「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 857 858 859 860 861 862 863 864 865 .... 999 1000 次へ＞- The above device is provided with an in-process informing means capable of optionally informing the state of the device or the state of cooking in the process of cooking in the course of operation in the cooking mode in which the state of the device or the state of cooking changes.
機器の状態または調理の状態が変化していく調理モードが作動している際に、調理途中の機器の状態または調理の状態を任意に報知可能な途中経過報知手段を設けた。 - 特許庁 - Since the slurry has excellent polishing performances such as high-speed polishing properties, low scratch properties, etc., the slurry can be expected to have an application to a mass production process and a process using a porous type low-dielectric-constant insulating film.
また、低荷重条件においても高速研磨性や低スクラッチ性等の優れた研磨性能を有することから、量産プロセスやポーラス型低誘電率絶縁膜を用いたプロセスへの適用が期待できる。 - 特許庁 - A mirror volume B of a volume A (actual volume on a secondary storage device) is created when a PC is started, and a write-disabled process allows reading/writing only from/to the volume A while a write-enabled process allows reading/writing only from/to the mirror volume B.
Ａボリューム（二次記憶装置上の実際のボリューム）のミラーボリュームＢをＰＣ起動時に作成し、書込み禁止プロセスはボリュームＡのみに読書きさせ、かつ、書込み許可プロセスはミラーボリュームＢのみに読書させる。 - 特許庁 - A step 360, deciding whether a spindle is placed in an abnormality condition or not of overload condition or the like by a function of an overload sensor, moves the spindle to a tap return process when abnormality is provided and transfers a process to a step 370 when no abnormality is provided.
ステップ３６０では、過負荷センサの機能により、主軸が過負荷状態等の異常状態にあるか否かを判定し、異常が有れば、タップ戻し処理へ、そうでなければ、ステップ３７０に処理を移す。 - 特許庁 - The head guide unit 90 engages with the recording head so that the guide parts 91 and 92 fit in side walls of the recording head in the capping process of making the caps 24 contact the recording head and in the wiping process by the wipers 25.
キャップ２４を記録ヘッドに当接させるキャッピング過程と、ワイパ２５によるワイピング過程とにおいて、ヘッドガイドユニット９０はガイド部９１，９２が記録ヘッドの側壁に嵌るように記録ヘッドと係合する。 - 特許庁 - At the time of manufacturing cement clinker, waste tires are fed at a burning process, wherein the waste tire T containing iron ingredient of ≥20 wt.% is fed into a front part 1A of the rotary kiln 1 at the burning process.
廃タイヤをセメント焼成工程に投入してセメントクリンカを製造するに際し、鉄分を２０重量％以上含んだ廃タイヤＴをセメント焼成工程のロータリーキルン１の窯尻部１Ａに投入する。 - 特許庁 - In a television receiver 1, according as the start lock of a start lock part 67 is acquired and released, a monitoring operation by a monitoring process 54 is performed only during the operation of a DLNA process 56, otherwise the monitoring operation is stopped.
テレビ受像機１では、起動ロック部６７の起動ロックの取得および解放により、ＤＬＮＡプロセス５６の動作中にのみ、監視プロセス５４による監視動作を実行させ、それ以外は停止させる。 - 特許庁 - To provide a system for controlling the quantity of works in process, that can properly control the quantity of works in process of an intermediate product according to the order reception quantity of products only by considering the production required time (lead time) of the intermediate product.
中間製品の生産所要時間（リードタイム）を考慮するだけで、製品の受注量に応じて中間製品の仕掛量を適正に制御することのできる仕掛量制御システムを提供する。 - 特許庁 - The mask attaching chamber, the deposition chamber and the mask detaching chamber are provided, on each upper part, with a transferring guide installed thereinside, and a substrate supporter for supporting a substance horizontally moves along the transferring guide in the deposition chamber while the process is performed and the substrate is moved between the process chambers.
