「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 671 672 673 674 675 676 677 678 679 .... 999 1000 次へ＞- To provide a fluorometer capable of observing several sorts of process samples using a single device and a fluorometer capable of measuring fluorescent signals in opaque medium without exchange of process samples for the spectrofluorometer observing nature or industrial process or system.
天然又は工業プロセスもしくは系を観測する分光蛍光光度計に関し、プロセス試料を取り替えずに、単一の装置を用いて数種のプロセス試料を観測できる蛍光光度計、及び不透明媒体において蛍光シグナルを測定できる蛍光光度計を提供する。 - 特許庁 - A resin producing process of producing a liquid crystal resin P by melt polymerization of a material M in a polymerization vessel 3, and a resin ejecting process of ejecting the liquid crystal resin P produced in the resin producing process from the polymerization vessel 3 are executed repeatedly for a plurality of lots.
重合容器３内で原料Ｍを溶融重合させて液晶樹脂Ｐを生成する樹脂生成工程と、この樹脂生成工程で生成された液晶樹脂Ｐを重合容器３から吐出する樹脂吐出工程とが、複数のロットに対して繰り返し実行される。 - 特許庁 - This method of manufacturing a semiconductor light emitting device having a process of sealing a semiconductor light emitting element includes a process of irradiating a specific ultraviolet curable resin (A) with an ultraviolet ray in an environment of 50-100°C during the process of sealing the semiconductor light emitting element.
半導体発光素子を封止する工程を有する半導体発光装置の製造方法において、前記半導体発光素子を封止する工程中、（Ａ）特定の紫外線硬化性樹脂を５０℃以上１００℃以下の環境下で紫外線照射する工程を有する。 - 特許庁 - To provide liquid used for a CMP method which effectively cleans a polisher and a wafer in a polishing process by the CMP method and a process to clean the polisher, and to provide the manufacturing method of a semiconductor device including the effective cleaning process.
ＣＭＰ法による研磨工程や、研磨装置を洗浄する工程において、研磨装置やウェハの洗浄を効率的に行なうことができるＣＭＰ法に用いる液体、および効率的な洗浄が可能な工程を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Since the loss of the signal of the isolation terminal 4b is not increased to the isolation terminal 4b via a resistance element but the loss of the signal is increased according to the line state apart from the line forming process, there is no need about the resistance element arranging process, and the manufacturing process can be simplified.
アイソレーション端子部４ｂに抵抗素子を介してアイソレーション端子部４ｂの信号損失を増加するのではなく、線路形態により信号損失を増加するので、線路形成工程とは別に抵抗素子配設工程を設ける必要が無く、製造工程の簡略化を図ることができる。 - 特許庁 - The manufacturing method of the piezoelectric elastomer composite material includes a process (A) for introducing a polymerization functional group 22 onto the surface of the piezoelectric ceramics powder 2, a process (B) for growing the polymer 21 from the polymerization functional group 22, and a process (C) for mixing the piezoelectric ceramics powder 2 with the elastomer base 3.
また、本発明の圧電エラストマー複合材料の製造方法は(A)圧電セラミックス粉末２の表面に重合性官能基22を導入する工程、(B)重合性官能基22からポリマー21を成長させる工程、及び(C)圧電セラミックス粉末２とエラストマー基材３とを混合する工程を含む。 - 特許庁 - This production method for the porous membrane comprises a process (1) for obtaining a coagulation by coagulating a dope containing a hydrophobic polymer and a hydrophilic polymer, and a process (2)for drying the coagulation in the mid of a process (3) for eliminating at least a part of the hydrophilic polymer from the coagulation.
疎水性ポリマーと親水性ポリマーを含むドープを凝固させて凝固物を得る工程（１）を有するとともに、該凝固物を乾燥させる工程（２）を該凝固物から該親水性ポリマーの少なくとも一部を除去する工程（３）の途中に有する、多孔質膜の製造方法。 - 特許庁 - To provide a meter pointer capable of reducing time, labor, and costs required for manufacture and disposal by omitting a coating process or an adhesion process when meter pointers are manufactured and a peeling process when meter pointers are disposed of, and to provide its manufacturing method.
メータ指針を製造する際の塗装工程あるいは接着工程を省略し、かつメータ指針を廃棄する際の剥離工程を省略して、製造および廃棄に要する手間および費用の削減を図ることができるメータ指針およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To dissolve the disadvantage of a non-resident process system disadvantageous in a performance by overheads generated at process activation and to dissolve the drawbacks of a resident process system that the problem of memory leakage is present and response decline is caused by congestion when an unpredicted amount of transactions are generated.
