「Process」を含む例文一覧(50000)

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  • To provide a seal frame in which an assembly process is reduced by giving the seal frame a sealing function in a molding process, or a coating process of an adhesion glass and coating work of a conductive film are made unnecessary by giving an antistatic function together with the sealing function, and an image display device using this seal frame.
    封止枠にその成形工程で封着機能を付与することにより、組立て工程を削減し、あるいは封着機能と共に帯電防止機能を付与することで、接着ガラスの塗布区低や導電性皮膜を塗布作業を不要とした封止枠とこの封止枠を用いた画像表示装置を提供する。 - 特許庁
  • A first mixing process for mixing the granular crude rubber with a solid chemical by a low temperature mixer and a second mixing process in which a liquid chemical is added into the rubber obtained in the first mixing process, and the mixture is mixed until the temperature of the mixture reaches at least room temperature are carried out by using the rubber kneading apparatus.
    顆粒状の生ゴムと固体薬品を低温ミキサーにより混合する第1の混合工程と、第1の混合工程により得られたゴムに、さらに液体薬品を添加し、少なくとも常温になるまでの間で混合する過程を有する第2の混合工程とを含むことを特徴とするゴム練り装置である。 - 特許庁
  • A manufacturing method for semiconductor device comprises a process for forming a cobalt layer 11 on the surface of a silicon layer 4, a process for heat-treating silicon layer and cobalt layer 11 at temperature range of 150°C to 300°C, and a process for heat treating the silicon and the cobalt layer 11 at 500°C to 800°C to be carried out in this order.
    半導体装置の製造方法は、シリコン層4の表面にコバルト層11を形成する工程と、150℃〜300℃の温度下でシリコン層及びコバルト層11を熱処理する工程と、500℃〜800℃の温度下でシリコン層及びコバルト層11を熱処理する工程とをこの順に含んでいる。 - 特許庁
  • This reference alignment method includes: a fitting process of fitting the reference alignment instrument to the predetermined part of the base part; a spot light radiating process of radiating spot light from the light source part; and an alignment process of aligning the end effector part so that the spot light is aligned with a target point.
    本発明の基準位置合わせ方法は、ベース部の所定部に基準位置合わせ具を取り付ける取り付け工程と、光源部からスポット光を照射するスポット光照射工程と、スポット光が目標点と一致するようにエンドエフェクタ部の位置合わせを行う位置合わせ工程と、を備えた構成を有する。 - 特許庁
  • The substrate material 10 can be manufactured by a method including the process of boring holes 11b on the thin plate 11, the process of attaching the adhesive 12 at least on part of one face of the thin plate 11 other than the holes 11b and the process of arranging a release sheet 13 over the adhesive 12 attached.
    この下地材10は、薄板11に孔部11bを穿孔する工程と、前記薄板11の片面の前記孔部11b以外の少なくとも一部に接着剤12を付着させる工程と、前記接着剤12上に離型シート13を配置する工程とを有する方法により製造できる。 - 特許庁
  • In a process forming the MOS device on the main face of a silicon wafer, before wafer processing by the process device (an etching device, an ashing processing device, a sputter device and a CVD device) using the plasma, an insulating film is previously formed on the wafer rear face and reduces damage to the device caused by the process device using the plasma.
    シリコンウェハ主面にMOSデバイスを形成するプロセスにおいて、プラズマを用いるプロセス装置(エッチング装置、アッシング処理装置、スパッタ装置、CVD装置)によるウェハ加工前に、予めウェハ裏面に絶縁膜を形成しておき、プラズマを用いるプロセス装置起因によるデバイスヘのダメージを低減する。 - 特許庁
  • And a process where the metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where a wiring part 8 is formed by a semi-additive method on the insulation layer 5 and a process where a resist image for processing the insulation layer 5 is formed and the insulation layer 5 is processed by wet etching according to the resist image are included in the method.
    そして、金属層5をフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層5上にセミアディティブ法により配線部8を形成する工程と、絶縁層5を加工するためのレジスト画像を形成し、当該レジスト画像に従ってウェットエッチングにより絶縁層5を加工する工程を含む。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the polarizer comprises a process (1) in which a solution containing a resin is changed into a film-shaped matter and then the film-shaped matter is immersed in a cooling solvent to obtain a gelled film, a process (2) in which a dichroism material is contained in the resin and a process (3) in which the gelled film is stretched.
