「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 943 944 945 946 947 948 949 950 951 .... 999 1000 次へ＞- The method for manufacturing the ultrafine particles includes a process for applying a target substance on the surface of a flowing liquid by vapor deposition to obtain a liquid containing particles, and a process for substituting the liquid with a solvent to obtain the particles.
流動する液面上へターゲット物質を蒸着させて粒子を含有する液体を得る工程、および、該液体を溶媒に置換して粒子を得る工程を含むことを特徴とする超微粒子の作製方法。 - 特許庁 - This method for forming a nozzle plate comprises a process of making a surface of a nozzle plate substrate to be rough by irradiating the surface with a laser light and a process of forming an ink repellent film on the rough surface of the nozzle plate substrate.
ノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程とを有することをノズルプレートの製造方法。 - 特許庁 - To provide a method for producing cement by effectively utilizing an organic factory waste liquid produced in a process for producing synthetic resins or chemical fibers as a pulverizing aid in a cement finishing/pulverizing process without subjecting the waste liquid to reclaiming treatment or incineration treatment.
合成樹脂や化学繊維の製造工程で発生する有機質工場廃液を、埋め立て処理や焼却処理することなく、セメント仕上げ粉砕工程における粉砕助剤として有効に活用しセメントを製造すること。 - 特許庁 - If there is a vacancy in seat quotas when the reservation process is performed, the reservation is accepted without assigning any specific seat within the seat quotas to the reserving person, and instead a process of registering the desired facility and reducing one vacant seat from the seat quotas is performed.
予約処理時に座席枠に空席が存在する場合は予約を受け付けるが、この時点では座席枠内の特定の座席を割り当てずに、希望設備の登録と座席枠から空席を１席減らす処理を行なう。 - 特許庁 - To reduce a space required for a welding process and the cost of equipment investment by using a template with a simple configuration, and to provide a method for welding a small part that shortens the amount of time required for welding in the welding process.
簡易な構成のテンプレートを用いることによって、溶接工程のスペースや設備投資のコストの低減を図り、また溶接工程における溶接の所要時間を短縮する小物部品の溶接方法を提供する。 - 特許庁 - The procedure is performed with no delays incurred at critical process steps and with no additional robots and process modules other than those called for by the recipe and throughput requirements of the lots to be carried in and out.
この手順は、重要な処理段階で何等の遅延も被ることなく、搬入ロット及び搬出ロットのレシピ及び処理量要件によって求められるもの以外は追加のロボット及び処理モジュールを何も使用しないで実行される。 - 特許庁 - A delay task priority control part 14 selects a delay task with the highest priority in the queuing table 21, and a process priority control part 15 sets the priority of the selected delay task to the priority of the delay task process #1.
遅延タスク優先度制御部１４はキューイングテーブル２１内で優先度が最高の遅延タスクを選択し、プロセス優先度制御部１５は選択された遅延タスクの優先度を遅延タスク処理プロセス＃１の優先度に設定する。 - 特許庁 - To improve a whole coating process by adopting a sand-blasting method in place of a process comprising polishing by sand paper, under coating, middle coating, and finish coating being implemented as a method for coating a wooden product.
この発明は木製品の塗装手段として実施されているサンドペーパーによる研磨、下塗り、中塗り、上塗りの工程を改め、サンドプラスト法を採用することにより塗装工程を全面的に改革することを目的とする。 - 特許庁 - The manufacturing method includes a film-forming process for forming a film 13 of silicon dioxide on the surface 11 of a die 1 having an irregular pattern 12, and a mold releasing agent formation process for applying a silane coupling agent to the surface of the film 13 of silicon dioxide.
凹凸パターン１２を有する金型１の表面１１に二酸化ケイ素の膜１３を形成する成膜工程と、前記二酸化ケイ素の膜１３の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程とを含む。 - 特許庁 - When a data block management part 4a performs the writing process of the data on the data block DB, a table block management part 4b stores status showing a progress situation of the writing process into the table corresponding to the data.
データ用ブロック管理部４ａが、データ用ブロックＤＢに対してデータの書き込み処理を行った場合に、テーブル用ブロック管理部４ｂが、該データに対応するテーブルに書き込み処理の進行状況を示すステータスを記憶する。 - 特許庁 - In the case it is judged to be the time for executing the head maintenance process by the time administration part 302, and the message is advised to the timing setting part 301, a command for executing the head maintenance process is sent to an order transmitting part 303.
