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＜前へ 1 2 .... 938 939 940 941 942 943 944 945 946 .... 999 1000 次へ＞- The process of first bonding 12 consists of a process of bonding the bent part 11 to a pad 2, to form a lower first bonding part 12; and a process of moving the capillary 6 upward and toward wiring 4 and lowering the capillary 6 after this, to connect the wire 10 overlapped on the lower first bonding part 12 to form the first bonding part 14.
前記第１ボンディング１２工程は、曲げ部１１をパッド２にボンディングして下部第１ボンディング部１２を形成する工程と、キャピラリ６を上昇及び配線４側に移動させ、その後キャピラリ６を下降させてワイヤ１０を下部第１ボンディング部１２上に重ねて接続して上部第１ボンディング部１４を形成する工程とからなる。 - 特許庁 - This manufacturing method of a sample for a transmission type electron microscope includes a process for forming a protective film of an amorphous structure to the observation cross section of the specific place of a semiconductor device, a process for removing the periphery of the observation cross section to which the protective film is formed and a process for forming the region containing the protective film into a thin film state.
透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法において、半導体デバイスの特定箇所の観察断面に非晶質構造の保護膜を形成する工程と；前記保護膜が形成された観察断面の周囲を除去する工程と；少なくとも前記保護膜を含む領域を薄膜化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - This method for diagnosing the neuroblastoma comprises a process for detecting an MYCN (or called as N-MYC) gene and a single copy reference gene contained in a subject-derived body liquid, a process for calculating the amount ratio of the MYCN gene to the reference gene and a process for determining a subject state based on the amount ratio.
被験者由来の体液中に含まれるＭＹＣＮ遺伝子およびシングルコピー対照遺伝子を検出する工程、前記対照遺伝子に対する前記ＭＹＣＮ遺伝子の量比を算出する工程、ならびに前記量比に基づいて被験者の状態を決定する工程を含むことを特徴とする神経芽腫の診断方法。 - 特許庁 - The manufacturing method of the resin sheet comprises a process of injecting and applying a liquid composition as fine droplets from a fine nozzle of an ink jet mode to the mold where a fine and irregular shape is arranged, a process of forming a resin film by drying the liquid composition or curing by polymerizing it and a process of releasing the resin film from the mold.
液状組成物をインクジェット方式の微少ノズルから微小液滴として微細な凹凸形状が設けられたモールドに吐出して塗布する工程と、液状組成物を乾燥もしくは重合により硬化して樹脂膜を形成する工程と、樹脂膜をモールドから離型する工程とを備えることを特徴とする樹脂シートの製造方法。 - 特許庁 - The method of manufacturing the laminated body includes: a first process of forming an adhesive layer by applying an aqueous dispersion containing a polyolefin copolymer to at least a part of a surface of a substrate (A); a second process of irradiating microwave onto the adhesive layer; and a third process of pressure-bonding of other substrate (B) on a surface of the adhesive layer.
基材（Ａ）表面の少なくとも一部にポリオレフィン共重合体を含有する水性分散体を塗布して接着剤層を形成させる第一工程、該接着剤層にマイクロ波を照射する第二工程、及び該接着剤層表面に他の基材（Ｂ）を圧着させる第三工程を具備する積層体の製造方法。 - 特許庁 - To obtain a high-performance yarn that reduces the number operation processes and a time taken for a cellulase treatment process and a salt shrinking process in a process for improving a feeling a cotton-silk blended yarn, namely a cotton-silk blended yarn that simultaneously has a silk touch and excellent hygroscopicity of cotton and has a high additional value and its textile product at a low cost.
綿・絹混紡繊維の風合い向上加工における、セルラーゼ処理工程および塩縮加工工程にかかる作業工程数と時間を低減し、高機能な繊維、すなわち絹の肌触りと綿の優れた吸湿性を同時にあわせ持つ付加価値の高い綿・絹混紡繊維およびその繊維製品を低コストで提供すること。 - 特許庁 - The manufacturing method of the cathode substrate includes a process of forming a cathode electrode 3 on the substrate 1, a process of forming a conductive layer 5 by coating a conductive composition containing an Si-containing matter on the cathode electrode 3, and a process of forming the electron emission source 7 by coating an electron emission source composition containing carbon nanotube on the conductive layer.