    樹脂を含む溶液をフィルム状物とした後、当該フィルム状物を冷却溶媒中に浸漬してゲル化フィルムを得る工程(1)と、樹脂に二色性材料を含有させる工程(2)と、ゲル化フィルムを延伸する工程(3)と、を含有することを特徴とする偏光子の製造方法。 - 特許庁
  • To solve such a problem that production efficiency is low and production cost is high because the conventional sealing treatment method for an iron sintered material requires a resin impregnation process and an abrasive blasting process, and a large-scale apparatus and a large amount of equipment cost are required in order to improve the working environment because the working environment of the resin impregnation process is poor.
    従来の鉄系焼結材の封孔処理方法は、樹脂含浸工程とブラスト工程を必要としているため、生産効率が低く且つ生産コストがアップとなり、また樹脂含浸工程の作業環境は悪く、該作業環境を改善するためには大掛かりな装置と多額の設備費用を必要とする。 - 特許庁
  • The method for forming the copper wiring film is taken such that a process in which the first cooper film is heated within a temperature range of 200-500°C is set between the first copper-film forming process by the CVD method, and a process in which the second copper film is formed by the plating method using the first copper film as the electrode.
    CVD法による第一の銅膜形成工程と、当該第一の銅膜を電極としたメッキ法により第二の銅膜を形成する工程の間に、第一の銅膜を200〜500℃の温度範囲にて加熱する工程が設けられていることを特徴とする銅配線膜形成方法によって課題を解決した。 - 特許庁
  • The proper crimping process includes a setting process for setting the crimping conditions, based on the detected result in the space difference detecting process so that the interval (a total terminal pitch) between the outermost terminals of second terminals 18, after proper crimping, is the same size as the space (a total terminal pitch) between the outermost terminals of first terminals 17.
    本圧着工程には、間隔差検出工程での検出結果に基づいて、本圧着後における第2端子18最外端子間の間隔(トータル端子ピッチ)が、第1端子最外端子間17の間隔(トータル端子ピッチ)と同じ大きさになるように、圧着条件を設定する設定工程が含まれる。 - 特許庁
  • Scanning movement of the probe relative to the measuring point comprises a process for sending the probe at fixed intervals in the noncontact state with the sample by an XY fine-movement mechanism 29 or an XY stage 14 a process for bringing the probe close to the sample and into contact therewith at the measuring point, and a process for retreating the probe from the sample.
    測定点に関する探針の走査移動では、XY微動機構29またはXYステージ14によって、探針を試料と非接触状態にて一定間隔で送る行程と、測定点で探針を前記試料に接近・接触させる行程と、探針を試料から退避させる行程を行う。 - 特許庁
  • The aerosol-deposition process includes an aerosol forming process to form an aerosol by stirring particles of carbon black and a resin based material in a nitrogen atmosphere, and a spraying process to spray the particles of the carbon black and the resin based material which have been formed into the aerosol on the surface of the noble metal plated stainless steel.
    エアロゾルデポジション工程は、カーボンブラックおよび樹脂系材料の粒子を、窒素雰囲気中で撹拌することによってエアロゾル化するエアロゾル化工程と、エアロゾル化された前記カーボンブラックおよび樹脂製材料の粒子を、前記貴金属メッキされたステンレス鋼の表面に吹き付ける吹付工程と、を備える - 特許庁
  • This manufacturing method comprises: a process for forming the transfer body 10 containing an adhesiveness improvement substance; a process for forming the body 7 to be transferred which contains an adhesiveness improvement substance; and a process for forming the electroluminescent layer by executing a transfer method by using at least one of the transfer body 10 and the body 7 to be transferred.
    密着性向上物質を含む転写体10を形成する工程と、密着性向上物質を含む被転写体7を形成する工程と、前記転写体10または前記被転写体7の少なくとも1つを用いて、転写法を行い、エレクトロルミネッセンス層を形成する工程とを有する。 - 特許庁
  • The system for receiving production order of wafer comprises a client terminal of a device manufacturer and a client computer of a wafer manufacturer wherein the client terminal receives device fabrication process information and transmits it, and the client computer receives the device fabrication process information and selects a corresponding wafer production process.
