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＜前へ 1 2 .... 935 936 937 938 939 940 941 942 943 .... 999 1000 次へ＞- The method includes an amorphous layer forming process forming an amorphous layer 9a on a substrate 101, a crystal nucleus forming process generating crystal nucleuses in the amorphous layer 9a under a heat treatment of 140 to 160°C , and a crystal growth process obtaining a conductive layer 9 by growing the crystal nucleuses generated under a heat treatment of 70 to 90°C.
基材１０１上に非晶質層９ａを形成する非晶質層形成工程と、１４０〜１６０℃にて加熱処理し、非晶質層９ａ中に結晶核を生成させる結晶核生成工程と、７０〜９０℃にて加熱処理し、生成した結晶核を成長させて導電層９を得る結晶成長工程とを含む。 - 特許庁 - This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.
基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁 - The cosmetic luffa sheet is manufactured by a process which repeatedly strikes solid tissue of luffa fibers with a machine hammer while it is held with a covering sheet to be compressed flatly, a process which applies an adhesive material to the compressed luffa fiber sheet and a process which makes gold foils or gold powders distributed on the coated surface of the adhesive material and dries the adhesive material.
ヘチマ繊維の立体組織を被覆シート材で挟んだ状態で機械ハンマーにより繰り返し打ち付けて偏平に圧縮する工程と、圧縮加工されたヘチマ繊維シートに接着材を塗布する工程と、接着材塗布面に金箔細片または金粉を分散させて接着材を乾燥させる工程により美容用ヘチマシートを製造する。 - 特許庁 - This method comprises a process for forming a phosphor layer, including a thermoplastic resin on the inner face of a face plate, a process for plasticizing the thermoplastic resin by pressing the phosphor layer while heating, and smoothening the surface of the phosphor layer, and a process for forming a metal film on the phosphor layer having the smoothened surface, and heating the face plate.
フェースプレート内面に熱可塑性樹脂を含有する蛍光体層を形成する工程と、前記蛍光体層を加熱しながら加圧して前記熱可塑性樹脂を可塑化し、該蛍光体層の表面を平滑化する工程と、前記表面平滑化された蛍光体層上に金属膜を形成し、フェースプレートを加熱処理する工程とを備える。 - 特許庁 - This electrochemical stainproofing method consists of a process step of impressing a positive potential to a conductive base material immersed in an electrolyte and a process step of impressing a negative potential to this conductive base material, in which the arbitrary process step is performed when the water level of the electrolyte with respect to the conductive babe material exceeds a prescribed position.
電気化学的防汚方法において、電解液中に浸漬した導電性基材に正電位を印加してなる工程と、前記導電性基材に負電位を印加してなる工程とよりなり、任意の工程を導電性基材に対する電解液の水位が所定の位置を超えたとき行うようなしたことを特徴とする電気化学的防汚方法。 - 特許庁 - This method of manufacturing has a process forming a cut and raised protrusion by forming the depth of the cut circumferentially in the commutator base material 15 of cylindrical shape having a hook part 7, a process setting the commutator base material 15 to a mold form molded, and a process working a slit 13 circumferentially in the external peripheral surface of the mold resin 33.
そして、フック部７を備えた円筒形状の整流子母材１５の内周面に周方向へ切込みを形成して切り起し突起を形成する工程と、整流子母材１５を成形型にセットしてモールドする工程と、モールド樹脂３３の外周面に周方向にスリット１３を加工する工程を有する製造方法である。 - 特許庁 - To perform a process for determining a physical block to be allocated and a process for initializing the physical block, for an accessed virtual block when the virtual block not stored in a main storage device is accessed, and to perform only a process for determining a physical block to be allocated, for a plurality of virtual blocks including the virtual block.