各々のチャンバ内の上部には移送ガイドが配置され、基板を支持する基板支持体は、蒸着チャンバ内で、工程実行時、そして工程チャンバ間の移動時、移送ガイドに沿って水平移動する。 - 特許庁 - This manufacturing method is provided with an activation process wherein a surface 21a of a resin board 21 is made a rough surface, and a process wherein a thin-walled pattern 23 composed of conductive metal is directly formed on the surface of the resin board 21.
樹脂基板２１の表面２１ａを粗面とする活性化工程と、樹脂基板２１の表面に対して導電性金属からなるパターン２３を直接に薄肉状に形成する工程とを備える。 - 特許庁 - To provide a quality control method, a quality control program and a quality control system for calculating and presenting loss costs in a process in which a process control capability index value is a predetermined value or less in detail concerning quality control.
品質管理に関し、より詳細には工程管理能力指数値が所定値以下の工程の損失コストを算出して提示する品質管理方法、品質管理プログラム及び品質管理システムに関する。 - 特許庁 - This method comprises a process for selecting the kind of a bathing method to be proposed according to a selection flow chart 1 for inquiring for the physical situations of a bather and a process for asking a customer to confirm the bathing method according to a bathing method explanation chart 2.
提案する入浴方法の種類を、入浴者の身体状況を問う選定フロー図１に従って選定する過程と、入浴方法説明図２で顧客の確認を得る過程とを含む。 - 特許庁 - To provide a rice cooker judging a volume of rice-cooking in an earlier stage of a soak process, executing the appropriate soak process and capable of cooking delicious boiled-rice by appropriate water-absorption and heating.
浸水工程の早い段階で炊飯量を判定し、適切な浸水工程を実行し、適度な吸水と加熱によりおいしいご飯に炊き上げることができる炊飯器を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The manufacturing method of the color filter substrate 50 comprises a process for forming a light shielding layer 68 on a transparent substrate 14 and a process for forming a color filter layer 62 on the transparent substrate.
本発明のカラーフィルタ基板５０の製造方法は、透明基板１４上に遮光層６８を形成する工程と、遮光層を形成した後で、透明基板上にカラーフィルタ層６２を形成する工程とを包含する。 - 特許庁 - To provide a game machine able to achieve game play amusement, which attracts the interest of a player, while carrying out a delay process performed in a main substrate in conjunction with the result of a process performed in a sub-substrate.
メイン基板において行われる遅延処理とサブ基板において行われる処理の結果とを連動させつつ、遊技者の関心を惹きつける遊技性を実現することができる遊技機を提供すること。 - 特許庁 - Processing means 28 is designed to perform any one of an average process for averaging image data configuring each image and an adding process for adding image data configuring each image in response to brightness of each image configuring the image group.
処理手段２８は、画像群を構成する各画像の明るさに応じて、各画像を構成する画像データを平均する平均処理及び、各画像を構成する画像データを加算する加算処理のいずれかを行う。 - 特許庁 - To reduce a burden on a terminal device or an application server and to execute a proper process in consideration of a characteristic in each user by allowing a server on a network to execute an electronic process of data acquired by an electronic pen.
電子ペンが取得したデータの電子的な処理をネットワーク上のサーバが行うことにより、端末装置やアプリケーションサーバの負担を軽減しつつ、利用者毎の特徴を考慮した適切な処理を行う。 - 特許庁 - When the treatment is interrupted, the internal atmosphere of the process vessel 2 is forcibly exhausted and in case the gas leakage occurs, the internal and ambient atmosphere of the process vessel 2 is forcibly exhausted and the supply of the gaseous ozone 5 is stopped.
処理が中断した場合，処理容器２の内部雰囲気を強制的に排気し，ガス漏れが起こった場合，処理容器２の内部・周囲雰囲気を強制的に排気すると共に，オゾンガス５の供給を停止する。 - 特許庁 - Based on processing states stored in the shared storage section 2, each processor 1 selects one of the sequences and a process to be next executed for that sequence and executes that process, independently of the operation of any other processor.
各プロセッサ１は、他のプロセッサの動作とは独立して、共有記憶部２に記憶された処理状態に基づき、一のシーケンスと当該シーケンスに対して次に実行すべき処理とを選択して実行する。 - 特許庁 - To provide a control device of a vehicle capable of effectively burning PM by raising exhaust gas temperature in the middle of a PF regenerating process and preventing frequent practice of such a PF regenerating process.