時間管理部３０２によって、ヘッドメンテナンス処理を実行すべき時刻と判定され、その旨がタイミング設定部３０１に通知されると、命令送信部３０３に対して、当該ヘッドメンテナンス処理を実行するためのコマンドを送る。 - 特許庁 - The method includes a process for forming a multi-well plate main body, and a process for injecting/compressing the transparent lens to a part so that the transparent lens is welded to the main body in order at least to cover the well part of the main body.
その方法はマルチウェルプレート本体を形成する工程と、前記本体のウェル部分を少なくとも覆うために透明レンズが本体に溶着されるように、透明レンズをその部分に射出圧縮する工程とを含む。 - 特許庁 - To easily grasp contents to deal with a problem occurred even in the case that the problem occurs in a series of specific distributed process by confirming a processing state of the specific distributed process from equipment on a network.
ネットワーク上の機器から特定分散処理の処理状況を確認することができ、一連の特定分散処理において問題が発生した場合にも、発生した問題に対処すべき内容を容易に把握することができる。 - 特許庁 - To provide a process cartridge of excellent usability while aiming at down sizing and space saving of the main body of an image forming device and the process cartridge for the horizontal inline color image forming device using the intermediate transfer belt of the replenishing system.
補給方式で、中間転写ベルトを用いた水平インラインカラー画像形成装置において、画像形成装置本体、およびプロセスカートリッジの小型化、省スペース化を図りつつ、ユーザビリティの良いプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁 - The lowering of a desulfurization efficiency is prevented by applying a desiliconizing treatment to the molten iron by adding lime source and oxygen source into the molten iron as the first process and as the second process, stopping the oxygen supply and blowing desulfurizing agent into the molten iron.
生石灰源と酸素源を溶銑に添加して溶銑の脱珪処理を行う第一工程と、酸素供給を止め、溶銑中に脱硫剤を吹込んで処理する第二工程を行うことにより脱硫効率低下を防止する。 - 特許庁 - To provide a process for the preparation of a rigid polyurethane/urea foam(RPUF) which process uses a specific polyetherpolyol to make possible a big decrease in an amount of a CFC-based foaming agent used when the rigid polyurethane/urea foam is prepared.
本発明の目的は、硬質ポリウレタン・ウレアフォーム（ＲＰＵＦ）の製造に際してフロン系発泡剤の使用量を大幅に削減できる特定のポリエーテルポリオールを使用したＲＰＵＦの製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - A plastic film 4 adhered to a hard glass supporting member 2 is subjected to the processes of forming a plastic film substrate including processes P1 to P7 of forming electrodes and a process P8 of baking an alignment film as a heat-treatment process.
硬質のガラス支持部材２に粘着された状態のプラスチックフィルム４に対して、電極形成工程Ｐ１〜Ｐ７及び加熱処理工程である配向膜焼成工程Ｐ８を含むプラスチックフィルム基板形成工程を実行する。 - 特許庁 - In the pre-treatment for applying the axial thickening process, when the axial thickening process is applied to the middle carbon steel as a work, the wwork is tempered so as to obtain a fine and uniform structure of troostite or sorbite.
中炭素鋼を被加工材として軸肥大加工を行う際に、軸肥大加工を行う前処理として、被加工材がトルースタイトやソルバイトの微細な均質組織となるような調質処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁 - A setting part 14 acquires the yield predictor of the production category to which a production process belongs on the basis of basic information on the production process for executing the production scheduling, and sets the yield predictor in a production scheduling device together with the basic information.
設定部１４は、生産スケジューリングを行なう生産プロセスに関する基本情報に基づいて、その生産プロセスが属する生産カテゴリの歩留予測値を取得し、前記基本情報とともに生産スケジューリング装置に設定する。 - 特許庁 - All the required heat treatment processes performed in a period after the process of forming the wiring layer and before the process of covering the wiring layer with the protective insulating film are performed at a plastic deformation temperature of the wiring layer or a temperature lower than this.
そして、前記配線層を形成する工程の後であって、前記配線層を前記保護絶縁膜で覆う工程の前に行われる必要な全ての熱処理工程を、前記配線層の塑性変形温度以下で行う。 - 特許庁 - The manufacturing method of the PDP forms a panel member by a method including a process of transferring the inorganic powder-containing resin layer on a substrate, and a process of calcinating the transferred resin layer.