プロセス起動時に発生するオーバヘッドにより性能面での不利益があった非常駐プロセス方式の不利益を解消し、メモリリークの問題があり、かつ、予期せぬ量のトランザクションが発生した際に、輻輳によってレスポンス低下を起こす常駐プロセス方式の欠点をも解消する。 - 特許庁 - This method for manufacturing an IC tag is provided with a process for supplying UV hardening adhesive 36 on an antenna base material 20, a process for arranging an IC chip 16 through the UV hardening adhesive on the antenna base material, and a process for hardening the UV hardening adhesive by emitting UV rays of light.
ＩＣタグの製造方法は、アンテナ基材２０上にＵＶ硬化性接着剤３６を供給する工程と、アンテナ基材上にＵＶ硬化性接着剤を介しＩＣチップ１６を配置する工程と、ＵＶ光を照射してＵＶ硬化性接着剤を硬化させる工程と、を備えている。 - 特許庁 - The manufacturing method for an electrode of a nonaqueous electrolyte secondary battery includes a process a of producing thermal plasma, a process b of supplying a raw material of an active material to the thermal plasma, and a process c of obtaining the active material by accumulating particles produced in the thermal plasma on the surface of a current collector.
熱プラズマを発生させる工程ａと、前記熱プラズマ中に活物質の原料を供給する工程ｂと、前記熱プラズマ中で生成した粒子を集電体の表面に堆積させて活物質層を得る工程ｃとを含む、非水電解質二次電池用電極の製造方法。 - 特許庁 - The grains to be dried containing a large quantity of moisture and swelled in grain surfaces through a germinating process and a washing process are ventilated in the static condition in an initial drying process to solidify the grains to a degree that damage is hard to be generated by the friction between the grains.
発芽処理や洗浄処理などにより水分を多く含み、かつ粒表面が膨軟状態となっている被乾燥穀物を、初期乾燥工程では粒を静止状態に保って通風することにより、粒の表面を、粒間摩擦によっても損傷を生じない程度まで固化する。 - 特許庁 - The dispenser for discharging the liquid material while attenuating the liquid material by the process air or controlling the pattern of the liquid material is provided with a manifold having a plurality of process air passages for use to supply the process air to one or a plurality of liquid discharge modules.
処理空気で液体材料を細化するか、または液体材料のパターンを制御しながら、液体材料を吐出するためのディスペンサは、処理空気を１つまたは複数の液体吐出モジュールに供給するための複数の処理空気通路を有するマニホルドを備える。 - 特許庁 - A metal-containing film is formed on a substrate by performing a cycle including a process to supply a metal-containing gas into a processing room which stores the substrate, a process to supply a nitrogen-containing gas into the processing room, a process to supply an oxygen-containing gas or a halogen-containing gas into the processing room multiple times.
基板を収容した処理室に金属含有ガスを供給する工程と、処理室に窒素含有ガスを供給する工程と、処理室に酸素含有ガス又はハロゲン含有ガスを供給する工程と、を含むサイクルを複数回行うことで、基板に金属含有膜を形成する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the electronic component comprises an electrode film forming process for forming the electrode film consisting of the α phase tungsten on a substrate at the substrate temperature of 100-300°C by a sputtering method; a process for working the electrode film into a desired shape; and a process for heat-treating the electrode film.
基板上に、α相タングステンからなる電極膜を１００〜３００℃の基板温度でスパッタリング法により形成する電極膜形成工程と、該電極膜を所望の形状に加工する工程と、電極膜を熱処理する工程とを備える、電子部品の製造方法。 - 特許庁 - The method for manufacturing the gas barrier film has a first process for coating a polyester base material with a specific composition and drying the coated base material to form the gas barrier layer, a second process for ageing the base material having the gas barrier layer formed thereto and a third process for applying lamination to the gas barrier layer.
特定の組成物をポリエステル基材上に塗布し乾燥してガスバリア層を形成する第一の工程と、該ガスバリア層を形成した基材をエージングする第二の工程と、該ガスバリア層上にラミネートする第三の工程を有するガスバリア性フィルムの製造方法。 - 特許庁 - The method includes: a process for injecting a mixture of rare earth magnetic powder and a thermoplastic resin binder to obtain a magnet forming body; a process for polishing the surface of the magnet forming body to expose the rare earth magnetic powder; and a process for forming the metal-plated layer on the surface of the polished magnet forming body.
