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＜前へ 1 2 .... 833 834 835 836 837 838 839 840 841 .... 999 1000 次へ＞- Since the support is wound around the core without waving on the outer circumference thereof, the occurrence of uneven coating, creases, inaccurate width, and the like, can be prevented in the process for coating on the wound support, calendaring process, and cutting process resulting the enhancement of product yield and reliability.
この結果、巻回された支持体の外周部に山や谷が形成されず、巻回された支持体を送り出して行われる塗布工程、カレンダ工程、裁断工程において塗り付けムラ、シワの発生、幅精度不良等の発生を未然に防止でき、製品の歩留りや信頼性を向上させることができる。 - 特許庁 - That is, when the ECU emulator or each physical device simulator is called as a logical process, any critical path is not created, and each logical process is executed in parallel as much as possible, and even when any input event is not delivered in each logical process, the input is predicted, and the processing is advanced.
すなわち、ここで、ＥＣＵエミュレータや各物理装置シミュレータを論理プロセスと呼ぶことにすると、本発明によれば、クリティカル・パスを作らずに、各論理プロセスをできるだけ並列に実行させるために、各論理プロセスにおいて、入力イベントが届いていない場合でも、入力を予測して処理が進められる。 - 特許庁 - The control process portion 13 performs the process of expanding the pass band by increasing the first cut-off frequency or by decreasing the second cut-off frequency according to the relation of the magnitude of the frequencies of noise signals and ripple signals, so that the ripple signals are contained in the pass band in the optimization process.
制御処理部１３は、最適化処理の過程で、通過帯域にリップル信号が含まれるように、ノイズ信号とリップル信号の周波数の大小関係に応じて、第１カットオフ周波数を上昇させることにより、又は、第２カットオフ周波数を低下させることにより、通過帯域を拡げる処理を行う。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the reactor including at least a first process of storing and fixing the reactor core 2 having a coil 3 in a housing 1 and a second process of impregnating the inside of the housing 1 with a silicone resin and curing it, at least the reactor 2 is preheated prior to the first process.
ハウジング１内にコイル３を具備するリアクトルコア２を収容固定する第１の工程と、次いで、ハウジング１内にシリコーン樹脂を含浸硬化させる第２の工程と、を少なくとも具備するリアクトルの製造方法において、第１の工程に先行して、少なくともリアクトルコア２を予熱しておくものである。 - 特許庁 - The method for sputtering includes a first process (S02) to form a film having high resistivity by sputtering on a shield member disposed near the target, a second process (S03) to dispose a substrate to face the target and a third process (S04) to form, using the target, a dielectric film on the substrate by sputtering.
このスパッタリング方法は、スパッタリングでターゲットの近傍に配置されたシールド部材に高比抵抗膜を形成する第１の工程（Ｓ０２）と、基体をターゲットに対向させて配置する第２の工程（Ｓ０３）と、スパッタリングでターゲットにより基体上に誘電体膜を形成する第３の工程（Ｓ０４）とを含む。 - 特許庁 - The film deposition method for depositing a film on a substrate to be treated includes a first process wherein a first film is deposited by ALD method on an insulation layer formed on the substrate to be treated, and a second process wherein a second film is deposited by CVD method uninterruptedly after the first process.
被処理基板上に成膜を行う成膜方法であって、前記被処理基板上に形成された絶縁層上にＡＬＤ法で第１の成膜を行う第１の工程と、当該第１の工程と連続して、ＣＶＤ法で第２の成膜を行う第２の工程と、を有することを特徴とする成膜方法。 - 特許庁 - This feeding method of carbon dioxide to plants comprises a carbonated water producing process of producing carbonated water through supplying carbon dioxide and water to an inline mixer placed between water supply pipes, and a carbonated water spraying process of spraying carbonated water produced in the carbonated water producing process into a greenhouse or plants in a greenhouse.
