「Process」を含む例文一覧(50000)

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  • To provide an image forming apparatus in which correct measurements are provided to a process control section and which is free from causing image failure because of image stabilization and reduction of defects by feedback from the process control section.
    適正な測定値をプロセス制御部に提供し、そのフィードバックとして画像の安定性、欠陥の減少により、画像不良が生じない画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • The method for treating the lignocellulose-based biomass includes the process for crushing the lignocellulose-based biomass to obtain the powder and the process for irradiating the powder with electron beams in an aqueous solution of hydrogen peroxide.
    リグノセルロース系バイオマスを粉砕し、粉体を得る工程と、過酸化水素の水溶液中で前記粉体に電子線を照射する工程とを含む、リグノセルロース系バイオマスの処理方法。 - 特許庁
  • The sidebar application may then determine whether certain process control information may be useful for the main task the user is completing and display the process control information within the sidebar.
    次に、サイドバーアプリケーションは、特定のプロセス制御情報が、ユーザが行っている主作業に対して有用であり得るかを決定し、プロセス制御情報をサイドバー内に表示する。 - 特許庁
  • To provide a shirt collar pressing apparatus for performing both collar pressing process and a buttoning process with a simple configuration, and also easily performing a buttoning work.
    簡易な構成で襟のプレス工程とボタン掛け工程との両工程を行うことが可能で、かつ、ボタン掛け作業を容易に行うことが可能なシャツの襟プレス装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for decomposing an organic halogen compound which can reduce consumption of an oxidant used for an oxidative decomposition process carried out after an anaerobic dehalogenation process.
    嫌気性脱ハロゲン化工程の後に行われる酸化分解工程に用いる酸化剤の消費量を低減することができる、有機ハロゲン化合物の分解方法を提供すること。 - 特許庁
  • A method for producing rucola sprout includes a process for soaking rucola seeds in acid-containing aqueous solution or acid-and-alcohol-containing aqueous solution and a process for sprouting the seeds subjected to the soaking treatment.
    ルッコラ種子を酸含有水溶液または酸及びアルコール含有水溶液に浸漬処理する工程、及び浸漬処理した種子を発芽させる工程を含む、ルッコラスプラウトの製造方法。 - 特許庁
  • Next, an oxidization process is executed for oxidizing a boron silicide, which is generated on the surface of the monocrystalline silicon wafer 1 by the first thermal diffusion process, and changing it into boron silicate glass.
    次に、前記第1の熱拡散工程により前記シリコン単結晶基板1の表面に発生したボロンシリサイドを酸化してボロンシリケートガラスに変化させる酸化工程を行う。 - 特許庁
  • In addition, the memory circuit is composed of an ordinary element which can be formed in the same process as a semiconductor manufacturing process for forming elements constituting other circuits.
    これとともに、メモリ回路は他の回路を構成する素子を形成する半導体製造プロセスと同一の工程によって形成することが可能な通常の素子で構成するようにした。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a pressure sensor which simplifies a manufacturing process by eliminating a vacuuming process in comparison with a conventional method of manufacturing the pressure sensor.
    従来の圧力センサの製造方法と比較して、真空引きする工程を無くすことで製造工程を簡略化することができる圧力センサの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • When a main game comes to a predetermined status during its process, the method inserts a sub game which differs from the main game and reflects the result of the sub game to the process of the main game.
    主ゲームが進行していて予め定められた特定の局面になった場合に、主ゲームとは異なる副ゲームを挿入し、その副ゲームのゲーム結果を主ゲームの進行に反映する。 - 特許庁
  • The etching process of the ferrodielectric film 3 is added to the process for forming one type of normal capacitor so that two types of capacitors 10a and 10b can be formed.
    通常の1種類のキャパシタを形成する工程に、強誘電体膜3のエッチング工程を追加するのみで、2種類のキャパシタ10a、10bを形成することができる。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the ferrite magnet includes a process of obtaining a preform by injection molding in a cavity of a metal mold applied with a magnetic field and a process of baking the preform.
    磁場が印加された金型のキャビティ内で射出成形して予備成形体を得る工程と、予備成形体を焼成する工程と、を有するフェライト磁石の製造方法である。 - 特許庁
  • To inexpensively provide an inexpensive cloth for bulletproof clothing having a high mechanical property (a toughness factor), superior process stability in a manufacturing process, and superior bulletproof performance.