希土類磁性粉と熱可塑性樹脂バインダの混合物を射出して磁石成形体を得る工程と、磁石成形体の表面を研磨して希土類磁性粉を露出させる工程と、研磨した磁石成形体の表面に金属メッキ層を形成する工程とを備える。 - 特許庁 - In vacuum cooling the cooled object received in the processing tank, a rapid cooling process for reducing pressure in the processing tank to set pressure P1, and a slow cooling process for further reducing the pressure in the processing tank while lowering a pressure reducing capacity in comparison with that in the rapid cooling process are successively executed.
処理槽内に収容された被冷却物を真空冷却する際、処理槽内を設定圧力Ｐ１まで減圧する急冷工程と、この急冷工程よりも減圧能力を低くして処理槽内をさらに減圧する徐冷工程とを順に実行する。 - 特許庁 - In the distributed control system displaying the process data gathered by a controller in the operation-monitoring device via a control bus, the operation-monitoring device is provided with a data display part acquiring the product data estimated based on the process data and displaying the product data along with the process data.
制御装置で収集されるプロセスデータを、制御バスを介して操作・監視装置で表示する分散型制御システムにおいて、 前記操作・監視装置は、前記プロセスデータに基づいて推定される製品データを取得し、前記プロセスデータと共に一元的に表示するデータ表示部を備える。 - 特許庁 - A camera 7 placed under the manufacturing environment accompanied by the heat of the manufacturing facilities 5 is used for the image recognition of an object 2 processed for a manufacturing process under temperature management to keep the camera 7 within a predetermined temperature range when it is placed in the manufacturing process and non-manufacturing process.
生産設備５の加熱を伴う生産環境にあるカメラ７を生産上の取り扱い対象物２の画像認識に用いるのに、生産時と生産中断時とにカメラ７を所定の温度範囲に保つように温度管理することにより上記の目的を達成する。 - 特許庁 - The method for aseptically packaging food comprises: a heating process for heating food at at least 130°C for 75 s; a cooling process for cooling the food until the temperature of the food becomes a specific temperature; and a filling process for filling heated oil and fat to the food.
食品を少なくとも１３０℃で７５秒間加熱する加熱工程と、食品の温度が所定の温度となるまで冷却する冷却工程と、食品に対して加温油脂を充填する充填工程とを有することを特徴とする食品の無菌充填方法である。 - 特許庁 - The honeycomb structure layer 8 is formed through a casting process in which a polymer solution is cast on the web 12 to form a cast film, a bedewing process in which liquid droplets are formed in the cast film, and a solvent evaporation process in which voids are formed by evaporating the liquid droplets in the cast film.
ハニカム構造層８は、ウェブ１２上に高分子溶液をキャストしてキャスト膜を形成するキャスト工程と、キャスト膜の中に液滴を形成する結露工程と、キャスト膜中の液滴を蒸発させることによって空隙を形成する溶媒蒸発工程とから形成される。 - 特許庁 - The organic waste treatment method comprises an explosive crushing process performing explosive crushing treatment of the cellulose and lignin based high C/N ratio low moisture content waste and a methane fermentation process integrally performing methane fermentation treatment of the products produced from the explosive crushing process together with the night soil and garbage based low C/N ratio high moisture content waste.
セルロース・リグニン系高Ｃ／Ｎ比低水分廃棄物を爆砕処理する爆砕工程と、該爆砕工程の産出物を、別送された屎尿・厨芥系低Ｃ／Ｎ比高水分廃棄物とともに一体的にメタン発酵処理するメタン発酵工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁 - To take into consideration the operating hours of a particular process on a production line, where production is carried out as products with a plurality of specifications coexist, and to manage the production start time of the product with the specifications to be put into a specified process, so that the product reaches the process within the operating times thereof.
複数の仕様の製品を混在させて生産する生産ライン上の特定の工程の稼働時間を考慮し、その工程に投入すべき仕様の製品が稼働時間内にその工程に到着するように予めその仕様の製品の生産開始時刻を管理する。 - 特許庁 - The dehydrating device A comprises a heat chamber 3 for performing thermal dehydration process by heating the substrate 10 provided with at least the insulating layer, and a temperature-lowering chamber 4 for a temperature-lowering process where the temperature of the substrate 10 is lowered while keeping an atmosphere in a low dew point after the thermal dehydration process.