給水配管に介装されたインラインミキサーに炭酸ガスと水を供給して炭酸水を製造する炭酸水の製造工程と、この炭酸水の製造工程で製造された炭酸水をハウス内あるいはハウス内の植物へ噴霧する炭酸水の噴霧工程とで植物への炭酸ガスの供給方法を構成している。 - 特許庁 - The photoelectric conversion layer 4 can be formed through a process obtaining aggregate particles by aggregating particles of electron transport material, a process carrying dye in the aggregate particles, and a process dispersing the aggregate particles carried with dye into a dispersion medium and obtaining the composition for forming the photoelectric conversion layer.
この光電変換層４は、電子輸送材料の粒子を集合させて集合粒子を得る工程と、集合粒子に色素を担持させる工程と、色素を担持させた集合粒子を分散媒中に分散させ、光電変換層形成用組成物を得る工程とを経ることにより形成することができる。 - 特許庁 - The method has a first process of causing a liquid containing a first catalyst to permeate into a silica type coat formed on a substrate and a second process of hardening the coat after the treatment of the first process to obtain a silica type hardened coat.
上記課題を解決する本発明のシリカ系硬化被膜の形成方法は、基板上に形成されたシリカ系被膜内部に第１の触媒を含有する液体を浸透させる第１工程と、第１工程の後にシリカ系被膜を硬化してシリカ系硬化被膜を得る第２工程とを有するものである。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a flash memory device which can solve problems in small process margin and mass production margin in the existing process, while completely stripping a fence of dielectric layer in a gate formation process in which a thickness of a second conductive film used as a floating gate is over 1500 Å.
フローティングゲートとして用いられる第２導電膜の厚さを１５００Å以上に適用するゲート形成工程で誘電体膜のフェンスを完全除去しながら、既存工程の工程時間及び量産性マージンが足りないという問題点を解決することが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To normally process a file selected by a user even when these recording apparatus, reproduction apparatus and file management method are applied to process a movie file recorded, for example, in a Quick Time format and a file that is difficult to normally process is recorded on a recording medium.
本発明は、記録装置、再生装置、ファイル管理方法に関し、例えばＱｕｉｃｋ Ｔｉｍｅ形式で記録したムービーファイルの処理に適用して、正常に処理困難なファイルが記録媒体に記録されている場合でも、ユーザーの選択したファイルについては正常に処理することができるようにする。 - 特許庁 - To provide an automation system for batch type production process which stocks materials to one or a plurality of devices under reaction and/or non-reaction, and can efficiently produce under efficient automatic control which controls using a simple program and simple system technique batch type production process hard to make progress uniform in a conventional process.
原料を反応及び／又は非反応下に単独、複数の装置に仕込み、従来から工程的に一様に進捗させ難い回分式製造プロセスを簡便なプログラム・システム手法で、効果的な自動制御下に効率よく製品化できる回分式製造プロセスの自動化システムを提供する。 - 特許庁 - From the cache buffer of a file system registered in a queue where data are written, the data are written to an external storage device by a demon process, and the releasing operation of the cache buffer whose data are written from the queue is performed by the demon process so that the cache buffer can be used by another process.
データが書き込まれ、キューに登録されたファイルシステムのキャッシュバッファに対し、デーモンプロセスによってデータを外部記憶装置に書き出すと共に、デーモンプロセスにより、データを書き出したキャッシュバッファのキューからの解放動作を実施することにより、他のプロセスがこのキャッシュバッファを利用することが可能となる。 - 特許庁 - The method for treatment of gas emissions from cement production characteristically comprises collecting dust from gas emissions from a cement production process, injecting the collected dust in a clinker crushing process after a cement baking process, and reducing a concentration of volatile metal in the gas emissions which are released out by injecting the dust in the crushed clinker.
セメント製造工程の排ガスからダストを捕集し、この捕集した集塵ダストを、セメント焼成後のクリンカ粉砕工程に投入し、またはクリンカ粉砕物に投入することにより、外部に放出される排ガス中の揮発性金属成分の濃度を低減することを特徴とするセメント製造排ガスの処理方法。 - 特許庁 - Thus, it is prevented that the gate electrodes 7a, 7b are damaged by plasma emission by placing the metallic films 9a, 9b on the gate electrodes 7a, 7b in a way of covering them even in the case of performing a metallic wire forming process attended with plasma emission, a passivation film forming process, and an etching process.