    高い機械的物性(靭性因子)を有し、製造工程における工程安定性に優れると共に、安価で、しかも防弾性能に優れた防弾衣料用布帛を安価で提供すること。 - 特許庁
  • To place stacked anode scraps in an easily handlable state in a subsequent process by binding the stacked anode scraps of the specified number by a binding band in a carrying process.
    所定の枚数の積み重ね状態のアノードスクラップ2を搬送過程で結束バンド3により結束し、その後の工程で積み重ね状態のアノードスクラップ2を取り扱いやすい状態とする。 - 特許庁
  • For example, when the stop control pattern of the process alarm of a cycle time is altered, a cycle stop operation selecting screen A is displayed by the selecting operation of the process alarm.
    そして、例えば、サイクル時間のプロセスアラームの停止制御パターンを変更するときには、そのプロセスアラームを選択操作することでサイクル停止動作選択画面Aが表示される。 - 特許庁
  • To provide for forming a fine pattern of a semiconductor device utilizing a double patterning process, which achieves a contact hole pattern of a fine pitch exceeding the resolution limit in a photolithography process.
    フォトリソグラフィ工程での解像限界を超える微細ピッチのコンタクトホールパターンを実現可能な、ダブルパターニング工程を利用する半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • A slab work process for constructing slab 4 of the underground structure by pouring concrete on a formwork layer 3, and excavating process for excavating underside of the slab 4 already constructed are provided.
    型枠層3上にコンクリートを打設することにより地中構造物のスラブ4を施工するスラブ施工工程と、施工されたスラブ4の下側を掘削する掘削工程とを備える。 - 特許庁
  • To improve a manufacturing process capacity by carrying out the process management simply and correctly and improve the quality of the product in the manufacturing method of a plasma display device.
    プラズマディスプレイ装置の製造方法において、工程管理を簡潔かつ正確に行なうことにより、製造工程能力を向上させ、製品の品質を向上させることを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a process for dyeing in deep blue color and an apparatus suitable for the process capable of properly dyeing even the inner part of a thick dyeing object and continuously and quantitatively controllable with a single vessel.
    厚い被染色物の内部もよく染めることができ、且つ1つの容器で連続して定量的にコントロールできる藍色染方法およびそれに適した装置を提供する。 - 特許庁
  • The method of manufacturing SHOCHU lees feed further includes a process of mixing rice bran to the SHOCHU lees dried by the method described above and a process of fermenting the mixture to obtain the feed made mostly from dry SHOCHU lees 11.
    この方法によって乾燥させた焼酎粕に米糠を混合し、その混合物を醗酵させることにより、乾燥焼酎粕11を主材とした飼料を得る。 - 特許庁
  • This method for producing the positive electrode active material for lithium secondary battery comprises a process for mixing a lithium source, a metal source and a doping solution containing a doping element, and a process for thermally treating substance of the mixing.
    リチウム源、金属源とドーピング元素を含むドーピング液を混合する工程、及び前記混合物を熱処理する工程を含むリチウム二次電池用正極活物質の製造方法。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a high-quality polycarbonate resin while reusing, in the production process of the polycarbonate resin, water which is generated in the process and is disposed of so far.
    ポリカーボネート樹脂の製造工程から発生し、廃棄していた水を、ポリカーボネート樹脂の製造工程に再利用し、品質の良好なポリカーボネート樹脂を製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • If the calculated azimuth is the unmonitored azimuth, a spectrum process part 104 performs the substitution process for eliminating the detected data component as the ineligible component of the monitoring subject.
    演算された方位が非監視方位であれば、スペクトル処理部104は、入射放射線に対応する検出データ成分を監視対象外成分として除外する置換処理を実行する。 - 特許庁
  • To provide a method and device based on a dry process developing process at first sight for developing the parts of photosensitive media having exposed and undeveloped images at the upper part.
    露光された未現像の画像を上に有する感光性媒体の部分を現像するための、一見したところ乾式現像プロセスに基づく、方法および装置を提供する。 - 特許庁
  • A processing start time estimating portion 306 calculates the time when processing in a next process will start for substrates being transferred and waiting substrates in each process using the databases 301 and 302.
