「Patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 24 25 26 27 28 29 30 31 32 .... 78 79 次へ＞- To improve productivity without impairing a patterning easiness in a method for manufacturing an inorganic cement board by a shuttering pressing method.
型枠プレス方式による無機セメント板の製造方法において、柄付け容易性を損なうことなく生産性を向上させる。 - 特許庁 - The method also includes a step of patterning this polyimide resin film 34, and thereby forming a second opening 35 on the first opening 33.
そして、このポリイミド樹脂膜３４をパターニングすることにより、第１開口部３３上に第２開口部３５を形成する。 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR PATTERNING ORGANIC THIN FILM, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE USING THE SAME, AND ORGANIC EL ILLUMINATION
有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子、並びにこれを用いた有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁 - To provide a phase shift mask and a phase shift mask blank capable of high precision patterning and high in acid resistance and reliability.
高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供する。 - 特許庁 - At the time of forming each the film by sputtering, all the films that constitute the multilayer films are carried out patterning using the same metal mask.
スパッタ法により各膜を成膜するに際し、多層膜を構成する全ての膜を同一のメタルマスクを使用してパターニングする。 - 特許庁 - To provide an electrode capable of patterning of high accuracy on a substrate by a treatment in an electrolytic solution in a short time.
電解液中での短時間の処理によって精度の高いパターニングを被エッチング物に施すことができる電極を提供する。 - 特許庁 - The array can be formed by patterning a positive or negative photosensitive resin composition to form the blue filter layer.
ポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物をパターンニングして青色フィルタ層を形成する工程により形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method for the patterning of the functional material on a substrate simply and cheaply, and a sheet for a pattern formation.
簡単で安価に基材上の機能材料をパターニングするための方法、およびパターン形成用シートを提供すること。 - 特許庁 - The array can be formed by patterning a positive or negative photosensitive resin composition to form the yellow filter layer.
ポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物をパターンニングして黄色フィルタ層を形成する工程により形成することができる。 - 特許庁 - The silicon oxide layer is patterned during the same step as patterning the conductive layer to expose the silicon nitride layer.
前記酸化シリコン層は、前記導電層をパターン化するのと同じステップ中にパターン化して、前記チッ化シリコン層を露光する。 - 特許庁 - To improve reliability in the patterning process of a negative resist layer and a wiring layer, in the manufacturing method of a semiconductor device.
半導体装置の製造方法において、ネガレジスト層及び配線層のパターニング工程における信頼性の向上を図る。 - 特許庁 - When the first insulating layer 61 is subjected to patterning through photolithography, the upper electrode 59 is made to function as a reflecting member.
フォトリソグラフィによる第１の絶縁層６１のパターニング時に、上部電極５９が反射部材として機能するようにする。 - 特許庁 - A TiN film 17, an Al-Cu film 18 and a TiN film 19 are formed as an upper layer side wiring layer and patterning is applied thereon.
上層側配線層としてＴｉＮ膜１７、Ａｌ−Ｃｕ膜１８、ＴｉＮ膜１９を成膜してパターニングする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing artificial marble enabling the patterning of a surface and a cut surface at the same time by a simple method.
簡単な方法で、表面及び切断面の柄出しが同時に可能となる人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a sucking apparatus which can goodly remove abrasion slag generated, in the case of patterning a substrate for solar cell.
太陽電池用基板のパターニングに際して発生するアブレーション滓を良好に除去できる吸引装置を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, the patterning member 12 is adhered to a member unit 20 for limiting visual field, which is cut off along the range 44.
次に、型取り部材１２を視野制限部材ユニット２０に貼り付けて、視野制限部材ユニット２０を範囲４４に沿って切り取る。 - 特許庁 - To narrow core width of a magnetic head in a manufacturing method of a magnetic head having a patterning process of a magnetic film.
磁性膜のパターニング工程を有する磁気ヘッドの製造方法について、磁気ヘッドのコア幅を狭くすることを課題とする。 - 特許庁 - To provide a thermal sensor (heating type acceleration sensor) of high sensitivity and precision, free from a problem such as disconnection and difficulty in patterning.