本発明に係るカソード基板の製造方法は，基板１に，カソード電極３を形成する工程と，カソード電極３上にＳｉ含有物質を含む導電性組成物を塗布して，導電層５を形成する工程と，導電層５上にカーボンナノチューブを含む電子放出源組成物を塗布して，電子放出源７を形成する工程と，含む。 - 特許庁 - This method of treating the organic waste including the biodegradable resin comprises the process to solubilize the organic waste including the biodegradable resin molding by adding an enzyme for decomposing the biodegradable resin molding and/or adding microbes for producing the enzyme, the process to ferment a solubilized decomposition product, and the process to recover a fermentation product.
生分解性樹脂成形体を含む有機系廃棄物を、生分解性樹脂成形体を分解する酵素および／または酵素を生成する微生物を添加して可溶化を行う工程と、可溶化された分解物で発酵を行う工程と、発酵生成物を回収する工程、からなる生分解性樹脂を含む有機系廃棄物の処理方法を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for forming the passivation film 3 having the aperture K1 on the bonding pad 2, a process for washing the surface of the bonding pad 2 by using an alkali group chemicals, and a process for bonding wires on the bonding pad 2 washed by the alkali group chemicals.
そこで、本発明の半導体装置の製造方法は、ボンディングパッド２上に開口部Ｋ１を有するパッシベーション膜３を形成する工程と、前記ボンディングパッド２の表面をアルカリ系の薬品を用いて洗浄処理する工程と、アルカリ系の薬品で洗浄処理されたボンディングパッド２上にワイヤーボンディングする工程とを有することを特徴とするものである。 - 特許庁 - The inspection method of lens characteristics includes a process impinging at least two beams of light propagating in different directions into the aforementioned lens, a process acquiring images of interference fringe formed from at least two beams of light outgoing from the aforementioned lens, and a process inspecting lens characteristics from the acquired images of interference fringe.
本発明のレンズ特性検査方法は、異なる方向に進行する少なくとも２つの光を上記レンズに入射させる工程と、上記レンズを出射した少なくとも２つの光が形成する干渉縞像を捕捉する工程と、捕捉された干渉縞像からレンズの特性を検査する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The growth method of the nitride semiconductor layer comprises (a) a process for forming a first crystalline nitride semiconductor layer on the substrate, (b) a process for forming a nitride semiconductor buffer layer on the first crystalline nitride semiconductor layer and (c) a process for removing the obtained nitride semiconductor buffer layer and forming a second crystalline nitride semiconductor layer.
（ａ）基板の上に、第１の結晶質窒化物半導体層を形成する工程と、（ｂ）該第１の結晶質窒化物半導体層上に、窒化物半導体バッファ層を形成する工程と、（ｃ）得られた窒化物半導体バッファ層を除去するとともに、第２の結晶質窒化物半導体層を形成する工程とを含む窒化物半導体層の成長方法。 - 特許庁 - The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.
本発明にかかる素子基板１００の製造方法は、基板１０上に第１のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第２のパターンの金属層３４を形成する工程と、を含む。 - 特許庁 - By a composition provided with a cleaning, bleaching and disinfecting course carrying out a washing process of washing soil adhered to the dishes by electrolytic water produced by electrolyzing water containing chloride ions and a bleaching and disinfecting process of bleaching and disinfecting the dishes in the same process, the dishes can be efficiently washed in a short time with little waste in water resources and electrical energy.