主記憶装置に格納されていない仮想ブロックがアクセスされた時点において、アクセスされた仮想ブロックについては割り当てる物理ブロックを決定する処理とその物理ブロックを初期化する処理とを行い、その仮想ブロックを含む複数の仮想ブロックについては割り当てる物理ブロックを決定する処理だけを行えるようにする。 - 特許庁 - A pipe-like power generation device using fluid heat can be easily produced by a process of forming a metal member and an electrothermal material member, a process of preparing a laminate by alternately laminating and joining the members, and a process of forming a first electrode and a second electrode on both ends of the laminate.
金属部材および熱電材料部材を形成する工程と、前記部材を交互に積層および接合して積層体を作製する工程と、前記積層体の両端に第１電極および第２電極を作製する工程によって流体の熱を利用したパイプ型の形状を有する発電デバイスを容易に生産できる。 - 特許庁 - This method for radiation image conversion panel comprises a process of preparing a layer coating solution having a dispersed matter dispersed in a solvent, a process of retaining the layer coating solution for 30 minutes to 100 hours after the preparation of the layer coating solution without stirring, and a process of forming a layer consisting of the layer coating solution after retaining on a support.
溶剤中に分散物が分散してなる層塗布液を調製する工程と、該層塗布液を、攪拌せずに、層塗布液調製後３０分以上１００時間以内保持する工程と、保持後の層塗布液からなる層を、支持体上に形成する工程と、を有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。 - 特許庁 - The method for manufacturing a printed wiring board which forms an insulating layer through a process to film an aromatic cyanate compound having two or more cyanito group in one molecule and a resin composition containing a radical polymer resin on the circuit substrate, a process to light-harden the resin composition, and a process to heat-harden the light-hardened resin composition.
１分子中に２以上のシアナト基を有する芳香族系シアネート化合物及びラジカル重合性樹脂を含有する樹脂組成物を回路基板に被膜する工程、該樹脂組成物を光硬化する工程及び光硬化された樹脂組成物を熱硬化する工程を経て絶縁層を形成することを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁 - A first process of forming an emitter 10 on a cathode electrode 5 with the use of a plurality of carbon system acicular matters 11 and a second process of aligning tip parts of the plurality of the carbon system acicular matters 11 in the emitter 10 formed in the first process are included in the manufacturing method of the display device of a flat screen.
平面型の表示装置の製造方法として、カソード電極５上に複数の炭素系針状物質１１を用いてエミッタ１０を形成する第１の工程と、この第１の工程で形成したエミッタ１０において複数の炭素系針状物質１１の先端部を所定の高さに揃える第２の工程とを有するものとする。 - 特許庁 - When the user reconstitutes the built-in real-time OS, he can selectively use, as a realizing method of a system call process, the system stack method 302 executing each system call process by using a system stack secured on the system or the user stack method 303 executing each system call process by using the user stack of a call task.
組み込み用リアルタイムオペレーティングシステムの再構築の際には、システムコール処理の実現方式として、各システムコール処理をシステムに確保された１つのシステムスタックを使用して実行するシステムスタック方式３０２、各システムコール処理を呼び出しタスクのユーザスタックを使用して実行するユーザスタック方式３０３の内のいずれを用いるかを選択可能とする。 - 特許庁 - This method for producing lenses by pressing optical materials between a first mold and a second mold comprises an electricity removing process for removing static electricity from the optical materials, a placing process for placing the optical materials from which static electricity is removed between the first and the second molds and a pressing process for pressing the placed optical materials between the first and the second molds.
光学素材を第１の型と第２の型との間で押圧することによりレンズを製造するレンズの製造方法において、光学素材を除電する除電工程と、除電された光学素材を第１の型と第２の型との間に載置する載置工程と、載置された光学素材を第１の型と第２の型との間で押圧する押圧工程と、を含む。 - 特許庁 - The method for manufacturing the lithium-nickel compound oxide comprises a drying process to produce a dried material by spray-drying slurry or a solution containing a nickel compound, a mixing process to produce a raw materials mixture containing carbon of 0.5 wt.% or less by mixing the produced dried material and a lithium compound and a firing process to fire the produced raw materials mixture.