断線やパターニングの困難性などの問題がなく、しかも感度や精度の高い熱式センサ（熱式加速度センサ）を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescent display device, superior in the producibility and allowing simple patterning operation for the organic light-emitting layer.
有機発光層のパターニングが簡便にでき、生産性に優れる有機エレクトロルミネッセンス発光表示装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a self-alignment patterning method that can be used to manufacture a plurality of thin film transistors on a substrate.
本発明は、基板上に複数の薄膜トランジスタを製造するために用いることができる自己整合パターニング方法に関する。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording medium which is inexpensive and has a high quality by patterning a soft magnetic layer without using etching.
エッチングを用いること無く、軟磁性層のパターニングを行うことで、低コストで、高品質な磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in patterning ability, especially developability, heat-resistant flowability, and adhesion in development.
パターニング性能、特に現像性、耐熱フロー性及び現像密着性に優れた感放射線樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The array can be formed by patterning a positive or negative photosensitive resin composition to form the red filter layer.
ポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物をパターンニングして赤色フィルタ層を形成する工程により形成することができる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device capable of suppressing characteristic variation to be caused by the patterning deviation of gate electrodes and capable of composing an SRAM.
ゲート電極のパターニングずれが引き起こす特性変動を抑制でき、ＳＲＡＭを構成する半導体装置を提供する。 - 特許庁 - By patterning the intermediate layer 10 and the anti-reflection film 11, with the resist pattern 12a as a mask, the lower layer resist film 9 is developed.
レジストパターン１２ａをマスクとして中間層１０と反射防止膜１１をパターニングし、下層レジスト膜９を現像する。 - 特許庁 - When wiring width of a bent part 16 of metal wiring 14 is increased, coating width of resist for patterning the wiring is increased.
金属配線１４の屈曲部１６の配線幅が広くなると、配線をパターニングするためのレジストの塗布幅が広くなる。 - 特許庁 - To provide a mask for vacuum film deposition for improving the accuracy of patterning and to provide an apparatus for film deposition having the mask.
パターニングの精度を向上させるための真空蒸着用マスク及びこれを備えた真空成膜装置を提供する。 - 特許庁 - PROCESS AND APPARATUS FOR PATTERNING FLUID-DISPERSIBLE MATERIAL ON SUBSTRATE, POROUS SHEET MATERIAL FOR THIS PURPOSE AND ITS PREPARATION PROCESS
流体分散可能物質を基板上にパターニングする方法及び装置とそのための有孔シート材並びにその製造方法 - 特許庁 - To provide a pattern formation method using double patterning capable of obtaining a fine pattern having a good shape.
良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - LASER APPARATUS FOR PATTERNING AT LIGHT GUIDE PLATE OF BACK LIGHT UNIT AND METHOD FOR FORMING PATTERN AT LIGHT GUIDE PLATE OF BACK LIGHT UNIT USING THEREOF
バックライトユニット用導光板パターン形成レーザ装置、及びこれを用いたバックライトユニット用導光板パターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a new manufacturing method capable of improving material in the degree of freedom of selection and a patterning device suitable for practicing the above method.
材料の選択自由度を高くした新たな製造方法と、この方法の実施に好適なパターニング装置を提供する。 - 特許庁 - The copper foil 31 is processed by patterning while a pad 31a and a distribution layer 31b are formed on one surface of the insulating substrate 11.
銅箔３１をパターニング処理して、絶縁基材１１の一方の面にパッド３１ａ及び配線層３１ｂを形成する。 - 特許庁 - To simplify the constitution for tensioning a patterning sheet installed on the concrete form side and the constitution for fixing a tensioning state.
コンクリート型枠側に取付ける模様付けシートを緊張させる構成、緊張状態を固定する構成を簡素化する。 - 特許庁 - To provide a patterning apparatus using an ink jet head which is so structured as to draw a fine pattern with high accuracy by reducing a droplet in size.
液滴のサイズを小さくし、パターニング精度の高精細化を可能とする構成のインクジェットヘッドによるパターニング装置である。 - 特許庁 - After patterning by exposure and development of the master optical disk, a resist surface is subjected to surface treatment to form a specified pattern.