    ならびにデバイスメーカのクライアント端末とウエーハメーカの顧客コンピュータから成り、前記クライアント端末はデバイス製造工程情報を入力され送信し、前記顧客コンピュータは前記デバイス製造工程情報を受信し、対応したウエーハ製造工程を選択する半導体ウエーハ製造の受注システム。 - 特許庁
  • To provide the manufacture of a glass enclosure which enables lower- temperature of shorter-time getter activation by making smaller the damage that a non-vaporizable type getter has at the time of sealing and which preferably allows a vacuum baking process, essential for a manufacturing process for a glass enclosure wherein a vacuum is maintained inside, to serve also as a getter activating process.
    非蒸発型ゲッタが封着時に受けるダメージを、より小さくして、より低温、または、より短時間のゲッタ活性化を可能とし、更に好ましくは、内部を真空維持するガラス外囲器の製造工程に不可欠な、真空ベーキング工程がゲッタ活性化工程を兼ねることができるガラス外囲器の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • This method for obtaining the resistivity distribution of the ground or the reclaimed land is characterized by comprising a preliminary measuring process for measuring a potential distribution of the ground or the reclaimed land and a calculation process for calculating the resistivity distribution of the ground or the reclaimed land based on the potential distribution measured in the preliminary measuring process.
    地盤又は埋立地の比抵抗分布を求める方法において、地盤又は埋立地の電位分布を測定する予備測定工程と、予備測定工程で測定した電位分布を基に地盤又は埋立地の比抵抗分布を算出する算出工程からなることを特徴とするものである。 - 特許庁
  • The stain growth-preventing method for the gas phase part in the oil quenching column includes a heat recovery process in a middle shelf of the column, and allows the presence of an effective amount of a polymerization inhibitor for preventing growth of the stain in a condensate of a process steam in the gas phase part of the oil quenching column in the process for manufacturing the olefins.
    塔中段に熱回収プロセスを有する、オレフィン類製造プロセスのオイルクエンチ塔の気相部において、プロセス蒸気の凝縮液中に汚れの成長を防止するための有効量の重合禁止剤を存在させることを特徴とするオイルクエンチ塔気相部の汚れ成長防止方法。 - 特許庁
  • The method for producing a beverage comprises a first process of subjecting untreated solution to filter sterilization to obtain filter-sterilized penetrated components and non-penetrated components, a second process of heat sterilization of the non-penetrated components, and a third process of mixing the heat-sterilized non-penetrated components with the penetrated components.
    本発明の飲料の製造方法は、未処理液を濾過除菌して、濾過除菌済の透過成分及び非透過成分を得る第1の工程と、前記非透過成分を加熱殺菌する第2の工程と、当該加熱殺菌済の非透過成分及び前記透過成分を混合する第3の工程と、を含む。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the molten siliceous refractory includes a slurry preparing process for preparing slurry containing a raw material solid portion composed of 95-99.9 wt.% molten silica powder and 0.1-5 wt.% boron nitride powder, a molding process for obtaining a molding from the slurry and a firing process for firing the molding at 1,050-1,250°C.
    溶融シリカ粉末95〜99.9重量%及び窒化硼素粉末0.1〜5重量%からなる原料固形分を含むスラリーを生成するスラリー生成工程、該スラリーから成形体を得る成形工程、及び該成形体を1050〜1250℃で焼成する焼成工程を含む溶融シリカ質耐火物の製造方法。 - 特許庁
  • The unevenness defect detecting method has an unevenness component emphasizing processing process for applying an unevenness component emphasizing filter to each of the pixels of a photographed image to emphasizing unevenness components and an unevenness defect detecting process for detecting the uneven defect on the basis of the unevenness components emphasized value of each of the pixels obtained in the unevenness component emphasizing processing process.
    ムラ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してムラ成分強調フィルタをかけてムラ成分を強調するムラ成分強調処理工程と、前記ムラ成分強調処理工程で得られた各画素のムラ成分強調値に基づいてムラ欠陥を検出するムラ欠陥検出工程とを有する。 - 特許庁
  • This method for detecting frame synchronization contains a phase shift process of generating L sample signal groups in which each phase of the sample signal groups is shifted by π/2L (L: a positive integer of 2 or more), and a determination process and detection process are performed for each of the thus-generated L sample signal groups to detect the synchronous word and symbol timing.