塩素イオンを含有する水を電気分解した電解水により食器に付着した汚れを洗浄する洗浄工程と、食器を漂白除菌する漂白除菌工程とを同じ工程で行う洗浄漂白除菌コースを備えた構成により、水資源や電気エネルギの無駄が少なく、短時間に効率よく洗浄ができる。 - 特許庁 - Further, the method for producing the far-infrared ray-radiating ceramic includes a process for forming the kneaded material by crushing and mixing the raw materials comprising either or both of bamboo charcoal and charcoal, tourmaline and clay, a process for forming a formed body by forming the kneaded material into a desired shape, and a process for carbonizing and firing the formed body.
また、本発明の遠赤外線放射セラミックスの製造方法は、竹炭または木炭のうちの一方或いは両方、トルマリンおよび粘土原料を粉砕混合して混練物を形成する工程と、前記混練物を所望形態に成形して成形体を形成する工程と、前記成形体を炭化焼成する工程とを有した製造方法である。 - 特許庁 - The treatment method of the waste water containing the sulfur-based COD component includes: a non chemical feed type solid-liquid separation process of separating the waste water into a solid content and first treated water before oxidation treatment; and an oxidation treatment process of performing the oxidation treatment to the first treated water obtained by the solid-liquid separation process and attaining second treated water.
本発明の硫黄系ＣＯＤ成分を含有する廃水の処理方法は、酸化処理の前に、前記廃水を固形分と第１処理水とに分離する無薬注方式の固液分離工程と、該固液分離工程により得られた第１処理水に前記酸化処理を行って第２処理水とする酸化処理工程とを具えることを特徴とする。 - 特許庁 - In the plotting method provided with a process of discharging liquid drops 40 to a plurality of pixel areas 105 on a substrate 111 through a plurality of nozzles 77 of the plotting device 50 and forming a plurality of impact drops 1, the process of forming a plurality of impact drops 1 includes a process of further forming a plurality of impact drops 1 around the normal impact drops 1.
基板１１１上の複数の画素領域１０５へ描画装置５０の複数のノズル７７から液滴４０を吐出して複数の着弾滴１を形成する工程を備えた描画方法であって、複数の着弾滴１を形成する工程は、規定の着弾滴１の周囲にさらに複数の着弾滴１を形成する工程を含む。 - 特許庁 - In this manufacturing method of a cylindrical secondary battery, an electrode group groove formation process first executes a diameter-reducing process for reducing diameter from a part above a part of an armoring can where an electrode group is housed to an opening and thereafter executes a groove formation process for forming a groove toward the inside from the outside in the part of the armoring can reduced in diameter.
円筒型二次電池の製造方法において、電極群溝形成工程が、まず外装缶の電極群が収納されている部位より上から開口部までを縮径する縮径工程を行い、その後、前記外装缶の縮径した部分に外側から内側に向けて溝を入れる溝入れ工程を行う円筒型二次電池の製造方法。 - 特許庁 - This treatment method of organic waste water incorporates a process (1) in which phosphor and nitrogen in the waste water is made to a form of ammonium magnesium phosphate and taken out the same outside the system and, therein, is characterized in that a vacuum treatment process (2) in which the waste water which contains phosphor and nitrogen is subjected to vacuum treatment prior to the process (1).
有機性排水を処理する方法であって、該排水中のリン及び窒素をリン酸マグネシウムアンモニウムの形態にして系外に取り出す工程（１）を組み入れている処理方法において、前記工程（１）の前にリン及び窒素を含有する該排水を減圧処理する減圧処理工程（２）を組み込むことを特徴とする有機性排水の処理方法。 - 特許庁 - When a dielectric thin film is formed on a substrate by a chemical vapor growth method, a method of manufacturing a semiconductor device comprises the process for depositing a part of the dielectric thin film on the substrate, the process for heat-treating this dielectric thin film and moreover, the process for depositing the dielectric thin film at a deposition rate higher than that of the dielectric thin film.