光ディスク原盤の露光及び現像によりパターニングした後に、レジスト表面を表面処理して所定のパターンを形成する。 - 特許庁 - A photomask is manufactured by patterning the light shielding film 2 in the photomask blank 10 by dry etching.
また、このフォトマスクブランク１０における上記遮光膜２をドライエッチング処理によりパターニングすることにより、フォトマスクを製造する。 - 特許庁 - To manufacturing a diffraction grating having a desired transmissivity and a diffraction efficiency independent of the direction of patterning.
パターニング方向に依存させずに所望の透過率および回折効率を有する回折格子を作製することができるようにする。 - 特許庁 - The method includes a step of patterning the buffer film 3 by dry etching performed by the use of an etching gas containing oxygen.
本製造方法は、バッファ膜３を酸素含有エッチングガスによりドライエッチングしてバッファ膜パターンを形成する工程を含む。 - 特許庁 - After an overcoat composition containing a compound of formula (1) and a solvent is applied on a photoresist, a patterning process is started.
下記式１の化合物及び溶媒を含むオーバーコーティング用組成物をフォトレジストの上部に塗布した後パターニングを進める。 - 特許庁 - PATTERNING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER, ETCHING PASTE, PATTERN TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND FLEXIBLE FUNCTIONAL ELEMENT USING THE SAME
透明導電層のパターニング方法とエッチングペースト、及びパターン透明導電フィルム並びにそれを用いたフレキシブル機能性素子 - 特許庁 - COMPOSITION FOR UNDER-COATING LAYER, ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL ILLUMINATION
下引き層用組成物、有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子、有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁 - To provide a patterning means which has precision of micron order and forms a good functional thin film in a simple process.
ミクロンオーダーの精度を有し、尚且つ、簡便な工程で良質な機能性薄膜を形成するパターンニング手段を提供する。 - 特許庁 - A polysilicon layer 25 and a silicon oxide film 36 are successively formed on a substrate 33, and are subjected to patterning for obtaining an island pattern 38.
基板３３上にポリシリコン層３５、酸化シリコン膜３６を順次形成し、これらをパターニングして島パターン３８を得る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of accurately patterning nickel silicide, and also to provide the semiconductor device.
ニッケルシリサイドのパターニングを精度よく行なうことのできる半導体装置の製造方法と半導体装置を提供する。 - 特許庁 - Since formation of the thin film and patterning are conducted simultaneously using the ink jet device, the conductive film pattern can be formed easily and inexpensively.
インクジェット装置を用いて薄膜形成とパターンニングを同時に行うため、簡単かつ安価に導電膜パターンを形成できる。 - 特許庁 - To provide a method for decomposing a target pattern to be printed on a wafer into multiple patterns upon using double patterning techniques.
ダブルパターニングを使用する際に、ウェーハに印刷されるターゲットパターンを複数のパターンに分解するための方法を提供する。 - 特許庁 - CONDUCTIVE POLYMER PATTERNED FILM AND METHOD OF PATTERNING THE SAME, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING THE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THE ELEMENT
伝導性高分子パターン膜及びそのパターニング方法、並びにそれを利用する有機電界発光素子及びその製造方法 - 特許庁 - To realize a low-cost semiconductor memory device or memory hybrid LSI with higher performance whose gate electrode patterning is stably carried out.
ゲート電極パターニングが安定して行われる半導体メモリ装置またはメモリ混載ＬＳＩの高性能化、低コスト化を実現する。 - 特許庁 - Thereafter, a gate electrode 11 is formed by patterning the polycrystal silicon film 3, the naturally oxidized film 4 and polycrystal silicon film 5.
その後、多結晶シリコン膜３、自然酸化膜４及び多結晶シリコン膜５をパターニングしてゲート電極部１１を形成する。 - 特許庁 - After that, a lamination film of the titanium film 34, the film 35 containing aluminum, and the titanium nitride film 36 is subjected to patterning to obtain wiring 33.
その後、チタン膜３４とアルミニウムを含む膜３５、窒化チタン膜３６との積層膜をパターニングして配線３３を得る。 - 特許庁
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