本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に、前記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、転写された樹脂層を焼成する工程とを含む方法によりパネル部材を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - The electrode substrate manufacturing method comprises a fist process in which the recess 41 is press formed by pressing a die onto a glass substrate 4a, and a second process in which an electrode 42 is provided on the bottom surface of the recess 41.
本発明の電極基板の製造方法は、ガラス基板４ａに押し型を押し当ててプレス成形することにより、凹部４１を形成する第１の工程と、凹部４１の底面に電極４２を設ける第２の工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a process for laying wiring at the periphery of a product circuit without changing the conventional substrate fabrication process to find substrate and resist cracks invisible in appearance check and to electrically detect substrate damage due to the cracks.
外観確認で検出できない基板、およびレジストクラックを検出するための配線を製品回路の外周に、従来の基板作成プロセスを変えることなく配置し、基板へのダメージを電気的に検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide a production method for efficiently producing a synthetic resin skin material having a sufficient thickness by one-time coating process and having excellent matte appearance, wherein bumping in a drying process is suppressed.
乾燥工程における突沸が抑制され、１回の塗工工程により、充分な厚みを有し、つや消しの良好な外観を有する合成樹脂表皮材を効率よく製造しうる合成樹脂表皮材の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The process also involves a step for separating the product formed in the enzymatic process from the unreacted starting material, that is, a step for separating the alcohol formed in the enzymatic treatment and the starting compound of the unreacted ester.
この酵素的工程中に形成された生成物を、未反応出発物質から分離する工程、すなわち、この酵素的処理中に形成されたアルコールと未反応エステル出発化合物とを分離する工程も包含する。 - 特許庁 - This printer 1 has a basic boot program executing a basic boot process in time of power supply, and two W boot programs executing a start process after execution of the basic boot program inside a flash ROM 11 as a boot program for starting.
プリンタ１は、フラッシュＲＯＭ１１内に起動用のブートプログラムとして、電源投入時の基本ブート処理を実行する基本ブートプログラムと、基本ブートプログラムの実行後に起動処理を実行する２つのＷブートプログラムと、を備えている。 - 特許庁 - To provide a developing device that prevents flocculation by providing an agitating member at the downstream of screws, thereby relaxing powder pressure (toner pressure), and to provide a process cartridge including the developing device, and an image forming apparatus with the process cartridge mounted thereon.
スクリュ下流に攪拌部材を設けて粉圧（トナー圧力）を緩和し、凝集を防止する現像装置、この現像装置を含むプロセスカートリッジ、及びこのプロセスカートリッジを搭載している画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an abrasive recovering device to efficiently recover abrasive particles for re-utilization from polishing process drain containing abrasive discharged from a CMP process used in a semiconductor manufacturing factory.
半導体製造工場などで使用されるＣＭＰ工程から排出される研磨材を含有する研磨工程排水から、研磨材粒子を効率的に回収して再利用するための研磨材の回収装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an engine control device effectively executing a forcible regeneration process by appropriately raising the idling speed of an engine when the forcible regeneration process of the particulate filter is executed in a vehicle equipped with an automatic transmission.
自動変速機を搭載した車両においてパティキュレートフィルタの強制再生処理を行う際、エンジンのアイドル回転数を適切に上昇させて強制再生処理を効率よく実行可能としたエンジン制御装置を提供する。 - 特許庁 - The method for removing nitrate nitrogen from soil seeping water has a process for suppressing the supply of oxygen to soil seeping water and a process bringing soil seeping water suppressed in the supply of oxygen into contact with an electron donor to perform denitrification.
前記土壌浸透水への酸素の供給を抑制する工程と、前記酸素供給が抑制された土壌浸透水を電子供与体に接触させて脱窒を行なう工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁 - A prescribed process variable value and a material value which are specified from specified time till past time are extracted from a time series database, quantized, and the process variable value and the material value which are quantized are stored in a table for retrieval.