ニッケル化合物を含有するスラリー又は溶液を噴霧乾燥して乾燥物を得る乾燥工程と、得られた乾燥物とリチウム化合物とを混合してカーボン含有量０．５重量％以下の原料混合物を得る混合工程と、得られた混合原料物を焼成する焼成工程と、を経てリチウムニッケル複合酸化物を製造する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of forming an amorphous silicon layer 13 on a substrate such as a plastic substrate 11, a process of patterning the amorphous silicon layer 13 and forming a prescribed pattern to be a thin film transistor, and a process of crystallizing the patterned amorphous silicon layer 13 thereafter, and the semiconductor device provided with the thin film transistor is manufactured.
プラスチック基板１１等の基板上にアモルファスシリコン層１３を形成する工程と、アモルファスシリコン層１３をパターニングして、薄膜トランジスタとなる所定のパターンを形成する工程と、その後、パターニングされたアモルファスシリコン層１３を結晶化する工程とを有して、薄膜トランジスタを有する半導体装置を製造する。 - 特許庁 - The method has a process step of forming the ozone by electrolyzing the ultrapure water dissolved with the carbon dioxide, a process step of separating the ozone and the carbon dioxide from the ultrapure water containing the ozone and the carbon dioxide formed by the electrolysis and a process step of dissolving the ozone and carbon dioxide separated from the ultrapure water into the ultrapure water substantially not containing the carbon dioxide.
炭酸ガスを溶解した超純水を電気分解してオゾンを生成する工程と、電気分解により生成したオゾンと炭酸ガスを含む超純水からオゾンと炭酸ガスを分離する工程と、超純水から分離されたオゾンと炭酸ガスを実質的に炭酸ガスを含まない超純水中に溶解させる工程とを有する。 - 特許庁 - This manufacturing method for the igniter for the inflater comprises a process for manufacturing pyrotechnic material slurry produced by containing and dispersing a fuel component and an oxidizer component in a solvent, a process for dropping the pyrotechnic material slurry on the heat generation body generating heat by an ignition current of a header member formed like a plate, and a process for drying the dropped pyrotechnic material slurry.
溶媒中に燃料成分と酸化剤成分を含んで分散させてなる火工材料スラリーを製造する工程、板状に形成されたヘッダ部材の、着火電流で発熱する発熱体の上に、火工材料スラリーを滴下する工程、及び滴下した火工材料スラリーを乾燥する工程を含むインフレータ用点火器の製造方法。 - 特許庁 - This method for visually detecting the desalinated sites of the DNA comprises (i) a process of labeling the desalinated sites of the DNA; (ii) a process of immobilizing the labeled DNA on a substrate linearly; and (iii) a process of detecting each of the desalinated sites of the immobilized and labeled DNA.
本発明は、（ｉ）ＤＮＡ上の脱塩基部位を標識化する工程；（ｉｉ）前記標識化ＤＮＡを基板上に線状に固定化する工程；および（ｉｉｉ）前記固定化された標識化ＤＮＡのそれぞれの脱塩基部位を検出する工程；を含む、ＤＮＡの脱塩基部位の可視的検出方法を提供することにより、上記課題を解決した。 - 特許庁 - The manufacturing method of the surface-treated electron-emitting material comprises a process of obtaining an electron-emitting material in which carbon nano-fiber is dispersed in matrix metal, a process of flattening the surface of the electron-emitting material, and a surface treatment process forming fine indentation on the surface of the flattened electron-emitting material.
本発明にかかる表面処理された電子放出材料の製造方法は、マトリクス金属中にカーボンナノファイバーが分散された電子放出材料を得る工程と、電子放出材料の表面を平坦化する工程と、平坦化された電子放出材料の表面に微細な凹凸を形成する表面処理工程と、を有する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus and a process cartridge which can suitably use process speeds of two patterns and stably form an image of good quality without producing any ghost image even when electrostatic charging is carried out by applying only a DC voltage to an electrostatic charging member, and the electrostatic charging member applied to the image forming apparatus and process cartridge.