脱水装置Ａは、少なくとも前記絶縁層が配設された基板１０を加熱して加熱脱水処理を行う加熱室３と、前記加熱脱水処理後に雰囲気を低露点に保ちながら基板１０の温度を下げる降温処理を行う降温室４と、を備えてなる。 - 特許庁 - In the same process as this cutting process or in a subsequent process to this, a part of the front and rear faces 40b, 40b side continuing from the cutting face 40a out of the electrolyte membrane 21 is exposed to the front and rear face 40b, 40b side by removing the catalyst layer 42 formed on that one part.
この膜切断工程と同時あるいはそれよりも後の工程で、電解質膜２１のうちその切断面４０ａに連なる表裏面４０ｂ，４０ｂ側の一部を、該一部の上に形成された触媒層４２を除去することにより、表裏面４０ｂ，４０ｂ側に露出させる。 - 特許庁 - To provide a solid-state image pickup device where a process monitor can be arranged on an outer side of an image pickup element region without damaging performance of the process monitor required in a manufacture process and the image pickup element region can be reduced, and to provide a manufacturing method of the device.
製造工程中において必要とされるプロセスモニターの性能を損なうことなく当該プロセスモニターを撮像素子領域の外側に配置でき、これにより撮像素子領域の縮小化を図ることが可能な固体撮像装置、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain process progress management device and its method capable of automatically and continuously executing process progress management even when communication with a processing progress management computer is disabled or when the battery in an ID card runs out and automatically returning to normal process progress management when the system is restored from the failure.
処理進捗管理コンピュータとの通信不能時やＩＤカードの電池切れ時にも自動的に引き続き工程進捗を行い、故障回復時には自動的に正常な工程進捗管理に移行できる工程進捗管理装置及び工程進捗管理方法を得る。 - 特許庁 - A method for granulating a highly dehydrated cake comprises a granulating process of granulation by adding adequate water, cements, and one kind or two kinds or more of magnesium based solidifying agents to a highly dehydrated cake, and a sizing process of sizing by adding an auxiliary agent such as talc to the granulated product prepared in the granulating process.
高脱水ライムケーキに、適量の水とセメント類又はマグネシウム系固化剤の１種又は２種以上を加えて造粒する造粒工程と、該造粒工程で得られた造粒品にタルク等の補助剤を加えて整粒する整粒工程からなる高脱水ライムケーキの造粒方法。 - 特許庁 - The manufacturing method of the detecting surface includes (1) a first process for coating the surface of the substrate with a carbon-containing silicon oxide (SiOC); (2) a second process for masking only a prescribed region in the substrate; and (3) a third process for performing surface treatment so as to fix the substance for detection.
さらに、（１）基板表面を炭素含有酸化ケイ素（ＳｉＯＣ）で被覆する第一工程（２）基板の所定領域のみをマスクする第二工程（３）検出用物質を固定可能に表面処理する第三工程を含む検出表面の製造方法を提供する。 - 特許庁 - An occurrence time zone prediction part 310 predicts future resource usage of each process according to past resource usage of each process, and predicts a time zone where a process is not finished within a predetermined time owing to insufficient resource usage according to the prediction.
発生時間帯予測部３１０は各プロセスの過去のリソース使用量に基づいて各プロセスの将来のリソース使用量を予測し、予測結果に基づいてリソース使用量を確保できないために所定の時間内に終了しない非終了プロセスの発生時間帯を予測する。 - 特許庁 - To provide a process analysis program, a process analysis apparatus and an operation simulator apparatus therewith that can implement a process analysis of a system including a plurality of apparatus as to at least one of internal one- to three-dimensional mass transfers, chemical changes, state changes and phase behavior.
複数の装置を含む系に対する、内部の１〜３次元的な物質移動、化学変化、状態変化および相挙動の少なくとも１つを含むプロセス解析が可能なプロセス解析プログラムならびにプロセス解析装置およびそれを用いた運転シミュレータ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a prepreg containing an inorganic filler by which yield in a production process and an inspection process can be improved and process load can be reduced and to provide a metal foil-clad laminate excellent in resin surface appearance using the prepreg.
無機充填材を含有するプリプレグの製造方法において、製造工程や検査工程での歩留まりの向上や工程負荷の低減が可能となる製造方法、並びに、このプリプレグを用いた樹脂表面外観に優れる金属箔張積層板を提供する。 - 特許庁 - A property setting process part 6 inputs information on the property of input information from an input part 1 and information on a command from a command executing process part 5 and performs a process regarding the setting, alteration, etc., of the property specified to a CAD processing part 9.