ＰＦ再生処理中に排気温度を上昇させて効果的にＰＭを燃焼させるとともに、このようなＰＦ再生処理が頻繁に行われることを防止することができる車両の制御装置を提供する。 - 特許庁 - The compression-aware demosaicing process is performed using a compression- considered demosaicing operator (206, 708) that incorporates a color space conversion operator and a frequency-based transformation operator, which are typically associated with the compression process.
圧縮意識モザイク解除処理は、一般に圧縮処理に関連しており、色空間変換オペレータと周波数ベースの変換オペレータを組み込んでいる圧縮考慮モザイク解除オペレータ(206;708)を使用して実施される。 - 特許庁 - To provide an ultrasonic cleaning process which enables removal of dust and particles from a board provided with wiring, etc., without causing any damage to the wiring, in ultrasonic cleaning using high frequency ultrasonic waves, and also to provide a device for the process.
高周波による超音波洗浄において、配線などの形成された基板を、配線を損傷することなく、塵やパーティクルを取り去ることのできる超音波洗浄方法および装置を提供すること。 - 特許庁 - The process control equipment 10 acquires a quality characteristic value from a plurality of predetermined number of measuring points of a substrate W by means of a measuring device 11 for the substrate W on which a predetermine process is carried out by a manufacturing apparatus 1.
工程管理装置１０は、製造装置１により所定の工程が実施された基板Ｗについて、測定装置１１により、基板Ｗの所定の複数の測定位置から品質特性値を取得する。 - 特許庁 - On the other hand, when the predetermined time has passed from starting of the recovering and drying process, the exhaust and drying process is started under a condition where the cooling shortage lamp 32 and the refrigeator abnormal lamp 33 are under turned-off condition.
一方、回収乾燥行程開始から上記予め定める時間が経過している場合には、冷却不足ランプ３２および冷凍機異常ランプ３３は消灯状態のままで排気乾燥行程が開始される。 - 特許庁 - In a second process, a number of spacers 11 are formed on the lower surface of the substrate 26, in a third process, the spacers 11 of the substrate 26 are bonded to a semiconductor wafer 32 in which a number of solid state imaging elements 9 are provided.
第２工程では、ガラス基板２６の下面に多数のスペーサー１１を形成し、第３工程では、多数の固体撮像素子９が設けられた半導体ウエハ３２にガラス基板２６のスペーサー１１を接合する。 - 特許庁 - To provide stable electric characteristics and increase the reliability of a semiconductor device including an oxide semiconductor having achieved microfabrication and high integration and of a manufacturing process for the semiconductor device, and provide a technique for manufacturing the semiconductor device while suppressing a defect and increasing the yield in the manufacturing process.
微細化及び高集積化を達成した酸化物半導体を用いた半導体装置、及び半導体装置の作製工程において、安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。 - 特許庁 - To provide a die cutting device for a long film, capable of compactly collecting remaining parts of the long film, from which products are removed, in an automatic process succeeding a die cutting and carrying-out process of the products.
製品部分を取り除かれた長尺フィルムの残部を、製品部分の型抜きおよび搬出工程に連続した自動工程でコンパクトに回収可能な長尺フィルムの型抜き加工装置を提供する。 - 特許庁 - In the discussion process and the negotiation process, a work for selecting an interested item value and a common negotiation item value so that an evaluation value to be calculated based on the interested item dependence relation becomes high is repeated.
この検討過程および協議過程では、関心項目依存関係に基づいて算出する評価値が高くなるように関心項目値および共通協議項目値を選ぶ作業が繰り返される。 - 特許庁 - To provide a visual inspection system for a semiconductor capable of specifying the flaw having increased or disappeared before and after a predetermined process of a semiconductor manufacturing process; a visual inspection method; and a semiconductor manufacturing apparatus.
半導体製造工程の所定の工程の前後で増加又は消失した欠陥を特定することが可能な半導体外観検査装置、外観検査方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method that contributes to simplification of a manufacturing process and improvement in product quality while allowing continuous execution of a pre-dicing method and a mounting process adopting flip chip bonding.