帯電部材に直流電圧のみを印加して帯電を行った場合であれ、ゴースト画像を発生させることなく、２パターンのプロセススピードを好適に活用し、且つ良質な画像を安定して形成することのできる画像形成装置、プロセスカートリッジ、およびそのような画像形成装置やプロセスカートリッジに適用される帯電部材を提供する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the ceramic electronic part comprises a process for forming a conductor layer 13 containing a resin constituent on a thin transfer material 11, a process for radiating beams which decompose the resin constituent, and a process for transferring the conductor layer 13 to a ceramic substrate 12 from the thin transfer material 11.
本発明のセラミック電子部品の製造方法は、転写用薄材１１上に樹脂成分を含む導体層１３を形成する工程と、転写用薄材１１上の導体層１３に、樹脂成分を分解する光線を照射する工程と、導体層１３を転写用薄材１１からセラミック基材１２に転写する工程とを含んでいる。 - 特許庁 - Designations specifying plural processing processes, devices related with the specified processing processes, the information of operators or the like, and a designation specifying an object to be processed in the specified processing process or a designation specifying an object to be processed in the specified processing process and then transferred to the following processing process, are inputted.
複数の処理工程を特定する名称と、特定した処理工程に関与する装置、作業者その他の情報と、特定した処理工程で処理される処理対象を特定する名称又は特定した処理工程で処理されて後続の処理工程に引き渡される処理対象を特定する名称とを入力する。 - 特許庁 - To provide an electrostatic chuck of vacuum processing device, a vacuum processing device comprising it and a method for manufacturing the electrostatic chuck capable of easily stabilizing a manufacturing process and coping with making into extra large size area by diversifying the forms of protruding parts in compliance with the characteristics of the process and by simplifying the manufacturing process for the electrostatic chuck having the protruding part.
突起部の形状を工程の特性に応じて多様化することができ、突起部を有する静電チャックの製造工程を単純化し、製造工程の安定化と超大型面積化への対応が容易な真空処理装置の静電チャック、それを有する真空処理装置、及び静電チャックの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A process of carrying out a hydrophilic treatment of the macromolecular fine porous membrane 1 includes a process of laminating a spacer 2 which can include the macromolecular fine porous membrane and a hydrophilizing agent, and a process of allowing the spacer to include the hydrophilizing agent to give hydrophilic properties, by which an excess reaction solution can be removed to control excess hydrophilization of the membrane surface.
高分子微多孔膜１を親水化処理する工程において、高分子微多孔膜と親水化剤を包含し得るスペーサー２を積層する工程、および該スペーサー中に親水化剤を包含させ、親水性を付与する工程を含むことにより、過剰な反応溶液を除き、膜表面の過剰な親水化を制御できる。 - 特許庁 - A method for producing the (meth)acrylic acid ester having the cyclic skeleton includes a process for reacting an alcohol having the cyclic skeleton composed of four on more carbon atoms with (meth)acrylic acid or an reactive derivative thereof and a process for sequentially treating the reaction product obtained by the above process with an adsorbent comprising an inorganic porous material and with an adsorbent comprising activated charcoal.
炭素数４以上の環式骨格を有するアルコールと（メタ）アクリル酸またはその反応性誘導体を反応させる工程、該工程で得られる反応生成物を無機多孔質体からなる吸着剤、活性炭からなる吸着剤で順次処理する工程を含むことを特徴とする環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。 - 特許庁 - The manufacturing method of a cellulose fiber comprises an oxidation process for oxidizing natural cellulose to obtain a dispersion liquid containing oxycellulose fibers wherein a carboxyl group content of cellulose constituting a cellulose fiber is 0.1-2.0 mmol/g, an enzyme treatment process for adding and holding an enzyme in the dispersion liquid, and a process for mechanically loosening the oxidized cellulose fibers in the dispersion liquid.