基板上に、化学気相成長法により誘電体薄膜を形成するときに、基板上に誘電体薄膜の一部を堆積する工程と、この誘電体薄膜を熱処理する工程と、さらに上記誘電体薄膜の堆積速度より速い堆積速度で、誘電体薄膜の堆積を行う工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - This method for recording data on the optical storage medium in an optional recording medium includes a process for selecting a recording format for data to be recorded on the optical storage medium, a process for recording the data on the optical storage medium in the selected recording format, and a process for adding and recording recording format information showing the recording format for the data.
光貯蔵媒体に任意の記録フォーマットでデータを記録する方法において、前記光貯蔵媒体に記録するデータの記録フォーマットを選択する過程と、前記選択された記録フォーマットで前記データを前記光貯蔵媒体に記録する過程と、前記データの記録フォーマットを示す記録フォーマット情報を付加して記録する過程とを含む。 - 特許庁 - This method of determining a velocity of a flowing fluid includes a process for estimating roughly a Reynolds number of the flowing fluid, a process for comparing the estimated Reynolds number with a selected range, and a process for determining the velocity of the flowing fluid, based on a flow model selected out of a laminar flow model, a turbulent flow model and a partial laminar flow model.
流れる流体の速度を決定する方法は、前記流れる流体のレイノルズ数を概算する工程と、前記概算されたレイノルズ数を選択された範囲と比較する工程と、層流モデル、乱流モデル、および部分層流モデルのうち選択された流れモデルに基づき、前記流れる流体の速度を決定する工程とを含む。 - 特許庁 - The discharge amount of the ink can be fixed by a method including a process of extruding an ink from two or more nozzles of an inkjet head, a process of bringing droplets of the ink extruded into contact with a liquid film forming member for formation of a liquid film to form a liquid film and a process of sucking the ink to form individual ink profiles for the individual nozzles.
インクジェットヘッドの複数のノズルからインクを押し出す工程と、押し出された該インクから成る液滴に液膜を形成するための液膜形成部材を接して液膜を形成する工程と、該インクを吸引して、該複数のノズルのインク面をそれぞれ個別に形成する工程を組み込んだ方法によりインク吐出量を一定にできる。 - 特許庁 - This method for producing the carbon fiber-reinforced polyamide resin composite material comprises (1) a process (A) of immersing a carbon fiber base material treated with a sizing agent containing a carboxyl group in an alkaline liquid, and (2) a process (B) of impregnating the carbon fiber base material passing through the previous process (A) with a polymerizable composition containing ε-caprolactam, and performing anionic polymerization.
（１）カルボキシル基を含有するサイジング剤で処理されてなる炭素繊維基材をアルカリ液に浸漬させる工程（Ａ）、及び、（２）前記工程（Ａ）を経た炭素繊維基材に、ε−カプロラクタムを含有する重合性組成物を含浸させ、アニオン重合させる工程（Ｂ）を含む、炭素繊維強化ポリアミド樹脂複合材の製造方法。 - 特許庁 - The method for producing the saturated norbornene resin film includes a surface roughening process in which the resin pellets are made to collide with each other to hurt the surfaces of the pellets, a melting process in which the pellets are kneaded to be melted, and a film making process in which the molten resin is extruded on a drum to make the resin film.
また、飽和ノルボルネン系樹脂からなる複数のペレットを衝突させて、ペレットの表面に傷を付ける粗面化工程と、前記粗面化工程の後、ペレットを混練し、溶融させて溶融体とする溶融工程と、前記溶融体をドラム上に押出して製膜する製膜工程とを含む飽和ノルボルネン系樹脂フィルムの製造方法である。 - 特許庁 - In the manufacturing process of a PDP having the structure formed through the burning process, a temperature profile in the burning process has a plurality of temperature rise steps of temperature rise speed until top keep temperature Tp is reached and does not have a period, where temperature until the top keep temperature Tp is reached is made constant.
焼成工程を経て形成される構造物を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記焼成工程の温度プロファイルが、トップキープ温度Ｔｐに至るまでに複数の昇温速度の昇温ステップを有し、且つ、トップキープ温度Ｔｐに至るまでに温度を一定とする期間を有さないことを特徴とするものである。 - 特許庁 - A method for suppressing microorganisms in a food material includes an ultrasonic treatment process of irradiating an aqueous solution where the food material is soaked with an ultrasonic wave, and an ozone-containing microbubble treatment process of soaking the food material after the ultrasonic treatment process in an aqueous solution where ozone-containing microbubbles are produced.