    サンプル信号群をπ/2L(Lは、2以上の正の整数)ずつ位相をずらしたL個のサンプル信号群を生成する移相処理を含み、このように生成されたL個のサンプル信号群の各々に対して判定処理及び検出処理を行い、同期ワード及びシンボルタイミングを検出する。 - 特許庁
  • This method for producing a fish processed food is characterized by comprising a process of doing in an arbitrary order each step of bringing fish with skin to chips and of boiling well or steaming the fish, and a process of heating and drying the fish subjected to the former process in a seasoning liquid containing Chinese rice wine.
    魚肉加工食品の製造方法であって、皮付きの魚肉を、細片化する工程、煮熟又は蒸煮する工程の各工程を任意の順序で行う工程、及び該工程を経た魚肉を、老酒(ラオチュウ)を含む調味液中で加熱乾燥する工程を含むことを特徴とする魚肉加工食品の製造方法。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the compressed wood product includes: a compression process for compression-molding wood into a three-dimensional shape; and a synthetic resin part forming process for arranging the wood compressed in the compression process in an injection mold and a synthetic resin is injection-molded to form a synthetic resin part having a predetermined shape on the surface of the wood.
    木材を3次元形状に圧縮成形する圧縮工程と、前記圧縮工程で圧縮した木材を射出成形金型内に配置し、合成樹脂を射出成形することによって前記木材の表面に所定の形状をなす合成樹脂部を形成する合成樹脂部形成工程と、を有する。 - 特許庁
  • This blank is produced by adopting a spray forming method consisting substantially of a process for vacuum-melting an Fe-Ni base base material at a temp, exceeding a liquids line temp., a process for gas-atomizing the resultant molten metal with gaseous N2 and a process for depositing the atomized molten drop in a half-solidified state.
    実質的に、Fe−Ni基母材を液相線温度を越える温度に真空溶解する工程と、その溶解した溶湯をN_2ガスによりガスアトマイズする工程と、そのアトマイズされた溶滴を半凝固状態で堆積させる工程からなる、スプレーフォーミング法を適用するFe−Ni基シャドウマスク用素材の製造方法である。 - 特許庁
  • The manufacturing method for the harness includes a branching process for forming a branched portion of the harness by branching some electric wires from the main line of the harness consisting of a bundle of plural electric wires, and a winding process for winding transparent tapes with center lines crosswise around two crotches which are formed between the main line and the branched lines after the branching process.
    ハーネス製造方法は、複数の電線の束からなるハーネスの本線から一部の電線を分岐させてハーネスの分岐部を形成する分岐工程と、分岐工程後、本線と分岐させた線との間に形成される2ヶ所の股部に、中心線の入った透明テープをたすき掛けに巻き付ける巻付工程とを含む。 - 特許庁
  • A voltage vibration system is constituted including a sensor panel or sensor conductor array, a shield plate, a signal process circuit, and a ground and a current, and a ground signal process of electric vibration (AC signal) received equivalently from a conductor to be detected through electrostatic coupling is performed and the process result is transmitted to a non-vibration system through an isolator 15.
    センサーパネルまたはセンサー導体アレイ、シールド板、信号プロセス回路、グランド及び電流をも含めて電圧振動系を作り、静電容量結合を介し被検出導電体から等価的に受信する電気振動(AC信号)を対グランド信号プロセスし、処理結果をアイソレータを介し非振動系へ伝える。 - 特許庁
  • The microorganism culture sheet is produced by a process for printing a frame with UV foam ink on a substrate sheet, a process for forming a medium solution layer in the frame and drying the medium solution to form a medium layer, and a process for irradiating the frame with UV and foaming the foam ink to form a frame layer.
