To process a copper processed wafer and a non-copper processed wafer using an electron beam inspection apparatus, without copper contamination. ウェーハへの銅汚染なく銅プロセスウェーハと非銅プロセスウェーハを1台の電子線検査装置で処理する。 - 特許庁
To provide a method of producing lithium cobaltate powder having excellent properties in a simple production process and at a low cost. 製造プロセスがシンプルで、コストが安い、性質が優れるコバルト酸リチウム粉体製造方法の提供。 - 特許庁
In a 1st wiring process S20, a 1st wiring pattern is formed on one main surface of a glass substrate 10. 第1配線工程S20で、ガラス基板10の一主面上に第1配線パターンが形成される。 - 特許庁
There is no limitation of the substrate material, and consistency with a process which dislikes oxygen can be taken as well. 基板材料が限定されることもなく、酸素を嫌うプロセスとの整合性もとることができる。 - 特許庁
Also, the manufacturing process of semiconductor wafers is controlled on the basis of the accidental defects (β mode destruction) rate. また、その偶発不良(βモード破壊)率により、半導体シリコンウェーハの製造工程を管理する。 - 特許庁
In an insulating film I2, a second layer wiring W2 is formed by a dual damascene process. 絶縁膜I2内には、デュアルダマシンプロセスによって形成された第2層配線W2が形成されている。 - 特許庁
A contact hole already formed on a diffusion layer for body tie, when used in a bulk silicon process, is removed. バルクシリコンプロセスに使用した際にボディータイ用拡散層上に形成されていたコンタクト孔を削除する。 - 特許庁
Or a coding/decoding process part 10 is provided for coding the restriction information 6a for storage in a storage part. 或いは制限情報6aを符号化し記憶部に格納する符号復号化処理部10を設けた。 - 特許庁
Even upon a process variation, the saturation margin Vdsm_Q5 of the transistor Q5 thus remains unchanged. したがって、プロセス変動があった場合でも、トランジスタQ5の飽和マージンVdsm_Q5は変化しない。 - 特許庁
A computerization model which is a mathematical expression of a network restraining diagram of an unwrap bottle forming process is provided. アンラップボトル形成プロセスのネットワーク拘束図の数学的表現であるコンピュータ化モデルが備えられる。 - 特許庁
To provide a film that is subjected to knurling processing without causing film breaking and to provide a process for producing the film. フィルムを破断させることなくナーリング加工が施されたフィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a catalyst and a process for ammoxidating an unsaturated hydrocarbon to an unsaturated nitrile corresponding thereto. 不飽和炭化水素を対応する不飽和ニトリルにアンモ酸化する触媒及びプロセスを提供する。 - 特許庁
To provide a process for producing an olefin polymerization solid catalyst which gives a polymer having high stereoregularity. 立体規則性の高い重合体を与えるオレフィン重合用固体触媒の製造方法の提供。 - 特許庁
To economically process nitrogen oxide and ammonia in circulation fluidized bed gasification facilities. 循環流動層ガス化設備において、窒素酸化物及びアンモニアを経済的に処理できるようにする。 - 特許庁
To provide a method for producing hesperidin, which obtains hesperidin by an efficient process in a high yield. 能率的なプロセスでヘスペリジンを高い収率で得ることができるヘスペリジンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for producing a 4-substituted or unsubstituted tetrahydropyran-4-carboxylic acid compound or an ester compound thereof. 4-置換又は非置換テトラヒドロピラン-4-カルボン酸化合物又はそのエステル化合物の製法の提供。 - 特許庁
To provide a vinylcyclohexane production process capable of producing vinylcyclohexane in high yields. ビニルシクロヘキサンを高い収率で得ることができるビニルシクロへキサンを製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a white toner composition having desired characteristics including glossiness, and a process of manufacturing the toner composition. 光沢を含む望ましい特性を有する白色トナー組成物及びその製造プロセスを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a circuit board which effectively improves positioning accuracy in laser etching process. レーザーエッチング過程の位置決め精度を有効に向上させる回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the electrodeposition coating process, the coating film 3 is formed on the surface of the base material 2 by the electrodeposition coating. 電着塗装工程においては、基材2の表面に電着塗装によって塗膜3を形成する。 - 特許庁
Next, a photolithography process is used to remove selected areas of the photoresist material from the silica wafer. 次に、フォトレジスト材の選択された領域をシリカウエハから除去するために、フォトリソグラフィプロセスが用いられる。 - 特許庁
The communication data are repeated safely without a plain text appearing in a process to convert the communication data. 通信データを変換する過程で平文が出現することがなく、通信データを安全に中継できる。 - 特許庁
OBSERVATION METHOD FOR ULTRAVIOLET PHOTOLYSIS PROCESS IN MONOMOLECULAR FILM, CONTROL METHOD FOR SURFACE DECOMPOSITION DEGREE, AND PATTERNING METHOD 単分子膜の紫外線分解過程の観測方法、表面分解度の制御方法及びパターニング方法 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE USED FOR THE IMAGE FORMING APPARATUS, CLEANING DEVICE AND CLEANING BLADE 画像形成装置、前記画像形成装置に用いられるプロセスカ−トリッジ、クリ−ニング装置及びクリーニングブレード - 特許庁
For example, connection between a battery tab (terminal) 47 and a smart card is established by a cold welding process. 例えば、冷間溶接処理によりバッテリタブ(端子)47と上記スマートカード間の接続を確立する。 - 特許庁