このように、ゲート電極７ａ、７ｂの上を覆うように金属膜９ａ、９ｂを配置すれば、プラズマ照射を伴う金属配線の形成工程、パッシベーション膜の形成工程およびエッチング工程を行ったとしても、プラズマ照射によりゲート電極７ａ、７ｂがダメージを受けることを防止することができる。 - 特許庁 - A preparation process of an acylated cellulose nitrate comprises a reaction step wherein a cellulose nitrate is allowed to react with an acylating agent such as acid halide or the like in a reaction solvent in the presence of a catalyst such as a tertiary amine or the like and a purification process wherein the reaction solution obtained in the reaction process is purified with water and a purification solvent.
アシル化硝酸セルロースの製造方法は、反応溶媒中で第三級アミン等の触媒の存在下に、硝酸セルロースと酸ハロゲン化物等のアシル化剤とを反応させる反応工程と、その反応工程で得られた反応液を水と精製溶媒とにより精製を行う精製工程とよりなる。 - 特許庁 - To provide a liquid injection head contributable to the realization of high density, and capable of avoiding even structural breaking of a substrate, by forming wiring between a pressure generating means and itself by a metallic thin film forming process and a photolithography process, without directly making a driving circuit in the substrate by a semiconductor process.
半導体プロセスで直接基板に駆動回路を作り込むことなく金属薄膜形成工程及びフォトリソグラフィ工程により圧力発生手段との間の配線を形成することで高密度化に資することができ、また基板の構造破壊も回避し得る液体噴射ヘッドを提供する。 - 特許庁 - The method for disposing of the products has (a) a process for recovering unnecessary products to a recovering station installed in each prescribed local area, (b) a process for delivering the products to a disposal station from the recovering station and (c) a process for disposing of the products at the disposal station.
（ａ）不要になった製品を、所定の地域ごとに設置された回収ステーションに回収する工程と、（ｂ）前記製品を前記回収ステーションから廃棄ステーションへ配送する工程と、（ｃ）前記製品を前記廃棄ステーションで廃棄処理する工程とを有することを特徴とする製品の廃棄方法。 - 特許庁 - Not only the data path part 15 can be controlled in high speed by FSM 14, but also the data path part 15 can be controlled by a program of P command in a different process from the process set in FSM 14, and then system LSI which can flexibly change VU 1 process can be provided.
ＦＳＭ１４によりデータパス部１５を高速で制御できると共に、Ｐ命令によりプログラムでデータパス部１５をＦＳＭ１４に設定されている処理手順と異なる手順で制御することも可能となり、ＶＵ１の処理も柔軟に変更することができるシステムＬＳＩを提供することができる。 - 特許庁 - A manufacturing method for a semiconductor device is provided with the process of forming the amorphous silicon on a gate insulating film, the process of introducing acceptor impurities to be the acceptors and crystal growth suppression impurities suppressing the growth of the crystal to the amorphous silicon and the process of crystallizing the amorphous silicon and forming p-type polycrystalline silicon.
前記ゲート絶縁膜上にアモルファスシリコンを形成する工程と、前記アモルファスシリコンに、アクセプタとなるアクセプタ化不純物と、結晶粒の成長を抑制する結晶成長抑制不純物を導入する工程と、前記アモルファスシリコンを結晶化させ、前記ｐ型多結晶シリコンを形成する工程とを含む。 - 特許庁 - To provide an improved method for forming a multi-layered coating film capable of dispensing with a heat-curing process after coating with an electrodeposition paint from the process saving view point and capable of forming the multi-layered coating film having an excellent finished appearance to coating with an electrodeposition paint and a solvent type paint by a wet-on-wet process.
省工程の観点から電着塗料塗装後の加熱硬化工程を省くことができ且つ優れた仕上がり外観の複層塗膜を形成せしめることができる、電着塗料及び溶剤型塗料をウェット・オン・ウェットで塗装するための改良された複層塗膜形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises a process of preliminary charging the uncharged battery in which a power generation element comprising a positive electrode, a negative electrode, a separator, and a non-aqueous electrolytic solution is housed in an outer package member, a process of pressurizing the battery of preliminary charging by a high pressure gas, and a process of finally charging the battery after pressurization.