    基材シートの上に、UV発泡インキで枠型を印刷する工程、前記枠型内に、培地溶液層を形成し、前記培地溶液を乾燥して培地層を形成する工程、および前記枠型にUVを照射して前記発泡インキを発泡させて枠層を形成する工程とによって製造することができる。 - 特許庁
  • To provide glass for forming a resistor which adequately controls phase splitability, the glass satisfying the following requirements: (1) closely packed sintering in a hot press process, (2) easy deformation in the hot press process, and (3) prevention of occurrence of defective conditions after the hot press process, that is, inconsistency in resistance values among resistors.
    分相性を適正に制御し得る抵抗体形成用ガラスを創案することにより、(1)ホットプレス工程で、緻密に焼結すること、(2)ホットプレス工程で、容易に変形すること、(3)ホットプレス工程後に、抵抗体の抵抗値がばらつく不具合を防止できること等の要求特性を満たすこと。 - 特許庁
  • To provide a cleaning device capable of realizing a compact cleaning container and a compact process cartridge even when the amount of developer to be stored in the cleaning container is increased due to that the service life of the process cartridge is extended, and to provide a process cartridge and an image forming device equipped with the cleaning device.
    プロセスカートリッジの長寿命化によってクリーニング容器内に収容しなければならない現像剤量が増加してもなお、コンパクトなクリーニング容器及びプロセスカートリッジを実現することができるクリーニング装置及びこのクリーニング装置を備えるプロセスカートリッジ並びに画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • Edited moving image data is made not an object for the dubbing process complying with the moving data being edited for which the dubbing process is incomplete among the specified moving data before the dubbing process for recording the plurality of specified moving data to another recording medium is finished, among a plurality of recorded image data recorded to a certain recording medium.
    ある記録媒体に記録された画像データのうち、指定された複数の動画データを、他の記録媒体に記録するダビング処理が終了する前に、指定された複数の動画データのうちダビング処理が未完了の動画データが編集されたことに応じて、編集された動画データをダビング処理の対象でなくす。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the polarizing plate of this invention comprises; a process for forming a multi-layer bright film consisting of a transparent resin layer and a thermoplastic resin layer by extruding the transparent resin and the thermoplastic resin together; a process for laminating the multi-layer bright film and a polarizer; and a process for removing the thermoplastic resin layer.
    本発明の偏光板の製造方法は、透明樹脂と熱可塑性樹脂とを共押出して透明樹脂層と熱可塑性樹脂層と有する多層透明フィルムを形成する工程と;多層透明フィルムと偏光子とを積層する工程と;熱可塑性樹脂層を剥離する工程とを含む。 - 特許庁
  • To provide a method of carrying out a recoating process (ultraviolet- curing process for ultraviolet-ray curing resin) efficiently without increasing the entire working time for fiber splicing, in the process in which plural optical fibers comprising a bundle are fusion-spliced to each other, with the jointed part recoated.
    複数の光ファイバを束ねた光ファイバ束の各光ファイバ同士を融着接合し、各接合部を再被覆する工程において、再被覆の工程(紫外線硬化樹脂の紫外線硬化処理)を効率良く、またファイバ接続の作業時間全体も増加させることなく行う方法を提供しようとするものである。 - 特許庁
  • To provide a processor capable of carrying out a series of processes including a resist application and a development process after exposed for a processing substrate at a high throughput including the pre-process and the post-process, and to provide another processor capable of additionally reducing a foot-print as much as possible.
    被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像処理を含む一連の処理を、その前工程および後工程を含めて高スループットで行うことができる処理装置を提供すること、およびこれに加えて、フットプリントを極力小さくすることができる処理装置を提供すること。 - 特許庁
  • The etching method includes a first process which arranges droplets including a thin film forming material on a substrate, a second process which dries the droplets and forms a dry film of a narrower width than a diameter of the droplets at arrangement described above, and a third process to etch using the dry film as an etching protective film.
    本発明は、基板上に膜形成材料を含む液滴を配置する第1工程と、前記液滴を乾燥し、前記配置時の液滴の径よりも狭い幅の乾燥膜を形成する第2工程と、前記乾燥膜をエッチング保護膜としてエッチングする第3工程と、を含むエッチング方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁
  • Besides, for similar purposes, the high frequency circuit having the dielectric resonator is produced by a process for forming the high frequency transmission line on the substrate, a process for forming the hole or the hollow portion partially on the substrate and a process for embedding the dielectric resonator in the hole formed on the surface of the substrate.