プロパティ設定処理部６は、入力部１からの入力情報のうちのプロパティに関する情報やコマンド実行処理部５からのコマンドに関する情報を入力し、ＣＡＤ処理部９に対して指定されたプロパティの設定変更等に関する処理を施す。 - 特許庁 - After the optimum position adjustment of a hologram lens 2 is made as the first process (S1), the position of the hologram lens 2 is shifted by a preset correction quantity as the second process (S2), and the hologram lens 2 is fixed to a package 7 with an adhesive as the third process (S3).
１番目の工程としてホログラムレンズ２の最適位置調整を行った後に（Ｓ１）、２番目の工程としてあらかじめ設定した一定量の補正値だけホログラムレンズ２の位置をずらして（Ｓ２）、３番目の工程として接着剤でホログラムレンズ２をパッケージ７に固定する（Ｓ３）。 - 特許庁 - The laminate manufacturing method includes the process (1) of forming the insulating resin layer on the insulating substrate, the process (2) of forming the metal membrane on the insulating resin layer and the process (3) of forming the metal oxide to the interface of the metal membrane and the insulating resin layer.
及び、絶縁基板上に、絶縁性樹脂層を形成する工程（１）と、前記絶縁性樹脂層の上に金属薄膜を形成する工程（２）と、前記金属薄膜と前記絶縁性樹脂層との界面に金属酸化物を形成する工程（３）とを含む積層体の製造方法。 - 特許庁 - The method for manufacturing the cellulose ester film includes a peeling process for peeling the web W, which is formed by casting a dope of cellulose ester on a support 1, form the support 1, a drying process for drying the peeled web W and a taking-up process for taking up the film F obtained by drying the web W.
セルロースエステルのドープを支持体１上に流延することにより形成されたウェブＷを支持体１から剥離する剥離プロセス、剥離されたウェブＷを乾燥させる乾燥プロセスおよびウェブＷを乾燥させることにより得られたフィルムＦを巻き取る巻取プロセスを含む。 - 特許庁 - The method for manufacturing the dielectric material comprises a first process for heating amorphous fine-particle powder in air at the temperature of ≥230°C and <530°C to obtain an intermediate product; and a second process of heating the intermediate product obtained in the first process under reduced pressure at 700-1,000°C.
下記の無定形微粒子粉末を空気中２３０℃以上５３０℃未満で加熱して中間生成物を得る第１の工程と、第１の工程で得られた中間生成物を、減圧下７００℃以上１０００℃以下で加熱する第２の工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁 - Alternatively, the method comprises a process for forming a base film wherein the coefficient of linear expansion is smaller than the piezoelectric material, in a region where a piezoelectric material is not formed on the substrate; a process for forming a piezoelectric material film; and a process for exfoliating only a part to be peeled which is located on the base film in the piezoelectric material film.
または、基板上で圧電体を形成しない領域に、圧電体よりも線膨張係数が小さい下地膜を成膜する工程と、圧電体膜を成膜する工程と、圧電体膜のうちで下地膜上に位置する剥離部分のみを剥離する工程を備えた。 - 特許庁 - This cross section form observation method includes a process for forming a protective film on a specimen surface by a deposition method; a process for forming a protective film for working on the protective film by using a FIB; and a process for cutting the specimen with the protective film for working formed thereon by using the FIB to observe its cross section.
試料表面に蒸着法により保護膜を形成する工程と、前記保護膜上にＦＩＢを用いて加工用保護膜を形成する工程と、前記加工用保護膜の形成された試料をＦＩＢにより切断し、断面を観察する工程とを含む。 - 特許庁 - This control method for the horizontal axis wind mill 1 comprises a process (S2) for setting the reference rotation speed, a process (S5) for calculating the reference excess rate, and a process for controlling amount of driving of the driving device so that the reference excess rate is included in the specific scope (S6 to S7a).
水平軸風車１の制御方法において、基準回転速度を設定する工程（Ｓ２）と、基準超過率を算出する工程（Ｓ５）と、基準超過率が特定範囲内に含まれるように駆動装置の駆動量を制御する工程（Ｓ６〜Ｓ７ａ）と、を備える。 - 特許庁 - This personal identification method is provided with a process S7 for the visitor to carry a transmitter with him/her, a process S8 for receiving an ID signal/transmitting the ID signal and an existence signal and a process S9 for grasping the present position of the visitor by a host computer at least.