外装部材に正極、負極、セパレータおよび非水電解液を有する発電要素を収納した未充電の電池を予備充電する工程と、前記予備充電の電池を高圧力の気体により加圧する工程と、加圧後の電池を本充電する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - This soil improvement method includes: a process of establishing a plate-like support basement 8 on the surface layer part 3 below the surface of the sea 1; a process of supporting leg 7 of the work plant (offshore workbench or offshore platform) 2 by the support basement 8; and a process of improving the ground 30 below the support basement 8.
水面（海面）（１）下方の地盤の表層部（３）に平板状の支持基盤（８）を造成する工程と、該支持基盤（８）により作業施設（海上作業台或いは海上作業台船等）（２）のレグ（７）を支持する工程と、前記支持基盤（８）下方の地盤（３０）を改良する工程、とを有することを特徴としている。 - 特許庁 - An evaluation method has a process obtaining correlation of parameter indicating irradiation damage and hardness of a material identical to a member receiving irradiation, a process measuring the hardness of the member after exposed to radiation, and a process obtaining a parameter value of the member from the hardness of the member after exposed to the radiation and the correlation.
照射を受ける部材と同等の材料について、照射損傷を表すパラメータと硬さとの相関関係を求める工程と、部材の放射線照射後の硬さを測定する工程と、部材の放射線照射後の硬さと相関関係とから当該部材のパラメータの値を求める工程と、を有する。 - 特許庁 - To provide a process cartridge realizing increase in the reliability in terms of electrical connection between the input electrical contact of a process cartridge and an output electrical contact provided in the main assembly of an electrophotographic image forming apparatus in mounting the process cartridge to the main assembly of the image forming apparatus, and to provide the electrophotographic image forming apparatus.
プロセスカートリッジを電子写真画像形成装置本体に装着した際に、前記プロセスカートリッジの有する入力電気接点と、前記画像形成装置本体に設けられた出力電気接点との電気接続の信頼性を向上させたプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - This vegetable organic substance grinding method has: a chipping process 2 for forming the vegetable organic substance into a chip state; a grinding drying process (3, 4, 5) for stir-grinding the chip-like vegetable organic substance while evaporating moisture under a prescribed temperature to form the dried minute powder; and a collection process 6 for collecting the dried minute powder.
植物性有機物をチップ状に成形するチップ化工程２と、チップ状の植物性有機物を所定の温度下で水分を蒸発しながら攪拌粉砕して乾燥した微細粉を形成する粉砕乾燥工程（３、４、５）と、乾燥した微細粉を回収する回収工程６とを備える。 - 特許庁 - At both times of removal of the process cartridge 12 from a body casing 2, when the process cartridge 12 contacts the contact portion 85, the contact portion 85 can be swayed in the same direction while a pivot 82 extending in a direction parallel to the direction of removal of the process cartridge 12 is taken as a fulcrum for swaying action.
そして、プロセスカートリッジ１２の本体ケーシング２に対する装着時および離脱時の両方において、プロセスカートリッジ１２が当接部８５と接触したときには、当接部８５をプロセスカートリッジ１２の着脱方向と平行する方向に沿って延びる揺動軸８２を揺動支点として、同一方向に揺動させる。 - 特許庁 - This method includes a process of automatically making a shot layout and a process of computing the throughput, being the number of processed sheets of wafers per unit time, on the basis of the made shot layout, and an optimum shot layout matched with the request of the user is obtained from the making of the shot layout, based on each process and the computation result of the throughput.
ショットレイアウトを自動で作成する工程と、作成されたショットレイアウトを基に単位時間当たりのウエハの処理枚数等であるスループットを算出する工程とを有し、これら各々の工程に基づくショットレイアウトの作成及びスループットの算出結果から、ユーザの要求にマッチした最適ショットレイアウトを求める。 - 特許庁 - The transistor including the oxide semiconductor film on which the dehydration or dehydrogenation process by heat treatment has been performed and on which the oxygen doping process has been performed in the manufacturing process, has a smaller amount of change in the threshold voltage of the transistor before and after the bias-thermal stress test (BT test), and therefore the transistor has high reliability.