天然セルロースを酸化して、セルロース繊維を構成するセルロースのカルボキシル基含有量が0.1〜2.0mmol/ｇである酸化セルロース繊維を含む分散液を得る酸化工程と、前記分散液に酵素を添加して保持する酵素処理工程と、前記分散液中の酸化されたセルロース繊維を機械的に解繊する工程を有している、セルロース繊維の製造方法。 - 特許庁 - This manufacturing method includes a process arranging a first carbon film 15a between a pair of conductive films 14 arranged on a substrate 11, a process removing a part of the first carbon film 15a, and a process arranging a second carbon film 15b on the first carbon film 15a while applying voltage on an opposite electrode opposing the substrate 11.
基板１１上に配置された一対の導電性膜１４間に、第１のカーボン膜１５ａを配置する工程と、第１のカーボン膜１５ａの一部を除去する工程と、基板１１に対向して設けられた対向電極に電圧を印加しながら、第１のカーボン膜１５ａ上に、第２のカーボン膜１５ｂを配置する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁 - This method of manufacturing the organic semiconductor film includes: an application liquid adjustment process of adjusting an application liquid containing a low-molecular organic semiconductor compound precursor and a macromolecular organic semiconductor compound; an application process of applying the application liquid to a surface of a support; and a heating process of heating the application liquid applied to the surface of the support.
低分子有機半導体化合物前駆体及び高分子有機半導体化合物を含む塗布液を調整する塗布液調整工程と、前記塗布液を支持体表面に塗布する塗布工程と、前記支持体表面に塗布された前記塗布液を加熱する加熱工程と、を有する、有機半導体膜の製造方法。 - 特許庁 - This manufacturing method of a semiconductor wafer should include a process that puts an adhesive sheet onto the surface of a semiconductor wafer where a pattern is formed, a process that performs thinning onto the back surface of the semiconductor wafer where the adhesive sheet has been applied, and a process that dices the semiconductor wafer where the adhesive sheet has been applied.
パターンが形成された半導体ウエハ表面に、粘着シートを貼付ける工程、前記粘着シートを貼付けた状態の半導体ウエハの裏面に薄型加工を施す工程、次いで前記粘着シートを貼付けた状態の半導体ウエハにダイシングを行う工程とを含むことを特徴とする半導体ウエハの製造方法。 - 特許庁 - The water treatment method includes: an iron modification process of modifying a raw water W1 containing iron particulates as an impurity in a cation-exchange resin bed tower; a deaeration process of the modified water W2; and a first division process of dividing the deaerated water W5 into a permeated water W6 and a concentrated water W7 by the reverse osmosis membrane.
鉄微粒子を夾雑成分として含む原水Ｗ１を陽イオン交換樹脂床塔で改質処理する鉄分改質工程と、改質処理された処理水Ｗ２の脱気処理工程と、脱気水Ｗ５を透過水Ｗ６と濃縮水Ｗ７とに分離する第１逆浸透膜分離工程とを含むように処理する。 - 特許庁 - To prevent a poor drainage or the like by capturing lint and dust generated in a drying process and preventing waste thread accumulated in a waste thread recovery device from falling into a circulating dehumidifying route in a washing and drying machine having the process of drying laundry by blowing warm air into a tub and performing an integrated process from washing to drying.
内槽内に温風を送風して洗濯物を乾燥させる行程を有し、洗濯から乾燥までを一貫して実施できる洗濯乾燥機において、乾燥行程で発生する糸くず、ほこりなどを捕捉し、糸くず回収装置に堆積した糸くずが循環除湿経路内に落下するのを防止し、排水不良等の発生を防止する。 - 特許庁 - This organic electroluminescent element manufacturing method includes a surface treatment process of using at least one kind of non-oxidizing gas to surface-treat an anode, and a hole-injection layer forming process of forming a p-doped hole-injection layer on the surface of the anode which is surface-treated by the surface treatment process.