本発明は、食品材料を浸漬してなる水性液中に超音波を照射する超音波処理工程と、超音波処理工程後の食品材料を、オゾン含有マイクロバブルを発生させてなる水性液中に浸漬するオゾン含有マイクロバブル処理工程とを含む、食品材料における微生物の制御方法に関する。 - 特許庁 - This shape evaluation method of the diffraction grating having the phase shift part includes an interference fringe detection process for detecting an interference fringe, corresponding to the irregularities of the diffraction grating, and a shape evaluation process for evaluating the shape of the diffraction grating, based on the interference fringe detected in the interference fringe detection process.
本発明に係る回折格子の形状評価方法は、位相シフト部を有する回折格子の形状評価方法であって、回折格子の凹凸に対応する干渉縞を検出する干渉縞検出工程と、干渉縞検出工程で検出した干渉縞に基づいて、回折格子の形状評価をおこなう形状評価工程とを含む。 - 特許庁 - The method of manufacturing the electron emitter includes a process of dispersing and arranging carbon nanotube aggregates and single carbon nanotube groups on an electrode respectively, a process of applying raising treatment to the carbon nanotubes in the carbon nanotube unit body groups, and a process of applying activating treatment in argon gas atmosphere in order to raise the carbon nanotubes in the single carbon nanotube groups.
本電子エミッタの製造方法は、電極上に、カーボンナノチューブ集合体とカーボンナノチューブ単体群とをそれぞれ分散配置する工程と、上記カーボンナノチューブ集合体中のカーボンナノチューブを起毛処理する工程と、カーボンナノチューブ単体群中のカーボンナノチューブを起毛させるためにアルゴンガス雰囲気下で活性化処理する工程と、を含む。 - 特許庁 - The manufacturing method of the curved member (lens 4) includes: a die manufacturing process of forming a rugged pattern on a substrate to manufacture the die; a transfer process of transferring the rugged pattern of the die to a resin film (thermoplastic resin film 22); and an attachment process of sticking the resin film to a curved surface 41 of an object to be worked (lens body 40).
曲面状部材（レンズ４）の製造方法は、基板に凹凸パターンを形成して型を製造する型製造工程と、前記型の凹凸パターンを樹脂膜（熱可塑性樹脂膜２２）に転写させる転写工程と、前記樹脂膜を加工対象物（レンズ本体４０）の曲面４１に貼り付ける貼着工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device is provided with a process for forming a wiring trench 38 in an interlayer insulating film 34, a process for forming the wiring layer 44 whose main material is Cu in the wiring trench 38, and a process for performing nitrogen two-phase flow treatment in which nitrogen gas and hotwater are sprayed simultaneously to the surface of the wiring layer 44 embedded in the wiring trench 38.
層間絶縁膜３４に、配線溝３８を形成する工程と、配線溝３８内に、Ｃｕを主材料とする配線層４４を形成する工程と、配線溝３８内に埋め込まれた配線層４４の表面に対して、窒素ガスと水とを同時に吹き付ける窒素二流体処理を行う工程とを有する。 - 特許庁 - The method for sterilizing the red tide comprises a process for measuring the in-depth concentration distribution of phytoplankton in water, a process for evaluating the thickness and depth of a generated red tide layer from the in-depth concentration distribution of the phytoplankton, and a process for injecting a red tide sterilizing material to the generated red tide layer.
本発明は水中おける植物プランクトンの深さ方向濃度分布を測定する工程と、前記植物プランクトンの深さ方向濃度分布から、赤潮発生層の厚さと深さとを評価する工程と、前記赤潮発生層に対して、赤潮殺滅物質を注入する工程と、を含んだ赤潮殺滅方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist underlayer film material which is for a multilayer resist process, especially for a double layer resist process or a triple layer resist process, which functions as an excellent antireflection film especially against exposure with short wavelength light, that is, having high transparency and most suitable n and k values, and further is excellent in etching resistance in substrate working.