    また、同様の目的で、基板に高周波伝送線路を形成する工程と、基板に部分的に穴部または中空部を形成する工程と、基板表面に形成された穴部に誘電体共振器を埋設する工程とにより誘電体共振器を有する高周波回路を製造する。 - 特許庁
  • This method for manufacturing a multilayer printed wiring board comprises a process (a) for molding a multilayer printed wiring board by disposing multilayer insulating layers and multilayer wiring conductive layers, a process (b) for carrying out necessary circuit working, and a process (c) for forming a plurality of non-through holes at the disconnection scheduled sites of the outermost insulating layer.
    本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、以下の工程を含んでいる: (a)多層の絶縁層と多層の配線導体層とを配して多層プリント配線板を成形する工程; (b)必要な回路加工を施す工程; (c)最外層の絶縁層の切断予定部位に複数の非貫通孔を形成する工程。 - 特許庁
  • A document file related to a process is managed by an object-oriented model having a document file management class for managing the document file related to the process, a correction data extraction class for extracting correction data, and a document file update class for updating the document file related to the process.
    プロセスに係る文書ファイルを管理する文書ファイル管理クラスと、加筆データを抽出する加筆データ抽出クラスと、プロセスに係る文書ファイルを更新する文書ファイル更新クラスとを有するオブジェクト指向モデルによりプロセスに係る文書ファイルを管理することによって上記課題を解決する。 - 特許庁
  • To provide a photographic processing apparatus in which at least one process of development, bleaching, fixing, cleaning or the like is carried out by introducing a photosensitive material such as photographic paper into tanks and immersing the material in a process liquid, and in particular, to reduce waiting time until outputting the first sheet and to prevent process irregularity.
    印画紙などの感光材料が槽内に取込まれ、処理液に浸漬されることで、現像・漂白・定着・洗浄などの内の少なくとも1つの処理を行うようにした写真処理装置において、1枚目を出力するまでの待ち時間を短縮するとともに、処理むらの発生を防止する。 - 特許庁
  • To enable semiconductor devices to be mass-produced through a manufacturing process of a semiconductor device in which a small-diameter semiconductor wafer is used as a substrate as well as through a manufacturing process of a semiconductor device, in which a large-diameter semiconductor wafer is used as a substrate in a manufacturing process of a semiconductor device using semiconductor material dissimilar from silicon.
    シリコンとは異種材料の半導体材料を利用した半導体装置を製造する工程において、小口径半導体ウェハを基板とする半導体装置の製造工程を、大口径シリコンウェハを基板とする半導体装置の製造工程と同程度に、半導体装置を量産する。 - 特許庁
  • Moreover, the rotating carrier body 17 is attached to a process cartridge 7 which has an image carrier 8 and is provided attachably and detachably to a device main body 101 so that the rotating carrier body 17 can also be detached from the device main body 101 with the process cartridge 7 when the process cartridge 7 is dismounted.
    また、像担持体8を備え、かつ装置本体101に着脱可能に設けられたプロセスカートリッジ7に搬送回転体17を取り付けることにより、プロセスカートリッジ7を取り外すと、プロセスカートリッジ7と共に搬送回転体17も装置本体101から取り外すことができるようにする。 - 特許庁
  • This method for recovering the PHA from the biological cells includes the following processes: a process for crushing the biological cells containing the PHA to give a crushed product; another process for separating the crushed product into a water-soluble fraction and a water-insoluble fraction; and the other process for treating the water-insoluble fraction with an oxidizing agent.
    ポリ-3-ヒドロキシアルカン酸を含有する生体細胞を破砕して破砕物を得る工程と、該破砕物を水溶性画分と水不溶性画分とに分離する工程と、該水不溶性画分を酸化剤で処理する工程とを含むことを特徴とする生体細胞からのポリ-3-ヒドロキシアルカン酸の回収方法。 - 特許庁
  • The printed circuit board includes a through hole for mounting components with leads, a soldering part for effecting a soldering process and a process for effecting additional soldering on the soldering part or a part of the components with leads to effect the additional soldering while indicating the number of a process of additional soldering or a line by silk.