熱処理による脱水化または脱水素化処理を行った酸化物半導体膜を含み、且つ、作製工程において酸素ドープ処理されたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験（ＢＴ試験）前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減できており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 - 特許庁 - This method for forming the fine structural pattern has an arranging process for arranging a large number of plastic particles on a predetermined substrate, a plating process for precipitating a predetermined metal element on the substrate and the gaps between the plastic particles and a process for dissolving the plastic particles in an organic solvent.
本方法は、所定の基板上に、多数のプラスチック粒子を配列させる配列工程と、前記基板上及び前記プラスチック粒子どうしの隙間に、所定の金属元素を析出させるめっき工程と、前記プラスチック粒子を有機溶剤に溶解させる工程を有する微細パターンの形成方法である。 - 特許庁 - In this method of manufacturing a semiconductor device, since an etching speed in a trench forming process is higher than that in a movable section forming process, the amount of a protective film formed on the rear surface of the movable portion 20 as a mask can be reduced in a protective film forming process.
本発明の半導体装置の製造方法では、トレンチ形成工程におけるエッチング速度よりも可動部形成工程におけるエッチング速度を速くしているため、保護膜形成工程において、可動部２０の裏面側にマスクとして形成される保護膜の形成量を低減することができる。 - 特許庁 - The method comprises a die casting process which forms aluminum die-cast materials with a substantially constant configuration of a cross section having an odontoid process in the centrifugal or centripetal direction and a sizing process to perform sizing after aluminum die-casting materials are heated and annealed.
本発明の断面一定のアルミニウム製品の製造方法は、ダイカスト法により遠心方向あるいは求心方向に歯状突起を持つ略断面一定形状のアルミダイカスト材を形成するダイカスト工程と、アルミダイカスト材を加熱して焼鈍した後に、サイジングを行うサイジング工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁 - This method contains a process writing the data in the storage medium sufficiently highly densely so as to naturally cause the deterioration of the data when a time lapses, the process automatically reading out the data before a hard error occurs and the second process writing the data in the storage medium.
時間が経過するとデータの劣化が自然に起こるような十分に高い密度で前記記憶媒体に前記データを書き込む過程と、ハードエラーが発生する前に前記データを自動的に読み出す過程と、２回目の前記データを書き込む過程とを含むことを特徴とする記憶媒体にデータを保存する方法を提供する。 - 特許庁 - They are (i) an ICA feature obtained by processing the observed audio data, (ii) a 1st MFCC feature obtained by removing a logarithm process from a conventional MFCC process, and (iii) a 2nd MFCC feature obtained by applying an ICA process to a result of a Mel-scale filter bank.
（ｉ）観察されたオーディオデータを処理することによって得られたＩＣＡ特徴、（ｉｉ）従来のＭＦＣＣ処理から対数処理を除去することによって得られた第１のＭＦＣＣ特徴、又は（ｉｉｉ）メル尺フィルタバンクの結果にＩＣＡ処理を適用することによって得られた第２のＭＦＣＣ特徴。 - 特許庁 - The method for screening an agent capable of optimally bonding to a receptor by using the one molecule fluorescence analysis is provided with a process in which the agent capable of bonding to the receptor is searched, and a process is which the agent capable of bonding to the receptor obtained in the above process is optimized in structure.
一分子蛍光分析により、受容体に最適に結合可能な物質をスクリーニングする方法であって、受容体に結合可能な物質を探索する工程と前記工程により得られた受容体に結合可能な物質の構造最適化を行う工程とを具備することを特徴とする方法。 - 特許庁 - The method for manufacturing a strenghtened glass product includes a process for strenghtening one part or all surface of a glass product by a surface air cooling method or an ion exchanging method, a process for printing the surface of glass product with an organic coating at 300°C or less, and a process for baking for forming the printing part.