個人認証方法は、少なくとも、入場者による発信装置の持参工程Ｓ７と、ＩＤ信号受信/ＩＤ信号及び存在信号の送信工程Ｓ８と、ホストコンピュータによる入場者の現在位置の把握工程Ｓ９とを備えて構成されている。 - 特許庁 - In this method of manufacturing the liquid crystal display device, a strip process is disposed between a large plate process and a one-piece process, and an IC and a flexible circuit board are mounted to each of a plurality of one-piece liquid crystal panels constituting a strip-like liquid crystal panel, and a strip-like liquid crystal display module is prepared.
液晶表示装置の製造方法において、大板工程と単品工程の間に短冊工程を設け、短冊状の液晶パネルを構成する複数の単品状の液晶パネルに個々にＩＣとフレキシブル回路基板を実装して短冊状の液晶表示モジュールを作製する。 - 特許庁 - The method concerned includes the process of dispersing metal particles on the surface of an orifice plate forming the outlet port of the ink-jet head, the process of fusing the metal particles and the process of depositing the compound having a fluoride system substituent in a film on the surface of the metal particles.
インクジェットヘッドの吐出口を形成するオリフィスプレートの表面に、金属微粒子を分散させる工程と、前記金属微粒子を融着させる工程と、前記金属微粒子の表面上にフッ素系置換基を有する化合物を成膜する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The method for acquiring a body fluid sample from a patient includes a process for coating a needle with a sulfonated polyester, a process for penetrating the needle into the patient body, and a process for aspirating the body fluid through the needle.
また、一定の患者から一定の体液のサンプルを取得する方法は一定の針を一定のスルホン化ポリエステルにより被覆する工程、上記針を上記患者の体内に侵入させる工程、および当該針を通して体液を吸引により取り出す工程を含む。 - 特許庁 - This preprocessing method of prefix includes a process of degenerating a prefix length to a shorter prefix length, a process of developing the prefix length to a longer prefix length, and a process of storing a corrected prefix set obtained after performing the degeneration and development into a database.
本発明のプリフィックスの前処理方法は、プリフィックス長をより短いプリフィックス長に縮退する処理、プリフィックス長をより長いプリフィックス長に展開する処理、縮退及び展開を行った後に得られる修正プリフィックス集合をデータベースに格納する処理を含む。 - 特許庁 - The determination process includes a process for receiving identification information indicating one test image of a plurality of test images printed using the plurality of pattern sets from a user and a process for determining one pattern set corresponding to one test image on the basis of the identification information.
決定工程は、複数のパターンセットを用いて印刷された複数のテスト画像のうちの１つのテスト画像を示す識別情報をユーザから受け取る工程と、識別情報に基づいて１つのテスト画像に対応する１つのパターンセットを決定する工程と、を含む。 - 特許庁 - The film manufacturing method includes a process for coating a substrate with a composition containing the polyarylene (I) having the sulfonic acid group, and the organic solvent (II) to form the film, a process for peeling the formed film from the substrate and a process for stretching the peeled film.
本発明のフィルムの製造方法は、（Ｉ）スルホン酸基を有するポリアリーレンと、（ＩＩ）有機溶媒とを含む組成物を基体に塗布して製膜する工程、製膜されたフィルムを基体から剥離する工程および剥離したフィルムを延伸する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The resin sealing method includes a sealing process of sealing an electronic component 6 by supplying a resin to a substrate 5 having the electronic component 6 disposed thereon, and the sealing process includes a stencil plate disposing process for disposing a stencil plate 1 having a vent hole 2 on the upper part of the substrate 5.
樹脂封止方法は、電子部品６が配置されている基板５に対して樹脂を供給することにより、電子部品６を封止する封止行程を含み、封止行程は、基板５の上方に通孔２を有する孔版１を配置する孔版配置行程を含む。 - 特許庁 - The method for manufacturing includes a first ultraviolet irradiation process of irradiating the liquid crystal layer with ultraviolet rays in a wavelength region not including an infrared region and a second ultraviolet irradiation process of irradiating the liquid crystal layer with ultraviolet rays in a wavelength region wider than that in the first ultraviolet irradiation process.
赤外線領域を含まない波長領域の紫外線を照射する第１紫外線照射工程と、第１紫外線照射工程で照射される紫外線より波長領域の広い紫外線を照射する第２紫外線照射工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
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