    処理開始時刻予測部306は、各工程で搬送中および待機中の基板について、データベース301,302を用いて次の工程の処理が開始される時刻を算出する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus that stabilizes the time from an ultraviolet-ray irradiation process to a smoothing process and shortens processing times, and can be made compact.
    紫外線照射処理からスムージング処理までの時間を安定化させると共に、処理時間の短縮を図り、かつ、装置の小型化を図れるようにした基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the electromagnetic shield film comprises a process for forming recesses 3 on a surface of a transparent substrate 1 by embossing and a process for forming the metal mesh patterns 4 in the recesses 3.
    電磁波シールドフィルムの製造方法は、エンボス加工により透明基材1の表面に凹部3を形成する工程と、該凹部3内に金属メッシュパターン4を形成する工程とを含む。 - 特許庁
  • To efficiently reduce the total length of an inline processing system for arranging a plurality of processing units in a linearly-extending process line of a reciprocating path in the order of a process flow.
    直線的に延びる往復路のプロセスラインに複数の処理ユニットをプロセスフローの順に並べて配置するインライン型処理システムの全長サイズの短縮化を効率的に実現する。 - 特許庁
  • Thus, the open type semitransmissive reflection base plate (3) is available without the positioning process of the microlens array (31) and the fine hole (34), an etching process for forming the fine hole (34) or the like.
    それにより、マイクロレンズアレイ(31)と微小孔(34)との位置合わせや、微小孔(34)を形成するエッチングプロセス等を必要としないで、開口型の半透過反射基板(3)を得ることができる。 - 特許庁
  • To reduce a process cost by minimizing an quantity of eliminated materials while securing a recording property when a groove is formed at a gap part of a magnetic head having wide width by a convergence ion beam process.
    幅の広い磁気ヘッドのギャップ部に収束イオンビーム加工により溝を形成する際に、記録特性を確保しつつ、材料を除去する量を最小化し、加工コストの低減を図る。 - 特許庁
  • To provide a developing apparatus capable of preventing toner from being scattered and securely removing the developer carried on a developer carrier after a development process, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.
    トナー飛散が低減されて、現像剤担持体上に担持された現像工程後の現像剤が確実に離脱される、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • Since the sleeve 4, the coupling bush 5 and the dynamic vibration proof part 6 are formed as an integrated formed body, one forming process and one fitting process will be sufficient for manufacturing the damper.
    スリーブ4とカップリングブッシュ5及び動的吸振部6が、一体の成形体をなすため、その成形工程及び嵌合工程を、それぞれ一工程として製作することができる。 - 特許庁
  • The inorganic oriented film layer 41 is formed by, for example, a rhombic vapor-deposition process and the organic oriented film layer 42 is formed by an ion vapor-deposition process using an acrylic monomer as a vapor deposition material.
    無機配向膜層41は例えば斜方蒸着法により形成され、有機配向膜層42は、蒸着材料としてアクリルモノマーを用いたイオン蒸着法により形成される。 - 特許庁
  • Then, the node-to-node synchronizing apparatus 300 for synchronization between nodes automatically generates the process location information (masks) using each mask generation request accepted from each process which participates in the waiting of synchronization.
    そして、ノード間同期装置300は、同期の待ち合わせ参加する各プロセスから受け付けられた各マスク生成リクエストを用いてプロセス配置情報(マスク)を自動生成する。 - 特許庁
  • After a first sealing film 14 is formed on a second electrode 13 by a CVD method in a first sealing film formation process, the first sealing film 14 is etched in an etching process.
    第1封止膜形成工程で、CVD法によって第2電極13上に第1封止膜14を形成した後、エッチング工程で、第1封止膜14をエッチングする。 - 特許庁
  • Consequently, moisture and additives causing gasification in the subsequent anneal process are evaporated beforehand and removed and thereby defect and breakage of a piezoelectric film 3 can be avoided in the anneal process.
    これにより、後のアニール工程においてガス化の原因となる水分や添加物を予め気化させて除去し、アニール工程における圧電膜3の欠陥、破壊を回避することができる。 - 特許庁
  • To provide a data sampling method in a material testing machine and the material testing device continuously grasping the material testing conditions in a pretreatment process and in a main process.
    材料試験の前処理工程および本工程における状態を継続して把握することができる材料試験装置におけるデータサンプル方法および材料試験装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a diamond electrode excellent in durability because detachment and fissure of diamond films are protected in the deposition process of diamond and the use process as an electrode.