ガラス製品表面の一部又は全面に表面空冷法又はイオン交換法によって強化処理をなす工程と、前記強化処理をなす工程後に３００℃以下の温度で硬化する有機系塗料によってガラス製品表面に印刷をなし焼き付けて印刷部を形成する工程を含む。 - 特許庁 - One example of this gas detection method is provided with a process for making a sample gas flow out of the oven, a process for determining whether a flow rate thereof is the minimum value or less or not, and a process for determining whether a concentration of the first gas such as the inflammable gas in the sample gas is the maximum value or more or not.
ガス検出方法の一例は上記オーブンから試料ガスを流出させる工程と、その流量が最小値以下であるかどうかを判定する工程と、上記試料ガス中の、可燃性ガスなどの第１のガスの濃度が最大値以上であるかどうかを判定する工程とを備えている。 - 特許庁 - To provide a method for tuning a lithography system so as to be capable of forming a different pattern image in a different lithography system employing a known process which does not necessitate the process of trial and error which is carried out so as to optimize the settings of a process and a lithography system for individual lithography systems.
それぞれの個別リソグラフィシステム用にプロセス及びリソグラフィシステム設定を最適化するように実行される試行錯誤のプロセスを必要としない既知のプロセスを使用して、異なるリソグラフィシステムで異なるパターンを結像できるようにリソグラフィシステムをチューニングするための方法を提供することにある。 - 特許庁 - The method for producing the sliding layer comprises a preparation process for preparing the coating composition, a coating process for coating the coating composition on at least the sliding side of a base material 1 and a sliding layer-forming process for forming the sliding layer 2 by removing the solvent of the coating composition.
塗料組成物を用いた摺動層の製造方法は、上記塗料組成物を調製する調製工程と、前記塗料組成物を基材１の少なくとも摺動面側に塗布する塗布工程と、前記塗料組成物の溶媒を除去して摺動層２を形成する摺動層形成工程と、からなる。 - 特許庁 - To provide a process cartridge, realizing increase in the reliability in electrical connection between the input electrical contact of a process cartridge and an output electrical contact provided in the main assembly of an electrophotographic image forming apparatus, when mounting the process cartridge in the main assembly of the image forming apparatus, and to provide the electrophotographic image forming apparatus.
プロセスカートリッジを電子写真画像形成装置本体に装着した際に、前記プロセスカートリッジの有する入力電気接点と、前記画像形成装置本体に設けられた出力電気接点との電気接続の信頼性を向上させたプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a process cartridge which is stably used without causing a failure even if strong shock is applied in physical distribution or the like when the process cartridge is not in use and the process cartridge is loaded at a position where it retreats from a conveyance belt or an intermediate transfer body, and to provide an electrophotographic image forming apparatus.
プロセスカートリッジを搬送ベルトや中間転写体に対して退避した位置で装着する構成において、プロセスカートリッジ未使用時に物流等で強い衝撃が加わった場合においても不具合がなく、安定して使用することのできるプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Manufacturing is carried out through a first process where a semi-processed locking projection is formed at the side face of the shaft body by a first die and a first punch corresponding to it and a second process where the semi-processed locking projection formed through the first process is flatly pushed and expanded by a second die and a second punch corresponding to it.
製造は、第１のダイとそれに対応する第１のパンチとによって軸体の側面に半加工係止突起を形成する第１の工程と、第２のダイとそれに対応する第２のパンチとによって前記第１の工程において形成した半加工係止突起を扁平に押し広げる第２の工程とによる。 - 特許庁 - A process of providing a wiring substrate comprises: a process of carrying out on a base substrate 1 for the wiring substrate a plating of a thick film wiring layer 3 used as the most significant wiring layer for the semiconductor integrated circuit; and a process of forming on the thick film wiring layer 3 a bonding bump 6 connected to the thick film wiring layer 3.