    プリント基板は前記リード部品を実装する貫通穴と半田処理を行う半田付け部を有し、前記リード部品の一部の半田付け部に追加半田を行う工程を有し、前記追加半田を行う前記リード部品の前記半田付け部近傍に、追加半田の工程の番号または線をシルク表示し、追加半田を行う。 - 特許庁
  • When constituting the observing apparatus of a screen-printing process, a printed object is so constituted out of a glass substrate 11 having a transparency as to provide a printing-process photographing camera 14 for photographing through the glass substrate 11 the filling process of a solder paste 17 which is filled into a printing opening 10a of a metal mask 10 (screen mask).
    スクリーン印刷過程の観察装置を構成するにあたって、被印刷物を透過性を有するガラス基板11により構成し、メタルマスク(スクリーンマスク)10の印刷開口10a内に充填されるソルダペースト17の充填過程をガラス基板11を透して撮像する印刷過程撮像カメラ14を備える。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the semiconductor device comprises a process wherein a silicon oxide film 5 is formed on a semiconductor substrate 1; a process wherein a tantalum oxide film 6 is formed on the silicon oxide film 5; and a process wherein by applying IC source power by using gas containing F and etching gas containing O_2 by an IE method, the tantalum oxide film 6 is selectively processed.
    半導体基板1上にシリコン酸化膜5を形成する工程と、このシリコン酸化膜5上に酸化タンタル膜6を形成する工程と、RIE法により、Fを含むガス及びO_2を含有するエッチングガスを用い、ICPソースパワーを印加して、前記酸化タンタル膜6を選択的に加工する工程とを具備する。 - 特許庁
  • The one-chip microcomputer 10 is provided with a first process recognizing that the graphic controller 12 finishes production of lithographic data of one screen of the DISP based on the action parameter and a second process in which an action starts after the recognition by the first process and the action parameter is written on the graphic controller 12.
    グラフィックコントローラ12が、動作パラメータに基づいて液晶ディスプレイDISPの一画面分の描画データを生成し終えたことを認識する第1処理と、第1処理による認識後に動作を開始し、グラフィックコントローラ12に対して動作パラメータを書き込む第2処理とがワンチップマイコン10に設けられている。 - 特許庁
  • To provide a resist underlayer film material having an optimum n value and k value in exposure to short-wavelength light, excellent also in etching resistance under substrate etching conditions, and having promise as a resist underlayer film for a multilayer resist process such as a silicon-containing two-layer resist process or a three-layer resist process using a silicon-containing intermediate layer film.
    短波長の露光において、最適なn値、k値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有2層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層膜による3層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁
  • The two-color molding method has a partition process for partitioning/forming a primary space 4 by a movable block, a primary injection process for injecting the primary thermoplastic material J1 into the primary space, and a secondary injection process for injecting the secondary thermoplastic material J2 into a secondary space 5 formed by evacuating the movable block from a cavity 3.
    可動ブロックによって1次空間4を仕切形成する仕切工程と、1次空間に1次熱可塑性材J1を射出する1次射出工程と、可動ブロックをキャビティ3内から退避させることで形成される2次空間5に、2次熱可塑性材J2を射出する2次射出工程とを有する。 - 特許庁
  • The useful substance-containing and growth-stopped or -suppressed cereal seeds are preserved just as they are until the seeds are fed to a succeeding cooking process, and thereby an appropriate amount of the germinated cereal seeds can be supplied to the rice cooking process as the succeeding process in a mass of or in succession of a necessary amount thereof.
    有用な物質を含んで生長の停止または抑制された禾穀類種子は、次の炊飯工程に移るまでそのままの状態に保存されるため、適量の発芽した禾穀類種子を必要な量だけまとめて、または必要な量を連続して次工程である炊飯工程に供給していくことができる。 - 特許庁
  • This method comprises a process for registering a caller at the time of calling a start page, a process for registering the information page of an information provider directly or indirectly called from the start page by the user, and a process for generating display capable of recognizing the order of the information pages of the information provider called by the user.
    開始ページの呼出しの際に利用者を登録する過程と、利用者により直接的又は間接的に開始ページから呼出された情報提供者の情報ページを登録する過程と、利用者により呼出された情報提供者の情報ページの順序を認識可能にする表示を発生する過程とを含む。 - 特許庁
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