    ダイヤモンドの成膜過程及び電極としての使用過程においてダイヤモンド膜の剥離及び亀裂が生じることが防止され、耐久性が優れたダイヤモンド電極を提供する。 - 特許庁
  • Then, liquid PPSQ is coated on the cathode electrode 2, the electron emitting part 3, and the substrate 1, and after drying process and calcination process, the PPSQ is polymerized, and the insulating layer 4 is formed.
    次に、カソード電極2、電子放出部3及び基板1の上に、液状のPPSQを塗布し、乾燥・焼成工程を経てPPSQをポリマー化することにより、絶縁層4を形成する。 - 特許庁
  • The method includes a process providing a certain dental device with positive and negative electrodes and a process feeding a certain conductive composition to the dental device.
    上記の方法は陽極および陰極を有する一定の歯科装置を供給する工程および一定の導電性の組成物をその歯科装置に供給する工程を含む。 - 特許庁
  • As for the device, the device used for the flattening process by plasma etching and the device for the epitaxial layer growth process and accompanying devices are housed in one vacuum chamber.
    また、本発明の装置は、プラズマエッチングによる平坦化工程と、エピタキシャル層成長工程およびそれに付随する装置とを同一の真空室に収納してなるものである。 - 特許庁
  • When there are a plurality of wire bonding layers in the substrate, a spacing between wires becomes long and therefore a wire bonding process and the following sealing process can be easily carried out.
    基板内に複数のワイヤ・ボンディング階層が存在する場合には、ワイヤ間の距離が長くなり、そのため、ワイヤ・ボンディング・プロセス、およびその後の封入プロセスを容易に行うことができる。 - 特許庁
  • In this method, the supplement process of oxide layers 255, 260 and the process for forming the sacrificial layer on the semiconductor substrate are applied, after the shallow trench is filled with the insulating layer 230.
    本方法において、シャロートレンチに絶縁層230を充填した後、酸化層255,260の補充工程と半導体基板上に犠牲層を形成する工程が適用される。 - 特許庁
  • Further, in the process for applying the noble metal-containing catalyst layer into the hydrochloric acid and/or a process for washing after dipping, a method for applying an ultrasonic irradiation to the catalyst layer, is performed, too.
    また貴金属含有触媒層を塩酸に浸漬する工程または/ 及び、浸漬後の洗浄工程において、触媒層に超音波照射を行う方法も含まれている。 - 特許庁
  • The control section 20 introduces an inert gas into a process tube 12 after a work is enclosed in the process tube 12 by a floor plate 22 before work heat treatment.
    制御部20は、フロアプレート22によってプロセスチューブ12内にワークが封入された後であってワークに対する熱処理が開始される前に、プロセスチューブ12内に不活性ガスを導入する。 - 特許庁
  • This method comprises a process for epitaxially growing a silicon film on one main face of a single-crystal silicon substrate and a process for carrying out heat treatment in an oxidizing atmosphere.
    単結晶シリコン基板の一主面上に対してシリコン膜をエピタキシャル成長する工程と、酸化性雰囲気での熱処理を行う工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • After the couplings connect each other, the position of the process cartridge is controlled by the automatic self-centering work of the coupling, so that the load is not applied from the guide lever by which the process cartridge is pushed in.
    カップリング連結後はカップリング自身が自動調心作用で、プロセスカートリッジの位置を規制するため、プロセスカートリッジを押し込んだガイドレバー19からは負荷は加わらない。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor laser device and its manufacturing method which can prevent cracks from occurring in a semiconductor laser element portion in a separation process or other process of a growth substrate.
    成長基板の剥離工程などにおいて半導体レーザ素子部にクラックが発生するのを抑制することが可能な半導体レーザ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • This enables to execute trapping process only when there is the danger that a gap occurs in a boundary portion, so that trapping process can be realized as needed.
    こうすることによって、境界部分に隙間ができる危険性がある場合にのみトラッピング処理を実行することができ、必要に応じたトラッピング処理を実現することができる。 - 特許庁
  • As a result, the upstream side end surface and a downstream side end surface inclined to a surface can be easily formed, and deburring process is not required in a punching process.
    その結果、表面に対して斜めに傾いた上流側端面、下流側端面を容易に形成することできるとともに、打ち抜き加工の場合におけるバリ取り工程を必要としない。 - 特許庁
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