配線基板を提供する過程は、配線基板用ベース基板１上に、半導体集積回路用の最上位配線層となる厚膜配線層３をメッキ形成する過程と、厚膜配線層上に、該厚膜配線層に接続される接合バンプ６を形成する過程とからなる。 - 特許庁 - The manufacturing method includes a process in which slits 6 are formed at specified positions of the sheet member 1, a process in which folding recessed fines 3 and protrusive lines 2 are formed in the direction substantially orthogonal to the slits 6, and a process in which the sheet member 1 is folded to form ridge lines and bottom lines while using the slits 6 as references.
製造方法は、シート材１の所定部位にスリット６を形成する工程と、シート材１に形成されたスリット６に対し略直交する方向に折り曲げ用の凹線３，凸線２を形成する工程と、スリット６を基準としてシート材１を山折り，谷折りに折り畳む工程とを含むものである。 - 特許庁 - This press forming method comprises an attaching process of attaching a higher fatty acid type lubricant to the surface of metal blank and/or the formed surface of forming hardware, a heating process of heating the metal blank and/or the forming hardware and a forming process of press- forming the metal blank with the forming hardware in a warm condition.
金属素材の表面および／または成形金具の成形面に高級脂肪酸系潤滑剤を付着させる付着工程と、金属素材および／または成形金具を加熱する加熱工程と、成形金具により金属素材を温間状態で加圧成形する成形工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁 - A process order control part 70 determines a process order of a band so that time required for plotting and developing an image by output unit is shorter than that for the plotting and development in the arrangement order of the band based on the predicted display time, and plots and develops the image on a rendering part 40 in the determined process order.
処理順序制御部７０は、描画予測時間に基づいて、出力単位分の画像を描画展開するのに要する時間がバンドの配列順に描画展開するよりも短くなるようにバンドの処理順序を決定し、決定した処理順序に従ってレンダリング部４０に描画展開させる。 - 特許庁 - To efficiently cope with the increase/decrease of an amount of production by providing an apparatus for performing a scribing process and a breaking process on the same machine to cut a glass plate, the apparatus which can provide productivity similar to that of a special purpose machine even if used for a single process for scribing or breaking and requires only a small installation area.
スクライブ工程とブレーク工程とを同一の機台上で行ってガラス板を割断する装置に関し、スクライブ又はブレークの単独工程に用いても専用機と同様な生産性が得られる、設置面積が小さい上記装置を提供することにより、生産量の増減に効率的に対応できるようにする。 - 特許庁 - Without a separately added photolithographic process to form a floating gate and control gate for a one-time programmable memory element, a one-time programmable memory element can be embodied, using a capacitor manufacturing process with a polysilicon-dielectric film-polysilicon structure or metal-dielectric film-metal structure, as it is, which is used in the existing process.
ワンタイムプログラムメモリ素子のフローティングゲートとコントロールゲートとを形成するための別途のフォトリソグラフィ工程の追加なしに、既工程で使われているポリシリコン−誘電膜−ポリシリコン構造または金属−誘電膜−金属構造のキャパシタ製造工程をそのまま利用してワンタイムプログラムメモリ素子を具現する。 - 特許庁 - The production method of a substrate for electric optical devices includes an amorphous layer formation process of forming an amorphous layer 9a on the base material 101, a crystalline nucleus production process of producing a crystalline nucleus in an amorphous layer 9a by heating treatment and a crystalline growth process of obtaining an electric conductive layer 9 by growing the produced crystalline nucleus by heating treatment.
基材１０１上に非晶質層９ａを形成する非晶質層形成工程と、非晶質層９ａ中に加熱処理によって結晶核を生成させる結晶核生成工程と、生成した結晶核を加熱処理によって成長させて導電層９を得る結晶成長工程とを含む。 - 特許庁 - Therefore, permeation of a process liquid into the photographic paper sheet R2 is promoted, the process time can be shortened and process steps can be reduced, the waiting time upon processing the first sheet until outputting can be shortened and a developing device equipped with the above immersion processing device 50b and a photographic processing device can be small-sized.
したがって、印画紙シートＲ２に対する処理液の浸透が促進され、処理時間や処理工程を短縮ことができ、１枚目を処理して出力するまでの待ち時間を短縮することができるとともに、該浸漬処理装置５０ｂを備える現像装置や写真処理装置を小型化することもできる。 - 特許庁
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