先ダイシング法と、フリップチップボンディングを採用した実装プロセスとを連続して行うことが可能であり、製造プロセスの簡素化と製品品質の向上に寄与しうる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The progress status which is stored in the customer information storage part 31 is updated as the state that the process is completed based on the input of information for the next process by a second level information registering means 24.
第２レベル入力情報登録手段２４は、次工程に対する情報投入に基づいて顧客情報記憶部３１に格納されている進捗ステータスを当該工程が完了した状態に更新する。 - 特許庁 - To prevent decreases in area efficiency, performance and wiring efficiency which result from imbalances in dimensional ratios with miniaturized control circuits brought by the development of microfabrication process such as a process of fabricating large-capacity DRAMs as hard macros.
大容量のＤＲＡＭをハードマクロとして構成する場合等、プロセス微細化に伴い、制御回路群の微細化に伴うスケール比の不均衡により面積効率、性能、配線効率の低下要因を防止する。 - 特許庁 - The heat treatment is executed between a process step of forming the transparent glass by firing a porous member deposited with the glass particulates and a process step of heating and drawing the glass preform formed as the transparent glass in a drawing furnace.
この加熱処理は、ガラス微粒子を堆積させた多孔質部材を焼成して透明ガラス化する工程と、透明ガラス化したガラス母材を線引き炉で加熱して線引きする工程との間に実施する。 - 特許庁 - The method includes a process of forming a color filter layer by a photolithographic method on a long-length metal plate and a process of transferring the color filter layer on the metal plate to a long-length plastic film.
長尺の金属板上にフォトリソグラフィー法によりカラーフィルター層を形成する工程、および前記金属板上のカラーフィルター層を長尺のプラスチックフィルム上に転写する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁 - The server is provided with a storage means to store the schematic representation of created work process models and an update means to update the work process model data from before creation to post creation at each completion of execution of action in the steps.
サーバは、作成されたワークプロセスモデルの図式表現を格納する記憶手段と、段階におけるアクションの実行完了毎に、ワークプロセスモデルデータを作成前から作成後に更新する手段と、を有する。 - 特許庁 - To provide a process for manufacturing an electronic apparatus circuit device in which high productivity essential to reflow processing can be ensured by a simple process in correspondence with reduction in the size of components or complicacy in the shape of the components.
簡易な工程により、装置内部品の小型化やこれに伴う部品形状の複雑化に対応して、リフロー処理本来の高い生産性を確保し得る電子機器回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This method comprises a film formation process for forming at least one of the organic light-emitting medium layers in a wet film formation process, by using an embrocation prepared by solving or scattering a prescribed formation material in a solvent.
所定の形成材料を溶媒に溶解または分散させてなる塗布液を用いて前記有機発光媒体層のうち少なくとも一層を湿式成膜法により形成する成膜工程を有する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing method that can perform a plasma process with high productivity and quality, particularly, a plasma process on a large-area substrate with uniformity at high speed, and that can also easily deal with many kinds.
生産性が高く高品質なプラズマ処理を、特には大面積な基体へのプラズマ処理を均一且つ高速に行うことが可能で且つ多品種対応が容易に可能なプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating a manufacturing process of a transistor capable of shortening a time required for a failure analysis when the transistor has a failure in electric characteristics, and an element for evaluating the manufacturing process of the transistor.
トランジスタの電気的特性に異常がある場合に、その不良解析に要する時間を短縮することができるようにしたトランジスタの製造プロセス評価方法及び、トランジスタの製造プロセス評価素子を提供する。 - 特許庁 - The method of controlling recording strength of the hard disk drive includes a process in which flying height of a head is calculated before starting a recording operation and a process in which recording strength is controlled according to the calculated flying height.
記録動作を開始する前にヘッドの飛行高さを算出する過程と，算出された飛行高さによって記録強度を制御する過程と，を含むハードディスクドライブの記録強度の制御方法である。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a plane display panel capable of implementing a sealing process in a steady temporary fixing state, without causing position shifting at transfer to the sealing process, after superimposing the front substrate and the rear substrate.