多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用又は三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁 - This method for film production comprises a process for melting and kneading a propylene polymer with a nucleating agent in the presence of an organic peroxide to produce a master batch, a process for mixing the master batch with a propylene/α-olefin random copolymer to produce a resin composition and a process forming the resin composition into a film by extrusion molding.
プロピレン系重合体と造核剤とを有機ペルオキシドの共存下で溶融混練を加えてマスターバッチを製造する工程、次いでそのマスターバッチとプロピレン・α−オレフィンランダム共重合体とを混合して樹脂組成物を製造する工程、その後その樹脂組成物をフィルム状に押出成形する工程から構成されるフィルムの製造方法である。 - 特許庁 - The method of manufacturing a printed circuit board includes: a process of forming a circuit pattern by discharging conductive ink on a carrier through inkjet printing; a process of heating and sintering the circuit pattern; and a process of transferring the circuit pattern by stacking the carrier on an insulation layer such that the circuit pattern is buried in the insulation layer.
本発明に係る印刷回路基板の製造方法は、インクジェット方式を用いてキャリアに導電性インクを吐出して回路パターンを形成する工程と、回路パターンを加熱して焼結する工程と、回路パターンが絶縁層に埋め込まれるように、絶縁層にキャリアを積層して回路パターンを転写する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - If one of the input process items 301-305 is selected while a plurality of received data are selected on the list, a control means controls the server device so that a process corresponding to the selected input process item is performed at a time for the plurality of received data selected.
一覧リストにおいて複数の受信データが選択された状態にあるときに、入力処理項目３０１〜３０５の一つが選択された場合に、選択されている複数の受信データに対して一括して、選択された入力処理項目に対応する処理を実行するように制御手段がサーバ装置を制御するようにする。 - 特許庁 - Next, a prescribed film is formed by a dry etching process on the through oxide film 5, after the dry etching process, an oxide film surface removing process removing the surface of the through oxide film 5 is performed, and thereafter, an impurity layer is effectively removed by injecting ions through the through oxide film 5 and the prescribed film downward of the films.
次に、スルー酸化膜５上にドライエッチング工程によって所定の膜を形成し、ドライエッチング工程の後に、スルー酸化膜５の表面を除去する酸化膜表面除去工程を行い、その後、スルー酸化膜５および所定の膜を通してそれぞれの下方にイオン注入することことで、不純物層を効果的に取り除く。 - 特許庁 - The membrane filtering method includes: a pretreatment process of obtaining coagulation treatment water by mixing treated water with a poly aluminum chloride solution (PAC solution) having basicity of 65-85%; a membrane filtering process of filtering the coagulation treatment water by the filter membrane to obtain filtrated water; and a backwash process of performing back washing on the filter membrane at predetermined intervals.
被処理水と、塩基度が６５％以上８５％以下のポリ塩化アルミニウム溶液（ＰＡＣ溶液）とを混和して凝集処理水を得る前処理工程と、凝集処理水をろ過膜でろ過し、ろ過水を得る膜ろ過工程と、ろ過膜を所定の間隔で逆流洗浄する逆洗工程とを含むことを特徴とする膜ろ過方法である。 - 特許庁 - The manufacturing method of the silicon wafer includes: a process of obtaining a slice wafer by slicing a single-crystal silicon ingot; a process of grinding only one surface of the wafer; and a smoothing process of smoothing the other surface of the wafer by controlling the application of an etchant corresponding to the surface shape of the other surface of the wafer.