To improve manufacturing efficiency of electronic components in the method of manufacturing electronic components including an aging process. エージング工程を行う電子部品の製造方法において、電子部品の生産効率を向上させる。 - 特許庁
This pin 50 does not come into contact with a wafer W when heating the wafer W as a process substrate. このピン50は,処理基板としてのウエハWを加熱する際にはウエハWに接触しない。 - 特許庁
ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND PROCESS CARTRIDGE OR ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME 電子写真感光体とその製造方法およびそれを搭載するプロセスカートリッジないし電子写真装置 - 特許庁
Due to the final annealing process, the tray is scarcely deformed, even when repeatedly charged into the oven. 最後の焼きなまし工程により、トレーはオーブンに繰り返し投入されても、歪みが生じにくくなる。 - 特許庁
The steelmaking dust comprises iron and the oxide as a main component, which are produced in a steelmaking process. 製鋼ダストは鉄鋼生成過程で生じる鉄およびその酸化物を主成分とするダストである。 - 特許庁
To provide a lithography apparatus for semiconductor processing for generating a mask-less pattern using a MDI process technique. MDIプロセス技法を使用してマスクレス・パターン生成用の半導体処理リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
A second adsorption vessel 24 is left as it is in the regeneration process and the exhaust state of a valve V_10 is continued. 第2の吸着槽24は再生工程のままであり、バルブV_10の排気状態が継続される。 - 特許庁
COPPER SULFIDE POWDER, MANUFACTURING PROCESS OF COPPER SULFIDE POWDER AND ANTISTATIC MATERIALS USING THE COPPER SULFIDE POWDER 硫化銅粉、硫化銅粉の製造方法及びその硫化銅粉を用いて得られる帯電防止機材 - 特許庁
To surely prevent developer leakage and to effectively refuse the parts of a used process cartridge. 現像剤漏れを確実に防止すると共に、使用済みのプロセスカートリッジの部品を有効に再利用する。 - 特許庁
The protective member 150 which protects the photoreceptor drum 7 of the process cartridge B is provided with notched parts 150A. プロセスカートリッジBの感光体ドラム7を保護する保護部材150に切り欠き部150Aを設ける。 - 特許庁
By repeating this process several times, a transparent electrode 10 is formed on the transparent glass substrate 7. この工程を複数回繰り返して透明ガラス基板7上に透明電極10を形成する。 - 特許庁
A server accepts the access request of the bid page from the terminal and the process of auction is started (S104). サーバは端末より入札ページのアクセス要求を受け入れ、オークションのプロセスが開始される(S104)。 - 特許庁
The support substrate 50 is used by being pasted to the processing substrate 10 in the process of manufacturing the semiconductor device. 支持基板50は、半導体装置の製造過程で加工基板10に貼り合わされて使用される。 - 特許庁
To provide a plastic optical fiber production system that performs efficient production control and strict process control. 効率的な工程管理と厳密な工程制御を行うプラスチック光ファイバの製造システム提供する。 - 特許庁
A water treatment process 600 includes the step of filtering suspension water SL2 to separate fine particles D as a cake DC. 水処理工程600では、懸濁水SL2から微細粒DをケーキDCとして濾過・分離する。 - 特許庁
The plasma processing apparatus 1 generates plasma under atmospheric pressure to process a glass substrate 12. プラズマ処理装置1は、大気圧下でプラズマを発生させ、ガラス基板12を処理するプラズマ処理装置である。 - 特許庁
To provide a treating method for decomposing dioxins at a waste gas flow process of a refuse incinerator. ごみ焼却炉の排ガス流通過程においてダイオキシン類を分解する処理方法を提供する。 - 特許庁
INJECTION MOLDING PROCESS SIMULATION METHOD AND APPARATUS, AND PRODUCTION OF RESIN MOLDED ARTICLE USING RESULT THEREOF 射出成形プロセスシミュレーション方法、装置およびその結果を用いた樹脂成形品の製造方法 - 特許庁
To provide a plasma display panel capable of preventing damage to a dummy address electrode during the manufacturing process. 製造工程中にダミーアドレス電極の損傷を防止できるプラズマディスプレイパネルを提供すること。 - 特許庁
The overlap value is used for determining a track spacing used in the self-servo writing process (88). オーバラップ値は、自己サーボ書込プロセスの際に用いられるトラック・スペーシングを決めるために用いられる(88)。 - 特許庁
A production method is so that a steel wire is produced by a slip type multistage wire drawing machine through a wet drawing process. スチールワイヤを多段スリップ型伸線機により湿式伸線する工程を経て製造する方法である。 - 特許庁
To provide a process for the desulfurization of petroleum effective for realizing efficient and inexpensive desulfurization. 効率よくかつ安価な脱硫を実現するのに有効な石油類の脱硫方法を提供する。 - 特許庁
To achieve improvement and the shortening of drying time in a drying process of food residues by a drying machine. 乾燥機による食品残渣物の乾燥工程に於いて乾燥時間の短縮向上が図れないか。 - 特許庁
The system for sensing the movement of the worked parts can be used together with an automatic stud welding machine and/or its process. 加工部品移動感知システムは、自動スタッド溶接機及び/又はプロセスと共に用いることができる。 - 特許庁
To provide a polyimide film which is excellent in punching properties and produces no burr or scrap in a punching process. フィルム加工時にバリや切りくずが発生せず、打ち抜き加工性に優れたポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