前面基板と背面基板とを重ね合わせた後、封着工程へ搬送時にも位置ずれを起こすことなく確実な仮固定状態で封着工程を実施できる平面ディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, it comprises, in the high-frequency heating beyond the point A_3 before the hardening process, a process of holding the steel parts within a temperature region beyond the point A_3 for a prescribed time or longer, then cooling the steel parts to the transformation point A_1 or lower as they are.
さらに、焼入工程前のＡ_３点を超えての高周波加熱において、Ａ_３点を超える温度域に所定時間以上保持し、次いで、そのままＡ_１変態点以下に冷却する工程を備える。 - 特許庁 - To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor-manufacturing adhesive tape which can reduce the consumption of a protective film, has a constitution wherein the whole process is integrated into one line, can increase the production speed, and prevents the deterioration of a tape due to a complex process.
接着テープを製造するとき、保護フィルムの消費量を減らし、全工程を一つのラインに構成し、生産速度を増大させるとともに、複雑な工程によるテープの汚染を防止することを課題とする。 - 特許庁 - A delivery tank 21, a cleaning mechanism 31, a collection tank 51, and an ultrasonic cleaning tank 61 are arranged in sequence, starting from the process starting part to the process finishing part, and are located between the reserved tank 11 and the transfer cleaning tank 71.
予備水槽１１と搬送洗浄槽７１の間には始端部から終端部へ順番に送出槽２１、洗浄機構３１、集積槽５１及び超音波洗浄槽６１の各水槽が配列されている。 - 特許庁 - To provide a stainless-steel-sintered member with high corrosion resistance, which does not contain such a portion having a lowered Cr concentration in the matrix, has improved corrosion resistance, and does not need a complicated manufacturing process and a control process.
基地中にＣｒ濃度の低下した部分がなく耐食性を向上させることができるとともに、煩雑な製造工程および工程管理を必要としない高耐食性ステンレス焼結部材を提供する。 - 特許庁 - An execution file of an application program, a process of the execution file, and one piece of data or more selected from the window belonging to the process are registered as control target data in the control target list 250.
制御対象リスト２５０には、アプリケーションプログラムの実行ファイル、実行ファイルのプロセス、及びプロセスが所有するウインドウの中から選択される１以上のデータが制御対象データとして登録されている。 - 特許庁 - A 1st step of this wire-stripping method is where 1st cut lines CL1 for a middle part stripping process and 2nd cut lines CL2 for an end stripping process are formed simultaneously in insulating coverings 111 and 112 of wires 110 and 120.
本皮剥ぎ方法では、まず、電線１１０，１２０の絶縁被覆１１１，１２１に対して、中間皮剥ぎ用の第１の切り込み線ＣＬ１と、端部皮剥ぎ用の第２の切り込み線ＣＬ２とを同時に入れる。 - 特許庁 - A subflow composed of connections before and behind unit of work prepared by dividing the work in the work process into minute parts and unit of work divided into minute parts is defined in a predetermined work process in the flow of defined works.
定義された作業の流れの内の所定の作業工程において、当該作業工程の作業を細分化した作業の単位と、その細分化した作業の単位の前後のつながりとからなるサブフローを定義する。 - 特許庁 - If the quantity of ordered products is 10 pieces is marked by '*', the progress of each process can be as a percentage by displaying production volume of each process with no more than 10 pieces marked by 'double circle'.
なお、注文された製品の数量を１０個「＊」としたときの、各工程における生産量を１０個以下の「◎」で表示することにより、各工程における進捗状況をパーセンテージで知ることができる。 - 特許庁 - PROCESS FOR FORMING UNEVEN STRUCTURE ON SURFACE OF SURFACE LAYER OF CYLINDRICAL ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, AND PROCESS FOR PRODUCING CYLINDRICAL ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR HAVING UNEVEN STRUCTURE FORMED ON SURFACE OF SURFACE LAYER
円筒状電子写真感光体の表面層の表面に凸凹形状を形成する方法、および、表面層の表面に凸凹形状が形成された円筒状電子写真感光体を製造する方法 - 特許庁
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