本発明の有機電界発光素子の製造方法は、少なくとも、非酸化性ガスの少なくとも１種を用いて陽極の表面処理を行う表面処理工程と、前記表面処理工程により表面処理された陽極の表面にｐドープされた正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing the semiconductor device has a film forming process of forming a film containing Zr on a substrate 1 in a reaction chamber 4, and a cleaning process of removing the film sticking on the inner side of the reaction chamber 4 in the film forming process by using gas containing B and H, Br, or Cl.
反応室４内で基板１上にＺｒを含む膜を形成する成膜工程と、前記成膜工程において反応室４内に付着した前記膜をＢおよびＨ、またはＢｒ、またはＣｌを含むガスを用いて除去するクリーニング工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法により、前記課題を解決した。 - 特許庁 - The mold is manufactured by continuously executing an etching process, which performs the dry etching of a material 10 to be processed when the mold is produced using the material to be processed having an etching mask 15 formed thereto, a removing process, which removes the etching mask, and a film forming process, which forms a fluorine-based thin film 17 on the material to be processed, in the same apparatus.
この成形金型の製造方法は、エッチングマスク１５を形成した被加工材１０を用いて成形金型を製造する際に、被加工材をドライエッチングするエッチング工程と、エッチングマスクを除去する除去工程と、被加工材にフッ素系薄膜１７を成膜する成膜工程と、を同一装置内で連続的に実行するものである。 - 特許庁 - In each process, a voice signal corresponding to the identification information of speaking in the description of the process is outputted to a voice outputting device 3, and a series of picture data for executing the operation of the process are read from a picture file data base 131, and a picture signal to be generated from the series of picture data is outputted to a display device 2.
このとき、各工程においては、該工程の記述にある発話の識別情報に応じた音声信号を音声出力装置３へ出力するとともに当該工程の動作を行わせるための一連の画像データを画像ファイルデータベース１３１から読み出し当該一連の画像データから生成される画像信号を表示装置２に出力する。 - 特許庁 - A method for producing the tablet-like food includes a process of obtaining soymilk powder by drying soymilk which is extracted from soybeans as a raw material at 0-70°C, a process of granulating the soymilk powder to small granules with ≥95% of 14 mesh pass (1.18 mm opening), and a process of molding the small granules in a tablet-like form.
本発明のタブレット状食品の製造方法は、大豆を原料として０〜７０℃の温度で抽出された豆乳を乾燥させることにより豆乳粉を得る工程と、前記豆乳粉を１４メッシュパス（目開き１．１８ｍｍ）９５％以上の顆粒に造粒する工程と、前記顆粒をタブレット状に成型する工程と、を有する。 - 特許庁 - This method for spreading an approximately triangle-formed food dough comprises the process of widening a slit S formed at the base side central part of the food dough 1, the process of spreading the base part side of both side directions of the spread slit S in both side outer directions, and the process of spreading the top part side portion of the food dough 1 to the top part side.
大略三角形状の食品生地の延展方法であって、前記食品生地１の底辺中央部に形成されたスリットＳを広げる工程と、広げられたスリットＳの両側方の底辺部側を両側外方向へ延展する工程と、前記食品生地１の頂部側部分を頂部側へ延展する工程と、を備えている。 - 特許庁 - In this coating method adapted in order to apply the coating agent/adhesive to a part to be coated in the longitudinal direction thereof, the coating agent/adhesive is injected in a syringe means for supplying the coating agent/adhesive agent to the part to be coated in the forward process of the coating process of the syringe means and coating/adhesion is performed in the return process of the syringe means.