指定された時刻から過去時刻までの、指定した所定のプロセス変数値と材質値を時系列データベースから抽出して、それを量子化し、検索用テーブルに量子化したプロセス変数値と材質値を格納する。 - 特許庁 - A method for producing the hydrophobic activated carbon includes a process for sticking polyvinylalcohol onto activated carbon and a process for carbonizing the polyvinylalcohol sticking to the activated carbon by heating the activated carbon with the polyvinylalcohol stuck thereto in an inert gas atmosphere.
活性炭にポリビニルアルコールを付着させる工程、およびポリビニルアルコールを付着させた活性炭を不活性ガス雰囲気下で加熱して、活性炭に付着したポリビニルアルコールを炭化する工程を含む疎水性活性炭の製造方法。 - 特許庁 - To provide a ring-containing (meth)acrylic polymer that is suppressed in the occurrence of foams in a molded article in a heating process after a cyclization process and has a low discoloration degree and to provide a method for producing the same.
環化工程後の加熱工程において、成形品中に気泡が発生するのを抑制するとともに、着色の度合が小さい環含有（メタ）アクリル系重合体およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a developing device of the premix developing system, along with a process cartridge and image forming apparatus, not causing dispersion in quantity of a developer discharged from a discharge opening to the outside of the developing device, even when the process linear velocity varies.
プロセス線速が可変された場合であっても、排出口から現像装置外に排出される現像剤量にバラツキが生じることのない、プレミックス現像方式の現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The method of treating garbage includes (a): the process of grinding garbage under a hydrolysis condition to produce a hydrolysate thereof, and (c): the process of subjecting the resulting hydrolysate to an aerobic biological treatment as an object to be treated to produce a biologically treated liquid.
（ａ）：加水分解条件下で生ゴミを磨り潰して加水分解物を得る工程、及び（ｃ）：得られた加水分解物を処理対象物として好気的に生物処理して生物処理液を得る工程、を含む、生ゴミの処理方法。 - 特許庁 - The method of forming the diffusion-preventive mask includes a process of forming a mask layer 2 to serve as the diffusion-preventive mask by coating a substrate 1 with mask ink containing a silicon compound by using an ink jet method and a process of baking the substrate 1 including the mask layer 2.
インクジェット法を用いて、基板１上にシリコン化合物を含むマスクインクを塗布することにより、拡散防止マスクとなるマスク層２を形成する工程と、マスク層２を含む基板１を焼成する工程とを備えている。 - 特許庁 - To render harmful exhaust gas harmless by a two-step treatment of a process of treating the harmful exhaust gas etc. at a high temperature and a washing process, the harmful exhaust gas being generated through burning in an apparatus for burning and treating an optional kind of waste.
任意の種類の廃棄物等を燃焼させて処理する装置において、燃焼により発生する有害ガス等を高温で処理する工程と、水洗工程との２段階で処理して排ガスを無害化して排気する。 - 特許庁 - Furthermore this method includes a process (S107) of forming a groove part for conduction in the photoelectric conversion layer and the second electrode layer in the output extraction area and a process (S108) of embedding a conductive material in the groove part for conduction.
さらに、出力取出し領域において、光電変換層および第２電極層に導通用溝部を形成する工程(Ｓ１０７)と、導通用溝部内に導電性材料を埋設する工程(Ｓ１０８)とを備えている。 - 特許庁 - To provide a management device and program, wherein even if an image forming apparatus not compatible with process limitations based on permission information is used in excess of the permission information, enabling the process limitations based on the excess.
許可情報に基づいた処理制限に対応しない画像形成装置を該許可情報を超過して利用した場合であっても該超過分に応じた処理制限を可能にする管理装置および管理プログラムを提供する。 - 特許庁 - To integrate, as components, vertical wiring and rewiring subjected to structure formation as an additional process of a double-sided electrode package DFP and a wafer level chip size package WLCSP, and to further simplify a manufacturing process and to reduce its cost.
両面電極パッケージDFPやウエハレベルチップサイズパッケージWLCSPの追加工程として構造形成される垂直配線や再配線を部品として集約させ、かつ、その際に、製造工程をより簡素化してコスト低減を実現する。 - 特許庁 - To simplify an operation for executing a process by describing the process to be executed in instruction document information in a configuration in which a plurality of processing means for performing different processes on OSs different from each other are provided.