本発明のシリコンウェーハの製造方法は、シリコン単結晶インゴットをスライスしてスライスウェーハを得る工程と、ウェーハの一方の面のみを片面研削する工程と、ウェーハの他方の面の表面形状に応じてエッチング液の適用を制御することによりウェーハの他方の面を平滑化する平滑化工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - A process control system includes economic models disposed in communication with process control modules, as well as with sources of economic data, such as cost, throughput and profit data, and uses the economic models to determine useful economic parameters or information associated with the actual operation of the process plant at the time the plant is operating.
プロセス制御システムは、プロセス制御モジュールならびにコストデータ、処理量データ、および収益性データの如き経済性データのソースと通信状態で配設される経済性モデルを備え、これらの経済性モデルを用いて、プロセスプラントの運転時に、そのプラントの実際の運転に関連する有用な経済性パラメータまたは経済性情報を決定する。 - 特許庁 - To provide a method for producing carbon monoxide in which a process for purifying obtained gaseous carbon monoxide and a process for regenerating an ion exchange resin are not necessary when carbon monoxide is produced by decomposing methyl formate in the presence of the ion exchange resin, advantages are ensured in terms of a process and heat energy and high purity carbon monoxide is stably produced over a long period of time.
イオン交換樹脂の存在下でギ酸メチルを分解して一酸化炭素を製造する際に、得られた一酸化炭素ガスの精製プロセスおよびイオン交換樹脂の再生プロセスが不要であり、プロセス面および熱エネルギー面で優位で、且つ、長期間に渡り、安定して高純度一酸化炭素を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - This method of measuring the protein contained in the sample includes a process for bringing the sample, a pigment forming a product associated with the protein, and a water-soluble polymer compound into contact, a process for adding a fixed amount thereof on a porous membrane after the contact, and a process for measuring a colored area on the porous membrane.
本発明は、試料、タンパク質と会合体を形成する色素、及び水溶性高分子化合物を接触させる工程；前記接触後その一定量を多孔性膜上に添加する工程；並びに前記多孔性膜上の着色域を測定する工程、を含むことを特徴とする試料中のタンパク質の測定方法である。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufactured by using a photoresist polymer removing detergent composition which can effectively remove a photoresist residue or the like produced in an etching process and in an ashing process in the process of a photoresist pattern for manufacturing the semiconductor device, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device, a method for cleaning a photoresist pattern and a photolithographic method.
半導体素子を製造するためのフォトレジストパターン形成工程中において、エッチング工程及びアッシング工程時に発生するフォトレジスト残留物などを効果的に除去できるフォトレジストポリマー除去用洗浄剤組成物を用いた半導体素子及び半導体素子の製造方法、フォトレジストパターン洗浄方法、フォトリソグラフィー方法を提供すること。 - 特許庁 - In the process before an embossing process, the foamed resin sheet 18 and the ultrahigh-molecular weight polyethylene layer 17 are bonded at one end parts 28a and 29a and, in the embossing process, the ultrahigh-molecular weight polyethylene layer 17 is pressed to the foamed resin sheet 18 from one bonded ends by the male mold 32 to be bonded thereto while accustomed so as to form an arcuate shape.
型押し前の工程では、発泡樹脂シート１８と超高分子量ポリエチレン層１７とを、一端部２８ａ，２９ａで接着した後、型押し工程では、接着された一端部を基点として、雄型３２で、超高分子量ポリエチレン層１７が発泡樹脂シート１８に押圧されて、円弧が形成されるように馴らしながら接着する。 - 特許庁 - In this manufacturing method, after an electrode roll 4 is formed by rolling a positive electrode body 1 and a negative electrode body 2 through separators 3a, 3b (first process), a collector 7 for a negative electrode is welded to one end of the electrode roll (second process) and the electrode roll with the collector jointed is mounted in an outer cylindrical can 8 from the collector side (third process).