長手方向に塗布剤／接着剤を被塗布部分に塗布する方法であって、前記被塗布部分に前記塗布剤／接着剤を供給するシリンジ手段に、該シリンジ手段の塗布工程の往路工程で前記塗布剤／接着剤を注入し、前記シリンジ手段の復路工程で塗布／接着を行なうようにした塗布方法。 - 特許庁 - Powder which is prepared by subjecting tungsten carbide powder of 5 to <20 μm average particle size and tungsten carbide powder of 50 to <200 μm average particle size to particle size blending, is used as a reinforcing material and is made to be a composite with copper by a powder metallurgy process, a squeeze casting process and a non-pressure infiltration process to produce the tungsten carbide/copper composite material.
強化材として、平均粒径が５μｍ以上２０μｍ未満の炭化タングステン粉末と、平均粒径が５０μｍ以上２００μｍ未満の炭化タングステン粉末とを粒度配合したものを使用し、粉末冶金法や高圧鋳造法、非加圧浸透法などを用いて銅と複合化させ、銅−炭化タングステン複合材料を作製する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the compound magnetic substance is provided with a process for forming an oxide film on a surface of metal magnetic powder by heat-treating metal magnetic powder comprising Fe, Si and Al in an oxidization atmosphere; a process for adding binder into oxide film forming powder, performing pressure-forming, and making a compact; and a process for heat-treating the compact in the oxidization atmosphere.
Ｆｅ、ＳｉおよびＡｌを含む金属磁性粉末を、酸化雰囲気中にて熱処理することにより金属磁性粉末表面に酸化皮膜を形成する工程、前記酸化皮膜形成粉に結着剤を添加し加圧成形して成形体とする工程、前記成形体を酸化雰囲気中にて熱処理を行う工程とから構成する。 - 特許庁 - It is characterized by that it has a cutting process of cutting an inlet part and an outlet part of the suspension type superheater tube by using a pipe cutter or the like at a predetermined position from the ceiling wall, a washing process of washing an interior of the disengaged suspension type superheater tube, and an attaching process of attaching the washed suspension type superheater tube to the predetermined position by welding or the like.
天井壁からの所定の位置で吊り下げ型過熱器管の入口部と出口部とをパイプカッターなどを用いて切断する切断工程と、切離された吊り下げ型過熱器管の内部を洗浄する洗浄工程と、洗浄された吊り下げ型過熱器管を、溶接などで所定の位置に取り付ける取付工程とを有する。 - 特許庁 - Further, in an invention of a process for creating a plant, how the process or the plant created by the process can be used should be described in the detailed description of the invention, except where it could be understood by a person skilled in the art without such description when taking into account the overall descriptions of the specification (excluding claims), drawings and common general knowledge as of the filing.
また、植物の作出方法の発明においては、明細書及び図面の記載並びに出願時の技術常識に基づき当業者がその方法又はその方法により作出された植物を使用できる場合を除き、発明の詳細な説明に、どのように使用ができるかについて記載しなければならない。 - 特許庁 - Further, in an invention of a process for creating an animal, how the process or the animal created by the process can be used should be described in the detailed description of the invention, except where it could be understood by a person skilled in the art without such description when taking into account the overall descriptions of the specification (excluding claims), drawings and common general knowledge as of the filing.
また、動物の作出方法の発明においては、明細書及び図面の記載並びに出願時の技術常識に基づき当業者がその方法又はその方法により作出された動物を使用できる場合を除き、発明の詳細な説明に、どのように使用できるかについて記載しなければならない。 - 特許庁 - The switching process to the predetermined first speed of a vehicle is executed, only a neutral gear stage is set during the switching process within a vehicular speed range between the first and second speeds, and the switching process is ignored if a speed is higher than the second speed.