互いに異なるＯＳ上で動作し異なる処理を行う複数の処理手段が設けられた構成において、実行対象の処理を指示書情報に記述して処理を実行させる際の操作の簡略化を実現する。 - 特許庁 - The oxide semiconductor layer is put in a chamber in which the pressure is reduced, then a heat treatment process and a process of introducing a plasma (containing at least an oxygen plasma) are carried out in a nitrogen atmosphere, and a film forming gas is introduced to form the oxide insulating film.
酸化物半導体層を減圧されたチャンバー内に導入後、窒素雰囲気下で加熱処理工程、プラズマ（少なくとも酸素プラズマを含む）の導入工程を行い、成膜ガスを導入して酸化物絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - Prior to the plating process, the method includes a plating resist film forming process of forming a plating resist film 10 at a part (electrode non-scheduled part 4) excluding an electrode scheduled part 3 where it is scheduled to form the electrode 21 in the inner surface 1n of the base body 1.
メッキ工程に先立って、基体１の内表面１ｎのうち電極２１を形成する予定の電極予定部３を除いた部位（非電極予定部４）にメッキレジスト膜１０を形成するメッキレジスト膜形成工程を備える。 - 特許庁 - Further, in an exhaust process, a hermetically closed space housing the lid body 31 and the opening parts thereof is formed by sealing the outer peripheries of a part of the shoulder parts in a state that the opening parts are directed downward after the sealing process before exhausted.
また、排気工程は、封入工程の後、開口部を下に向けた状態で肩部の一部の外周をシールすることにより、蓋体３１及びその開口部が収容される密閉空間が形成された後、排気する。 - 特許庁 - To provide a device of determining optimal process and a method of determining optimal process capable of outstandingly shortening an operation processing time without performing operation regarding a total deduction angle of a rotation shaft in kinds of all working processes.
全ての加工工程の種類において回転軸の全割出角度についての演算を行うことなく、演算処理時間を大幅に短縮することができる最適工程決定装置および最適工程決定方法を提供する。 - 特許庁 - Further, in an exhaust process, a hermetically closed space housing the lid body 31 and the opening parts thereof is formed by sealing the outer peripheries of a part of the shoulder parts in a state that the opening parts are directed downward after the sealing process before exhausted.
また、排気工程は、封入工程の後、開口部を上に向けた状態で肩部の一部の外周をシールすることにより、蓋体３１及びその開口部が収容される密閉空間が形成された後、排気する。 - 特許庁 - This method includes a machining process for machining a semi-finished lens to form a spectacle lens body, and a polishing process for polishing a lens surface of the spectacle lens body, while rotating the spectacle lens body with a geometric center of the lens surface as a rotation center.
セミフィニッシュレンズを加工して眼鏡レンズ本体を形成する加工工程と、眼鏡レンズ本体のレンズ面の幾何中心を回転中心として眼鏡レンズ本体を回転させつつ、レンズ面を研磨する研磨工程とを含む。 - 特許庁 - An image processing apparatus includes a storage unit for storing a setting history indicating setting contents for processing executed in the image processing apparatus, and a unit for acquiring a process definition file and executing processing in accordance with the acquired process definition file.
画像処理装置において実行された処理に関する設定内容を示した設定履歴を保持する手段を備え、また、プロセス定義ファイルを取得し、取得したプロセス定義ファイルに従って処理を実行する手段を備える。 - 特許庁 - The method includes a process of determining an optimal position of the respective veneer sheets 1 and 2 and a position of the virtual alignment end 10 and 10' and a process of laminating the veneer sheet positioned so as to coincide with the virtual alignment end, as the veneer assembly.
本方法は、各ベニヤシート１、２の最適位置及び仮想アラインメント端１０、１０’の位置を決定する工程と、仮想アラインメント端に一致するように位置決められたベニヤシートをベニヤ組立品として積層する工程とを含む。 - 特許庁 - Moreover, the method preferably includes a depositing process in which the thioarsenate is deposited by cooling the alkaline solution containing the thioarsenate, and also preferably includes a solid-liquid separation process in which the alkaline solution wherein the thioarsenate has been deposited is subjected to solid-liquid separation.
該チオヒ酸塩を含むアルカリ性溶液を冷却してチオヒ酸塩を析出させる析出工程を含む態様、該チオヒ酸塩が析出したアルカリ性溶液を固液分離する固液分離工程を含む態様、などが好ましい。 - 特許庁
- 特許庁
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