廃材の良好な再利用を図る。 - 特許庁 - The radiation thermal conduction films 3,..., for instance, can be formed by patterning copper foil formed on a whole back face of the substrate 1.
熱伝導膜３、…は、例えば、基板１の裏面の全面に形成された銅箔をパターンニングすることにより形成することができる。 - 特許庁 - Further, a pattern is drawn with electron beams by using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and then treated for patterning such as by developing to produce a photomask.
さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。 - 特許庁 - Thereafter, the polysilicon film 5 is subjected to patterning for forming gate electrodes in the four regions 101n, 102n, 102p and 101p.
次に、ポリシリコン膜５をパターニングすることにより、ゲート電極を４つの領域１０１ｎ、１０２ｎ、１０２ｐ及び１０１ｐに形成する。 - 特許庁 - Thereafter, a resist pattern 9 is formed on the WSi layer 8, and patterning of the WSi layer 8 is performed using the resist pattern 9 as a mask.
その後、ＷＳｉ層８の上にレジストパターン９を形成し、レジストパターン９をマスクとしてＷＳｉ層８のパターニングを行う。 - 特許庁 - To provide a masking device in which it is possible to carry out a vacuum vapor deposition in manufacturing an organic EL element with high productivity and high-precision patterning.
有機ＥＬ素子製造における真空蒸着を生産性良く且つ高精細パターニングで実施可能なマスク装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for smoothly patterning a glass film comprising Bi_2O_3 or the like, and to provide a glass optical amplification waveguide using the glass film.
Ｂｉ_２Ｏ_３他含有ガラス膜を平滑にパターニングする方法及び当該ガラス膜を用いたガラス光増幅導波路の提供。 - 特許庁 - A wiring pattern is formed with the steps of patterning the second conductive film 12 and the first conductive film 11.
第２の導電膜１２をパターニングする工程及び第１の導電膜１１をパターニングする工程によって、配線パターンが形成される。 - 特許庁 - Then an etching stop layer 5 and a second insulating film 6 are formed on the film 3 and trenches (square pipe-like recessed sections) 7 are formed by patterning the second insulating film 6.
更に、エッチング停止層５及び第２の絶縁膜６を成膜し、パターニングしてトレンチ（角筒形の凹部）７を形成する。 - 特許庁 - Etching treatment is carried out while the distance between a mask 9 and a substrate 8 is gradually changed, thus controlling a patterning shape.
マスク９と基板８の距離を徐々に変化させながらエッチング加工することにより、パターンニング形状を制御することができた。 - 特許庁 - To provide a patterning method in which stock management of mask is not required, and a throughput higher than that of a direct imaging method can be attained easily.
マスクの在庫管理が不要であり、ダイレクトイメージング法よりも高いスループットとすることが容易なパタン作製方法を提供する。 - 特許庁 - To realize patterning of high accuracy while reducing the cost and time required for the entire process, and selectively depositing particles in the nano-order.
プロセス全体に要するコストや時間を軽減させ、微粒子をナノオーダで選択的に堆積させつつ、高精度なパターニングを実現する。 - 特許庁 - To provide a method of forming an electrode for a gas discharge panel in which an oxidization of a copper layer side exposed by patterning can be prevented.
パターニングによって露出したＣｕ層の側面の酸化を防ぐことができるガス放電パネルの電極形成方法を提供する。 - 特許庁 - Whereby the ribbon member forming layer can be divided into ribbon members at predetermined intervals with a specific width by performing the patterning to the ribbon member forming layer.
これにより、リボン部材形成層をパターニングして所定幅で所定間隔で離隔したリボン部材に分割することができる。 - 特許庁
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