前記課題は、当該切替過程が車両の定められた第一の速度までは実行されること、前記第一の速度と第二の速度との間の車両の速度範囲では当該切替過程の際にニュートラルのギア段にだけ入れられること、及び、当該切替過程が、前記第二の速度より高いときには無視されることによって解決される。 - 特許庁 - The semiconductor processing process control system comprises a process control body section 100 for controlling the semiconductor processing process regardless of the semiconductor processing apparatus and an objective processing content, and a control variables calculating program 210 for determining control conditions of the semiconductor processing apparatus suitable for the semiconductor processing apparatus and the objective processing content.
半導体処理装置及び目的とする処理内容によらず半導体処理工程の制御を行うプロセス制御本体部１００と、半導体処理装置及び目的とする処理内容に適した半導体処理装置の制御条件を求める制御変数計算プログラム２１０とから、半導体処理工程制御システムを構成する。 - 特許庁 - The semiconductor etching method has a process of forming a metal fluoride layer at a temperature of not less than 150°C as at least one part of an etching mask 3 to be formed on a semiconductor layer 2; a process of patterning the metal fluoride layer; and a process of etching the semiconductor layer using the patterned metal fluoride layer 3 as a mask.
半導体層２上に形成されるエッチングマスク３の少なくとも一部として、金属フッ化物層を１５０℃以上の温度で形成する工程と、この金属フッ化物層をパターンニングする工程と、パターニングされた金属フッ化物層３をマスクとして、前記半導体層をエッチングする工程とを有する半導体層のエッチング方法。 - 特許庁 - The method of manufacturing the optical deflecting element has a process of forming the optical waveguide layer 4 on the substrate and a process of forming electrodes for exciting or detecting the elastic waves on the optical waveguide layer and a process step of directly forming the diamond-like carbon film 5 on the optical waveguide layer 4 covering the electrode.
また、本発明光偏向素子の製造方法は、基板上に光導波層４を形成する工程と、該光導波層上に、弾性波を誘起または検出するための電極を形成する工程と、該電極を覆って前記光導波層上にダイヤモンド様炭素膜５を直接形成する工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a deflash technique for removing flash from a portion to be plated before a plating process and after a sealing process by resin molding in a process of manufacturing a semiconductor package, and to provide a technique for removing side flash formed on a side of a lead frame where the deflash processing is difficult to be performed.
半導体パッケージの作製工程中、樹脂成型による封止工程の後、メッキ工程を行う前にメッキする部位に対して予めフラッシュ(flash)を除去するための半導体パッケージのデフラッシュ(deflash)技術を提供し、特に、デフラッシュ処理が困難な部位であるリードフレームの側方に形成されたサイドフラッシュ(side flash)を除去する技術を提供する。 - 特許庁 - The method for recycling the liquid crystal panel made by sticking an optical film onto one surface of a glass substrate includes: a mixing and heating process of mixing the liquid crystal panel with an oxide semiconductor and heating the resulting mixture to recover a glass substrate; and a pulverizing process of pulverizing the glass substrate obtained on the mixing and heating process.
光学フィルムがガラス基板の片面に貼り合わされてなる液晶パネルを再資源化する方法であって、液晶パネルを酸化物半導体と混合し、加熱することによりガラス基板を回収する混合加熱工程と、混合加熱工程で得られたガラス基板を粉砕する粉砕工程を含むことを特徴とする液晶パネルの再資源化方法。 - 特許庁 - The method for separating the metallic elements includes an adsorption process for allowing impregnated ion exchangers made by impregnating an extractant into a carrier to adsorb metallic elements in a liquid solution and an eluting process for eluting the metallic elements adsorbed by the impregnated ion exchangers in the adsorption process in an extractant saturation elution liquid which is prepared so that the saturation concentration of the extractant can be reached.
この金属元素の分離方法は、溶液中の金属元素を、抽出剤を担体に含浸してなる含浸イオン交換体に吸着させる吸着工程と、該吸着工程で前記含浸イオン交換体に吸着された前記金属元素を、抽出剤飽和濃度に調製した抽出剤飽和溶離液に溶離させる溶離工程とを含む。 - 特許庁