正極電極体１と負極電極体２とをセパレータ３ａ,３ｂを介して巻回して電極ロール４を形成した後（第１工程）、この電極ロールの一方の端部に負極用集電体７を溶接し（第２工程）、この集電体を接合した電極ロールを該集電体側から筒状のアウター缶８に装填する（第３工程）。 - 特許庁 - There is provided the method for recovering the microorganisms from a culture product obtained by culturing the microorganisms by a solid culture method, comprising a process for mixing the culture product with a non-aqueous liquid such as a hydrocarbon oil, an aliphatic acid ester oil or a silicone oil, and a process for removing culture product residues from the mixture obtained in the above process to obtain the microorganism suspension, and the like.
微生物を固体培養法により培養して得られる培養物から微生物を回収する方法であって、前記培養物と炭化水素油、脂肪酸エステル油、シリコーン油等の非水系液体とを混合する工程、および、前記工程で得られた混合液から培養物残渣を除去し微生物懸濁液を得る工程、を含む方法等。 - 特許庁 - The process for preparing a polyolefin nanocomposite, more particularly, a process capable of preparing a polyolefin nanocomposite more simply, efficiently and economically by preparing the polyolefin nanocomposite in a single step without a pretreatment process for modification of a polyolefin resin used as a matrix of the nanocomposite, is provided.
本発明はポリオレフィンナノ複合体製造方法に関するものであって、より詳しくは、ナノ複合体のマトリックスとして使用されるポリオレフィン樹脂の材質のための前処理過程なしに単一段階でポリオレフィンナノ複合体を製造することにより、より簡単で効率的であり経済的にポリオレフィンナノ複合体を製造することができる方法に関するものである。 - 特許庁 - The method comprises a process of selectively binding DNA to a solid phase by contacting a biological sample with the solid phase under conditions which selectively bind DNA; a process of separating the solid phase with the bound DNA from an unbound portion of the biological sample; and a process of isolating the DNA from the solid phase.
本発明の方法は、以下の工程を包含する：選択的にＤＮＡを結合する条件下での、生物学サンプルの固相との接触による、固相への選択的ＤＮＡ結合を行う工程；固相と結合ＤＮＡの、生物学サンプルの非結合部分からの分離を行う工程；および固相からの結合ＤＮＡの単離を行う工程。 - 特許庁 - This manufacturing method for the electrooptical device includes a forming process for forming a pattern including wires, TFTs, etc., on the TFT array substrate, a process for flattening the top surface of a laminated body on the substrate including the pattern, and a process for forming the projections by processing the flattened top surface by photolithography and etching.
このような電気光学装置の製造方法は、ＴＦＴアレイ基板上に、配線やＴＦＴ等を含むパターンを形成する形成工程と、このパターンを含む基板上の積層体の上面を平坦化する工程と、この平坦化された上面に対してフォトリソグラフィ及びエッチングを行うことにより、凸部を形成する工程とを含む。 - 特許庁 - The etching method of a conductor layer comprises a process for forming a conductor layer 22 on an insulation substrate 21, a process for forming metallic etching resist 23 on the formed conductor layer 22, and a process for etching the conductor layer 22 by a spray method for spraying etchant to the conductor layer 22 wherein the metallic etching resist 23 is formed.
1)絶縁基板上に導体層を形成する工程、2)形成された前記導体層上に金属製エッチングレジストを形成する工程、および、3)前記金属製エッチングレジストが形成された導体層にエッチング液を噴霧するスプレー法により前記導体層をエッチングする工程を含むことを特徴とする導体層のエッチング方法である。 - 特許庁 - The method for producing the fluorapatite powder includes a first process for applying an ultrasonic wave to a slurry containing the fluorapatite synthesized by using a wet process by using a calcium source, a phosphoric acid source and a fluorine source as raw materials and a second process for obtaining the fluorapatite powder mainly constituted with the fluorapatite by drying the slurry.
本発明のフッ素アパタイト粉体の製造方法は、カルシウム源と、リン酸源と、フッ素源とを原材料として、湿式法を用いて合成されるフッ素アパタイトを含有するスラリーに超音波を付与する第１の工程と、前記スラリーを乾燥することにより、主としてフッ素アパタイトで構成されるフッ素アパタイト粉体を得る第２の工程とを有する。 - 特許庁
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